[發(fā)明專利]一種半導(dǎo)體晶圓生產(chǎn)系統(tǒng)及其方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910025472.5
• 申請(qǐng)日: 2019-01-11
• 公開（公告）號(hào): CN109742043A
• 公開（公告）日: 2019-05-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 田麗玖
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 田麗玖
• 主分類號(hào): H01L21/67
• 分類號(hào): H01L21/67
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

本發(fā)明涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種半導(dǎo)體晶圓生產(chǎn)系統(tǒng)及其方法。一種半導(dǎo)體晶圓生產(chǎn)系統(tǒng)，該生產(chǎn)系統(tǒng)包括清洗設(shè)備，該清洗設(shè)備包括機(jī)箱、清洗罩、旋轉(zhuǎn)裝置、清洗裝置和除塵裝置，所述的機(jī)箱內(nèi)設(shè)置有內(nèi)置腔體，內(nèi)置腔體底部設(shè)置有出水口；所述的清洗罩設(shè)置在內(nèi)置腔體的底板上，清洗罩頂部設(shè)置有開口。旋轉(zhuǎn)裝置用于使半導(dǎo)體晶圓做離心旋轉(zhuǎn)，清洗裝置用于清洗半導(dǎo)體晶圓，除塵裝置用于清除半導(dǎo)體晶圓上的雜物灰塵。本發(fā)明的有益效果是：通過(guò)先清洗后除塵對(duì)半導(dǎo)體晶圓進(jìn)行充分清洗；通過(guò)設(shè)置雙層平臺(tái)，節(jié)省空間，并能夠提高清洗產(chǎn)品的數(shù)量；通過(guò)大小平臺(tái)，能夠?qū)Σ煌吞?hào)的產(chǎn)品進(jìn)行同時(shí)清洗，提高清洗效率。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種半導(dǎo)體晶圓生產(chǎn)系統(tǒng)及其方法。

背景技術(shù)

隨著半導(dǎo)體晶圓制程工藝技術(shù)的發(fā)展，對(duì)各個(gè)例如拋光等制程前的晶圓表面清潔度要求越來(lái)越高，各種半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備隨之產(chǎn)生。目前大多數(shù)半導(dǎo)體晶圓的清洗設(shè)備的夾具不夠穩(wěn)固，容易造成半導(dǎo)體晶圓在清洗中造成劇烈晃動(dòng)從而造成的半導(dǎo)體晶圓的損壞，并且有些雜物在經(jīng)過(guò)清洗后可能還是會(huì)吸附在半導(dǎo)體晶圓的角落或縫隙處，無(wú)法達(dá)到充分清洗的效果，這樣半導(dǎo)體晶圓的產(chǎn)品質(zhì)量會(huì)受到一定的影響。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的是：針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的不足，提供一種半導(dǎo)體晶圓生產(chǎn)系統(tǒng)，該系統(tǒng)采用的清洗設(shè)備通過(guò)先清洗在除塵步驟，能夠?qū)Π雽?dǎo)體晶圓充分清洗并且通過(guò)上下層能夠提高清洗的產(chǎn)品數(shù)量和種類，提高了清理效率。

