[發(fā)明專利]硬質(zhì)被膜和硬質(zhì)被膜被覆構(gòu)件

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201880096109.6
• 申請(qǐng)日: 2018-08-01
• 公開（公告）號(hào): CN112840062B
• 公開（公告）日: 2022-11-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王媺
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: OSG株式會(huì)社
• 主分類號(hào): C23C14/22
• 分類號(hào): C23C14/22;C23C28/04
• 代理公司: 中國(guó)貿(mào)促會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 11038
• 代理人: 陳冠欽

1.硬質(zhì)被膜(30；50；60；70；80；90)，其是以被覆母材(12)的表面的方式附著于該表面的硬質(zhì)被膜(30；50；60；70；80；90)，其特征在于，

所述硬質(zhì)被膜(30；50；60；70；80；90)以將單一組成層(32；34；36)與兩種納米層交替層(38、40；38、42；40、42)共三種層交替地層疊而總膜厚(Ttotal)成為0.5～20μm的范圍內(nèi)的方式構(gòu)成，該單一組成層由A組成、B組成和C組成中的任一種組成構(gòu)成，該兩種納米層交替層以所述A組成和所述B組成、所述A組成和所述C組成、所述B組成和所述C組成這三種組合中的任兩種組合將各組成的納米層(32n、34n、36n)交替地層疊而成，

所述A組成是組成式為Al_aCr_bSi_cα_d的氮化物，其中a、b、c、d分別以原子比計(jì)為0.30≤a≤0.80、0.15≤b≤0.65、0≤c≤0.45、0≤d≤0.10且a+b+c+d＝1，Si和α為任意添加成分，任意添加成分α為選自B、C、Ti、V、Y、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta和W中的一種以上的元素，

所述B組成是組成式為Cr_eB_fSi_gβ_h的氮化物，其中e、f、g、h分別以原子比計(jì)為0.40≤e≤0.95、0.05≤f≤0.30、0≤g≤0.45、0≤h≤0.10且e+f+g+h＝1，Si和β為任意添加成分，任意添加成分β為選自C、Al、Ti、V、Y、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta和W中的一種以上的元素，

所述C組成是組成式為Al_iCr_j(SiC)_kγ_l的氮化物，其中i、j、k、l分別以原子比計(jì)為0.20≤i≤0.85、0.10≤j≤0.50、0.03≤k≤0.45、0≤l≤0.10且i+j+k+l＝1，任意添加成分γ為選自B、Ti、V、Y、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta和W中的一種以上的元素，

所述單一組成層(32；34；36)的膜厚在0.5～1000nm的范圍內(nèi)，

構(gòu)成所述兩種納米層交替層(38、40；38、42；40、42)的所述納米層(32n、34n、36n)的各膜厚均在0.5～500nm的范圍內(nèi)，所述兩種納米層交替層(38、40；38、42；40、42)的各膜厚均在1～1000nm的范圍內(nèi)。

2.權(quán)利要求1所述的硬質(zhì)被膜(30；50；60；70；80；90)，其特征在于，所述單一組成層(32；34；36)的膜厚T1與所述兩種納米層交替層(38、40；38、42；40、42)的各膜厚T2、T3的比T1/T2、T1/T3均在0.2～10的范圍內(nèi)。

3.權(quán)利要求1或2所述的硬質(zhì)被膜(80)，其特征在于，交替地層疊的所述單一組成層(32；34；36)和所述兩種納米層交替層(38、40；38、42；40、42)的最下部的層直接設(shè)于所述母材(12)的表面。

4.權(quán)利要求1或2所述的硬質(zhì)被膜(30；50；60；70；90)，其特征在于，所述硬質(zhì)被膜(30；50；60；70；90)在其與所述母材(12)的邊界具備界面層，

所述界面層由以下共三種層中的任一種層構(gòu)成：由所述A組成、所述B組成和所述C組成中的任一種組成構(gòu)成的單一組成層；將由所述A組成、所述B組成和所述C組成中的任兩種組成構(gòu)成、且各自膜厚在0.5～500nm的范圍內(nèi)的兩種納米層交替地層疊而成的納米層交替層；和包含B、Al、Ti、Y、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr和W中的一種以上的元素的金屬的氮化物、碳氮化物或碳化物的層；

所述界面層的膜厚在5～1000nm的范圍內(nèi)。