[發(fā)明專利]光阻涂布裝置及其制備圖案化光阻層的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201910040243.0
• 申請日: 2019-01-16
• 公開（公告）號: CN109581815B
• 公開（公告）日: 2020-10-16
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 羅文瑞
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳市華星光電技術(shù)有限公司
• 主分類號: G03F7/16
• 分類號: G03F7/16;G03F7/20;G02F1/13
• 代理公司: 深圳翼盛智成知識產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) 44300
• 代理人: 黃威

1.一種光阻涂布裝置，其特征在于，包括：

光源；

光罩，設(shè)置在所述光源的出光側(cè)，所述光罩上設(shè)置有鏤空圖案，用于接受所述光源的光線以使光線穿過所述鏤空圖案形成光圖案，所述光圖案投射至感光機構(gòu)；

所述感光機構(gòu)，設(shè)置在所述光罩的出光側(cè)，用于將所述光圖案的光信號轉(zhuǎn)換為電信號或數(shù)字信號，并將所述電信號或數(shù)字信號發(fā)送至處理機構(gòu)，所述感光機構(gòu)包括用于將光信號轉(zhuǎn)換為電信號或數(shù)字信號的感光元件，所述感光元件呈陣列式排布且設(shè)置于所述光罩的出光側(cè)；

所述處理機構(gòu)，電連接于所述感光機構(gòu)，用于將所述電信號或數(shù)字信號轉(zhuǎn)換為控制信號，并將所述控制信號發(fā)送至涂布機構(gòu)；以及

所述涂布機構(gòu)，電連接于所述處理機構(gòu)，用于根據(jù)所述控制信號，進(jìn)行光阻材料的涂布，以形成圖案化的光阻層，所述光阻層的圖案與所述鏤空圖案一致。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光阻涂布裝置，其特征在于，所述感光元件為CCD或CMOS。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光阻涂布裝置，其特征在于，所述涂布機構(gòu)包括機構(gòu)本體和多個噴嘴，所述噴嘴呈矩陣式排布且設(shè)置在所述機構(gòu)本體的一側(cè)；

所述控制信號用于控制相應(yīng)所述噴嘴的打開和閉合。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光阻涂布裝置，其特征在于，所述涂布機構(gòu)包括機構(gòu)本體和噴嘴，所述噴嘴可移動的設(shè)置在所述機構(gòu)本體的一側(cè)；

所述控制信號用于控制所述噴嘴進(jìn)行移動。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光阻涂布裝置，其特征在于，所述感光元件和所述噴嘴一一對應(yīng)，所述感光元件設(shè)置在所述機構(gòu)本體的另一側(cè)。

6.一種光阻涂布裝置制備圖案化光阻層的方法，其特征在于，所述光阻涂布裝置包括光源、設(shè)置在所述光源出光側(cè)的光罩、設(shè)置在所述光罩出光側(cè)的感光機構(gòu)、電連接于所述感光結(jié)構(gòu)的處理機構(gòu)和電連接于所述處理機構(gòu)的涂布機構(gòu)，其中，所述感光機構(gòu)包括陣列式排布的感光元件，所述方法包括：

開啟光源，所述光源將光線投射至所述光罩，光線透過所述光罩的鏤空圖案形成光圖案并將所述光圖案投射至所述感光機構(gòu)；

所述感光機構(gòu)將所述光圖案的光信號轉(zhuǎn)換為電信號或數(shù)字信號，并將所述電信號和所述數(shù)字信號發(fā)送至所述處理機構(gòu)；

所述處理機構(gòu)將所述電信號或數(shù)字信號轉(zhuǎn)換為控制信號，并將所述控制信號發(fā)送至涂布機構(gòu)；

所述涂布機構(gòu)根據(jù)所述控制信號，進(jìn)行光阻材料的涂布，以形成圖案化的光阻層，其中所述光阻層的圖案與所述鏤空圖案一致；

其中，所述感光機構(gòu)將所述光圖案的光信號轉(zhuǎn)換為電信號或數(shù)字信號，并將所述電信號和所述數(shù)字信號發(fā)送至所述處理機構(gòu)的步驟包括：

被所述光圖案覆蓋的所述感光元件將所述光圖案的光信號轉(zhuǎn)換為電信號或數(shù)字信號，并將所述電信號和所述數(shù)字信號發(fā)送至所述處理機構(gòu)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6的光阻涂布裝置制備圖案化光阻層的方法，其特征在于，所述處理機構(gòu)將所述電信號或數(shù)字信號轉(zhuǎn)換為控制信號，并將所述控制信號發(fā)送至所述涂布機構(gòu)，包括：

所述處理機構(gòu)將每一個所述感光元件發(fā)出的電信號或數(shù)字信號均轉(zhuǎn)換為打開信號，并將所述打開信號發(fā)送給所述涂布機構(gòu)。

8.根據(jù)權(quán)利要求7的光阻涂布裝置制備圖案化光阻層的方法，其特征在于，所述涂布機構(gòu)包括呈矩陣式排布的噴嘴，所述感光元件和所述噴嘴一一對應(yīng)；

所述涂布機構(gòu)根據(jù)所述控制信號，進(jìn)行光阻材料的涂布，以形成圖案化的光阻層，包括：

所述涂布機構(gòu)根據(jù)每一所述打開信號打開相應(yīng)的所述噴嘴，進(jìn)行光阻材料的涂布，以形成圖案化的光阻層。

9.根據(jù)權(quán)利要求6的光阻涂布裝置制備圖案化光阻層的方法，其特征在于，所述光阻層的厚度通過所述感光元件單位時間內(nèi)轉(zhuǎn)化的光量進(jìn)行調(diào)節(jié)。