[發明專利]一種電子真空泵的泵室機構及泵室降噪的電子真空泵

在審

• 申請號: 201910009747.6
• 申請日: 2019-01-05
• 公開（公告）號: CN111412142A
• 公開（公告）日: 2020-07-14
• 發明（設計）人: 陳藝陽;吳子明
• 申請（專利權）人: 廈門宏發汽車電子有限公司
• 主分類號: F04C29/00
• 分類號: F04C29/00;F04C29/12;F04C29/06;F04C25/02
• 代理公司: 廈門市首創君合專利事務所有限公司 35204
• 代理人: 連耀忠;楊鍇

1.一種電子真空泵的泵室機構，包括底板、泵環、蓋板，底板與蓋板分別設置于泵環的端面，將泵環的內腔圍成泵室；底板開設有連通的下進氣槽、下導流槽，蓋板開設有連通的上進氣槽、上導流槽，其特征在于，底板的下導流槽與蓋板的上導流槽為非對稱結構，真空泵工作過程中，下導流槽與上導流槽無法同時封閉。

2.根據權利要求1所述的電子真空泵的泵室機構，其特征在于，底板的下導流槽包括與蓋板的上導流槽對稱設置的前段部，以及前段部的端部延伸出的延伸部。

3.根據權利要求1或2所述的電子真空泵的泵室機構，其特征在于，下導流槽、上導流槽的端部均設置有非貫通的下泄壓槽、上泄壓槽。

4.根據權利要求3所述的電子真空泵的泵室機構，其特征在于，下泄壓槽、上泄壓槽為三角形槽。

5.根據權利要求1所述的電子真空泵的泵室機構，其特征在于，底板、泵環的側壁與蓋板開設第一排氣通道。

6.根據權利要求5所述的電子真空泵的泵室機構，其特征在于，底板開設有下出氣結構，泵環的側壁開設有貫通的中出氣孔，蓋板開設有上出氣結構，下出氣結構、中出氣孔與上出氣結構連通，形成第一排氣通道。

7.根據權利要求6所述的電子真空泵的泵室機構，其特征在于，下出氣結構包括貫通的定位孔、非貫通的下出氣槽，定位孔與下出氣槽相通，下出氣槽的敞口朝向泵環，定位孔對準泵環的中出氣孔；上出氣結構包括非貫通的上出氣槽、貫通的上出氣孔，上出氣槽與上出氣孔相通，上出氣槽的敞口朝向泵環，對準泵環的中出氣孔。

8.根據權利要求7所述的電子真空泵的泵室機構，其特征在于，上出氣孔還與泵環的內腔相通，上出氣孔與泵環的內腔形成第二排氣通道。

9.一種泵室降噪的電子真空泵，其特征在于，包括排氣驅動機構、法蘭、權利要求1至8任一項所述的泵室機構、泵體罩，泵室機構設置于法蘭上，泵室機構與法蘭之間進行密封配合。

10.根據權利要求9所述的泵室降噪的電子真空泵，其特征在于，泵室機構的底板、泵環、蓋板的邊沿分別設置有下對位缺口、中對位缺口、上對位缺口；裝配時，下對位缺口、中對位缺口、上對位缺口對準。

11.根據權利要求9所述的泵室降噪的電子真空泵，其特征在于，法蘭對應底板的定位孔，設置有定位銷，底板與法蘭通過定位孔與定位銷配合安裝；底板位于定位孔與邊沿之間通過密封圈與法蘭形成周圈密封。