[發明專利]用于涂覆基板的系統和工藝

在審

• 申請號: 201880096190.8
• 申請日: 2018-11-26
• 公開（公告）號: CN112513318A
• 公開（公告）日: 2021-03-16
• 發明（設計）人: 托爾斯滕·布魯諾·迪特爾;托馬斯·德皮希;克里斯蒂安·尼克
• 申請（專利權）人: 應用材料公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C14/08;C23C14/34;C23C16/54
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國;趙靜

描述了一種用于涂覆基板的系統。所述系統包括：運輸布置，所述運輸布置用于移動所述基板；和第一涂覆單元，所述第一涂覆單元被配置為用第一材料涂覆所述基板。所述系統進一步包括控制器，所述控制器被配置為在所述第一涂覆單元的活動狀態期間使所述基板的移動方向反向至少一次。

技術領域

本公開內容的實施方式涉及用于涂覆基板的系統和工藝，特別地涉及用于涂覆移動基板的系統和工藝。本公開內容的實施方式特別地涉及用于對基板涂覆多層堆疊物的系統和工藝，而另外的實施方式涉及多層堆疊物。

背景技術

用于光學應用(例如像帶通濾波器或抗反射涂層)的典型的層堆疊物通常由分別為高折射率材料和低折射率材料(例如，SiO₂和Nb₂O₅)的許多交替層組成。通常，每個單一層具有不同厚度，其中非常準確的厚度有益于得到正確指定光學性質。

特別是對于使柔性基板涂覆有層堆疊物，典型的涂覆系統包括沿基板所采用的路徑布置的大量涂覆源。這會伴有高空間要求和高成本。

鑒于上文，提供用于涂覆基板的改進的系統和工藝是有益的。

發明內容

提供了一種用于涂覆基板的系統、一種用于涂覆基板的工藝以及一種多層堆疊物。

根據本公開內容的一方面，提供了一種用于涂覆基板的系統。所述系統包括：運輸布置，所述運輸布置用于移動所述基板；和第一涂覆單元，所述第一涂覆單元被配置為用第一材料涂覆所述基板。所述系統進一步包括控制器，所述控制器被配置為在所述第一涂覆單元的活動狀態期間使所述基板的移動方向反向至少一次。

根據本公開內容的一方面，提供了一種用于涂覆基板的工藝。所述工藝包括在被配置為用第一材料涂覆所述基板的第一涂覆單元的活動狀態期間，使所述基板的移動方向反向至少一次。

根據本公開內容的一方面，提供了一種通過根據本文中描述的方面的工藝生產的多層堆疊物。所述多層堆疊物包括第一層。所述第一層包括在使移動方向反向之前產生的第一子層和在使所述移動方向反向之后產生的第二子層。所述第一子層和所述第二子層各自包括第一材料。所述第一子層在至少一個物理性質上與所述第二子層不同。

應將本公開內容理解為涵蓋用于實行所公開的方法的設備和系統，包括用于執行每個所描述的方法方面的設備部分。方法方面可例如通過硬件部件、通過由適當軟件編程的計算機或通過這兩者的任何組合來執行。還應將本公開內容理解為涵蓋用于操作所描述的設備和系統的方法。用于操作所描述的設備和系統的方法包括用于實行相應設備或系統的每一功能的方法方面。

附圖說明

為了可詳細地理解上述特征，下文可通過參考實施方式來提供對上文簡要地概述的主題的更具體的描述。附圖與實施方式有關并在下文進行描述：

圖1示出了根據本文中描述的實施方式的用于涂覆基板的系統的示意性截面圖；

圖2示出了根據本文中描述的另外的實施方式的用于涂覆基板的系統的示意性截面圖；

圖3示出了根據本文中描述的另外的實施方式的用于涂覆基板的系統的示意性截面圖；

圖4示出了根據本文中描述的實施方式的示出用于涂覆基板的工藝的流程圖；

圖5示出了根據本文中描述的實施方式的通過用于涂覆基板的工藝產生的多層堆疊物；和

圖6示出了圖5中示出的多層堆疊物的詳細視圖。

具體實施方式