為實(shí)現(xiàn)本發(fā)明之目的，采用以下技術(shù)方案予以實(shí)現(xiàn)：

一種半導(dǎo)體晶圓生產(chǎn)系統(tǒng)，該生產(chǎn)系統(tǒng)包括清洗設(shè)備，該清洗設(shè)備包括機(jī)箱、清洗罩、旋轉(zhuǎn)裝置、清洗裝置和除塵裝置，所述的機(jī)箱內(nèi)設(shè)置有內(nèi)置腔體，內(nèi)置腔體底部設(shè)置有出水口；所述的清洗罩設(shè)置在內(nèi)置腔體的底板上，清洗罩頂部設(shè)置有開口；所述的旋轉(zhuǎn)裝置設(shè)置在清洗罩內(nèi)，旋轉(zhuǎn)裝置包括旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)模塊和轉(zhuǎn)盤，旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)模塊的下部固定設(shè)置在機(jī)箱內(nèi)，旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)模塊的上部與轉(zhuǎn)盤的底部中心連接，轉(zhuǎn)盤的頂部設(shè)置有小固定平臺(tái)和大固定平臺(tái)，且大固定平臺(tái)高于小固定平臺(tái)；所述的清洗裝置設(shè)置在清洗罩外的一側(cè)，清洗裝置包括第一清洗升降模塊、第一清洗旋轉(zhuǎn)模塊和用于清洗晶圓的清洗模塊，所述的第一清洗升降模塊與第一清洗旋轉(zhuǎn)模塊的下部連接，且通過(guò)第一清洗升降模塊能帶動(dòng)第一清洗旋轉(zhuǎn)模塊升降；所述的第一清洗旋轉(zhuǎn)模塊的上部通過(guò)連接管連接清洗模塊，且第一清洗旋轉(zhuǎn)模塊通過(guò)連接管帶動(dòng)清洗模塊來(lái)回?cái)[動(dòng)；所述的除塵裝置設(shè)置在清洗罩外的另一側(cè)，除塵裝置包括第二清洗升降模塊、第二清洗旋轉(zhuǎn)模塊和用于清刷晶圓的除塵模塊，第二清洗升降模塊與第二清洗旋轉(zhuǎn)模塊的下部連接，且通過(guò)第二清洗升降模塊能帶動(dòng)第二清洗旋轉(zhuǎn)模塊升降；第二清洗旋轉(zhuǎn)模塊的上部通過(guò)連接臂連接清刷模塊，且第二旋轉(zhuǎn)模塊通過(guò)連接臂能帶清刷模塊來(lái)回?cái)[動(dòng)。

作為優(yōu)選，所述的小固定平臺(tái)為4個(gè)小夾具，每個(gè)小夾具均包括小固定柱、第一夾具頭和小掩膜版，小固定柱的底部固定設(shè)置在轉(zhuǎn)盤頂面上，第一夾具頭與小固定柱的頂部固定連接，第一夾具頭上通過(guò)銷釘連接有第一壓桿，所述的4個(gè)小夾具呈小正方形狀設(shè)置；所述的小掩膜版固定在4個(gè)小夾具上；所述的大固定平臺(tái)為4個(gè)大夾具，每個(gè)大夾具均包括大固定柱、第二夾具頭和大掩膜版，大固定柱的底部固定設(shè)置在轉(zhuǎn)盤的頂面上，第二夾具頭與大固定柱的頂部固定連接，第二夾具頭上通過(guò)銷釘連接有第二壓桿，所述的4個(gè)大夾具呈大正方形狀設(shè)置；所述的大掩膜版固定在4個(gè)小夾具上。

作為優(yōu)選，所述的第一清洗升降模塊和第二清洗升降模塊均包括支撐架、第一電機(jī)、第一聯(lián)軸器、升降轉(zhuǎn)軸和連接塊，所述的支撐架固定設(shè)置在機(jī)箱上，所述的第一電機(jī)固定設(shè)置在支撐架的下部，第一電機(jī)通過(guò)第一聯(lián)軸器與升降轉(zhuǎn)軸連接；所述的連接塊設(shè)置在升降轉(zhuǎn)軸上，且連接塊與升降轉(zhuǎn)軸螺紋連接；所述的第一清洗旋轉(zhuǎn)模塊和第二清洗旋轉(zhuǎn)模塊均包括第二電機(jī)、第二聯(lián)軸器、清洗轉(zhuǎn)軸和連接架，所述的連接架與所述的連接塊固定連接，所述的第二電機(jī)固定設(shè)置在連接架的底部，第二電機(jī)的轉(zhuǎn)動(dòng)軸穿過(guò)連接架底部與第二聯(lián)軸器的下端連接，第二聯(lián)軸器的上端與清洗轉(zhuǎn)軸連接，第一清洗旋轉(zhuǎn)模塊的清洗轉(zhuǎn)軸的上端與連接管內(nèi)端連接，第二清洗旋轉(zhuǎn)模塊的清洗轉(zhuǎn)軸與連接管的內(nèi)端連接。