[發明專利]光阻涂布裝置及其制備圖案化光阻層的方法

有效

• 申請號: 201910040243.0
• 申請日: 2019-01-16
• 公開（公告）號: CN109581815B
• 公開（公告）日: 2020-10-16
• 發明（設計）人: 羅文瑞
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電技術有限公司
• 主分類號: G03F7/16
• 分類號: G03F7/16;G03F7/20;G02F1/13
• 代理公司: 深圳翼盛智成知識產權事務所(普通合伙) 44300
• 代理人: 黃威

本申請提供一種光阻涂布裝置及其制備圖案化光阻層的方法，其包括光源、光罩、感光機構、處理機構和涂布機構；光罩設置在光源的出光側，用于接受光源的光照以形成光圖案，光圖案投射至感光機構；感光機構設置在所述光罩的出光側，用于將光圖案的光信號轉換為電信號，并將電信號發送至處理機構；處理機構用于將電信號轉換為控制信號，并將控制信號發送至涂布機構；涂布機構用于根據所述控制信號，進行光阻材料的涂布，以形成圖案化的光阻層，光阻層的圖案與所述光圖案一致。本申請將現有技術中的涂布光阻和曝光制程進行了結合，并取消了顯影的步驟，進而精簡了工藝步驟，提高了效率。

技術領域

本申請涉及一種顯示制程技術，特別涉及一種光阻涂布裝置及其制備圖案化光阻層的方法。

背景技術

在傳統的液晶面板制程工藝中，需要涂布機臺“涂布光阻”、曝光機臺“曝光”和顯影液“顯影”三個步驟來定義圖形。

其中定義圖形的制程相對而言較長，而且在顯影的步驟中，會出現顯影液殘留的問題，導致圖形化定義不佳。

發明內容

本申請實施例提供一種光阻涂布裝置及其制備圖案化光阻層的方法，以解決現有的光阻圖形化制程較長，制備效率較低的技術問題。

本申請實施例提供一種光阻涂布裝置，其包括：

光源；

光罩，設置在所述光源的出光側，所述光罩上設置有鏤空圖案，用于接受所述光源的光線以使光線穿過所述鏤空圖案形成光圖案，所述光圖案投射至感光機構；

所述感光機構，設置在所述光罩的出光側，用于將所述光圖案的光信號轉換為電信號或數字信號，并將所述電信號或數字信號發送至處理機構；

所述處理機構，電連接于所述感光機構，用于將所述電信號或數字信號轉換為控制信號，并將所述控制信號發送至涂布機構；以及

所述涂布機構，電連接于所述處理機構，用于根據所述控制信號，進行光阻材料的涂布，以形成圖案化的光阻層，所述光阻層的圖案與所述光圖案一致。

在本申請的光阻涂布裝置中，所述感光機構包括用于將光信號轉換為電信號或數字信號的感光元件，所述感光元件呈陣列式排布且設置于所述光罩的出光側。

在本申請的光阻涂布裝置中，所述感光元件為CCD或CMOS。

在本申請的光阻涂布裝置中，所述涂布機構包括機構本體和多個噴嘴，所述噴嘴呈矩陣式排布且設置在所述機構本體的一側；

所述控制信號用于控制相應所述噴嘴的打開和閉合。

在本申請的光阻涂布裝置中，所述涂布機構包括機構本體和噴嘴，所述噴嘴可移動的設置在所述機構本體的一側；

所述控制信號用于控制所述噴嘴進行移動。

在本申請的光阻涂布裝置中，所述感光元件和所述噴嘴一一對應，所述感光元件設置在所述機構本體的另一側。

本申請還涉及一種光阻涂布裝置制備圖案化光阻層的方法，所述光阻涂布裝置包括光源、設置在所述光源出光側的光罩、設置在所述光罩出光側的感光機構、電連接于所述感光結構的處理機構和電連接于所述處理機構的涂布機構，所述方法包括：

開啟光源，所述光源將光線投射至所述光罩，光線透過所述光罩的鏤空圖案形成光圖案，并將所述光圖案投射至所述感光機構；

所述感光機構將所述光圖案的光信號轉換為電信號或數字信號，并將所述電信號和所述數字信號發送至所述處理機構；

所述處理機構將所述電信號或數字信號轉換為控制信號，并將所述控制信號發送至涂布機構；