[其他]基板處理裝置

有效

• 申請號: 201890000816.6
• 申請日: 2018-02-05
• 公開（公告）號: CN211350584U
• 公開（公告）日: 2020-08-25
• 發明（設計）人: 趙康一
• 申請（專利權）人: 凱斯科技股份有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01L21/683;H01L21/687;H01L21/677
• 代理公司: 北京冠和權律師事務所 11399
• 代理人: 陳國軍

1.一種基板處理裝置，作為對被處理基板進行藥液涂覆工藝的基板處理裝置，其特征在于，包括：

基板支撐部，其支撐基板；

藥液涂覆單元，其將藥液涂覆于基板；

預干燥單元，其在基板支撐于基板支撐部的狀態下，對藥液進行預干燥；預干燥單元以防止藥液從基板流出來的狀態預干燥藥液。

2.根據權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，

預干燥單元在真空狀態下對藥液進行預干燥。

3.根據權利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于，預干燥單元包括：

干燥室部件，其配置為覆蓋基板；

真空壓力形成部，其用于向干燥室部件的內部空間施加真空壓力。

4.根據權利要求3所述的基板處理裝置，其特征在于，

固定設置所述藥液涂覆單元，

基板相對于所述藥液涂覆單元進行移動的同時，在基板上涂覆藥液。

5.根據權利要求4所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述干燥室部件設置為下部開放并沿著上下方向可移動，當基板配置于對基板進行預干燥的預干燥位置時，所述干燥室下降的同時覆蓋所述基板。

6.根據權利要求4所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述基板支撐部相對于所述藥液涂覆單元可移動地設置。

7.根據權利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于，

在預干燥單元對藥液進行預干燥的過程中，基板支撐部的溫度保持均勻。

8.根據權利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于，

預干燥單元在-50kpa至-90kpa的真空范圍內預干燥藥液。

9.根據權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，包括：

后續干燥單元，其從預干燥單元接收進行了預干燥工藝的基板10后對藥液進行后續干燥。

10.根據權利要求9所述的基板處理裝置，其特征在于，

后續干燥單元在比預干燥單元高的溫度范圍內對藥液進行后續干燥。

11.根據權利要求9所述的基板處理裝置，其特征在于，包括：

提升單元，其在基板支撐部使得基板上升；

移送單元，其將借助于提升單元從基板支撐部上升的基板移送到后續干燥單元，

預干燥單元在基板提升之前預干燥藥液。

12.根據權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，

預干燥單元部分地干燥包含于藥液中的一部分以上的溶劑。

13.根據權利要求4所述的基板處理裝置，其特征在于，

基板支撐部在使基板浮起的狀態下移送。

14.根據權利要求13所述的基板處理裝置，其特征在于，

基板支撐部利用超聲波產生的振動能量使基板浮起。

15.根據權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，所述基板支撐部包括：

載體本體，其供基板安裝；

吸附孔，其形成于載體本體，使得基板吸附于載體本體，

沿水平平坦地支撐基板。

16.根據權利要求15所述的基板處理裝置，其特征在于，

吸附孔形成獨立分割的多個吸附區，

基板處理裝置包括控制部，控制部同時或按順序控制基板上的多個吸附區的吸附。

17.根據權利要求15所述的基板處理裝置，其特征在于，

向吸附孔施加真空壓力的真空單元可分離地結合于載體本體，在載體本體移動的過程中，真空單元與載體本體分離。