[發明專利]薄膜制備裝置、方法及系統

有效

• 申請號: 201910001693.9
• 申請日: 2019-01-02
• 公開（公告）號: CN109609922B
• 公開（公告）日: 2021-04-20
• 發明（設計）人: 唐浩;周全國;程久陽;蘭榮華;周麗佳;王志東;魯彥成
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C14/30;C23C14/34;C23C14/22
• 代理公司: 北京三高永信知識產權代理有限責任公司 11138
• 代理人: 楊廣宇

本發明公開了一種薄膜制備裝置、方法及系統，屬于薄膜制備領域。該裝置包括：設置在鍍膜腔室內的傳遞機構和至少兩個膜層沉積機構，該傳遞機構包括至少兩個傳遞件；每相鄰兩個膜層沉積機構之間設置有至少一個傳遞件，該至少一個傳遞件用于在相鄰兩個膜層沉積機構之間傳輸薄膜基帶；該每個膜層沉積機構用于在薄膜基帶上沉積一層膜層，且各個膜層沉積機構所沉積的膜層不同。本發明提供的薄膜制備裝置可以通過鍍膜腔室內的至少兩個膜層沉積機構制備功能性薄膜，提高了功能性薄膜的制備效率，降低了制備成本。

技術領域

本發明涉及薄膜制備領域，特別涉及一種薄膜制備裝置、方法及系統。

背景技術

功能性薄膜(如壓電薄膜、超導薄膜和磁性薄膜)通常包括多層膜層，例如隔離層、功能層和保護層等。

相關技術中，由于功能性薄膜中不同膜層的制備方法以及工藝參數不同，因此需要在不同的鍍膜腔室內，采用不同的薄膜制備設備來制備功能性薄膜。該功能性薄膜的制備效率較低，制備成本較高。

發明內容

本發明實施例提供了一種薄膜制備裝置、方法及系統，可以解決相關技術中功能性薄膜的制備效率較低，制備成本較高的問題。所述技術方案如下：

一方面，提供了一種薄膜制備裝置，所述裝置包括：設置在鍍膜腔室內的傳遞機構和至少兩個膜層沉積機構，所述傳遞機構包括至少兩個傳遞件；

每相鄰兩個所述膜層沉積機構之間設置有至少一個傳遞件，所述至少一個傳遞件用于在相鄰兩個所述膜層沉積機構之間傳輸薄膜基帶；

每個所述膜層沉積機構用于在所述薄膜基帶上沉積一層膜層，且各個所述膜層沉積機構所沉積的膜層不同。

可選的，所述至少兩個膜層沉積機構包括：第一膜層沉積機構、第二膜層沉積機構和第三膜層沉積機構；

所述第一膜層沉積機構用于采用離子束輔助沉積方式在所述薄膜基帶上沉積第一膜層；

所述第二膜層沉積機構用于采用電子束蒸鍍方式在所述薄膜基帶上沉積第二膜層；

所述第三膜層沉積機構用于采用濺射方式在所述薄膜基帶上沉積第三膜層。

可選的，所述第一膜層沉積機構包括：第一轉輪、第二轉輪、制冷組件、第一蒸發源和離子源；

所述第一轉輪和所述第二轉輪相對設置，所述第一轉輪和所述第二轉輪用于將所述薄膜基帶傳輸至所述第一蒸發源的蒸發區域；

所述制冷組件位于所述第一轉輪和所述第二轉輪之間，且位于所述薄膜基帶的一側；

所述第一蒸發源和所述離子源均位于所述薄膜基帶的另一側，所述第一蒸發源用于將第一靶材蒸發至所述薄膜基帶，所述離子源用于向所述薄膜基帶發射離子束。

可選的，所述第一膜層沉積機構還包括：壓電傳感器，所述壓電傳感器位于所述薄膜基帶靠近所述第一蒸發源的一側，所述壓電傳感器用于檢測所述第一膜層的沉積速率。

可選的，所述第二膜層沉積機構包括：至少一組轉輪組、第一加熱組件和第二蒸發源；每組所述轉輪組包括相對設置的第三轉輪和第四轉輪，所述第三轉輪和所述第四轉輪用于將所述薄膜基帶傳輸至所述第二蒸發源的蒸發區域；

所述第一加熱組件位于所述第三轉輪和所述第四轉輪之間，且位于所述薄膜基帶的一側；

所述第二蒸發源位于所述薄膜基帶的另一側，所述第二蒸發源用于將第二靶材蒸發至所述薄膜基帶。

可選的，所述第二膜層沉積機構包括：兩組轉輪組；

其中一組轉輪組中的第四轉輪還用于將所述薄膜基帶傳輸至另一組轉輪組中的第三轉輪。

可選的，所述第二薄膜沉積機構還包括：滑動組件；