[發明專利]形成具有亞微米級特征的大面積模具母版的晶圓拼接方法

在審

• 申請號: 201880094333.1
• 申請日: 2018-12-21
• 公開（公告）號: CN112272800A
• 公開（公告）日: 2021-01-26
• 發明（設計）人: Z.彭;S.沃;E.索伊奇
• 申請（專利權）人: 鐳亞股份有限公司
• 主分類號: G03F9/00
• 分類號: G03F9/00;G03F7/00
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 張曉明

提供了一種形成大面積納米壓印模具母版的方法。該方法包括在剛性平面基板上定位多個子母版拼接片。多個子母版拼接片中的每個子母版拼接片均具有納米級圖案，并且代表大面積納米壓印模具母版的子部分。所述方法還包括將所述多個子母版拼接片粘附到剛性平面基板上。該定位確定在一對相鄰的子母版拼接片中的每個子母版拼接片上的納米級圖案的納米級特征之間的距離。該距離具有微米級定位公差。還提供了大面積納米壓印模具母版和大面積納米壓印光刻的方法。

相關申請的交叉引用

本申請要求2018年6月6日提交的臨時專利申請序列號62/681,662的優先權，其全部內容通過引用合并于此。

關于聯邦政府贊助的研究或開發的聲明

N/A

背景技術

電子顯示器是用于向各種各樣的設備和產品的用戶傳達信息的幾乎無處不在的介質。最常用的電子顯示器包括陰極射線管(CRT)、等離子顯示面板(PDP)、液晶顯示器(LCD)、電致發光顯示器(EL)、有機發光二極管(OLED)和有源矩陣OLED(AMOLED)顯示器、電泳顯示器(EP)以及采用機電的或電流體光調制的各種顯示器(例如，數字微鏡設備、電潤濕顯示器等)。這些調制解調器顯示器中的許多顯示器都需要高精度制造以制造各種顯示器結構和元件。

壓印光刻(Imprint lithography)，尤其是納米壓印光刻是許多可用的制造技術和方法中的一種，這些技術和方法學可用于生產與現代電子顯示器相關聯的各種結構和元件。特別地，納米壓印光刻通常擅長提供具有非常高的精度的亞微米或納米級特征，同時易于適應大規模生產。例如，納米壓印光刻可以用于通過將具有納米級壓印圖案的晶圓聚集在一起或拼接來創建具有納米級特征的印模或模具母版。然后可以將模具母版用于納米壓印光刻中，以將納米壓印圖案壓印到接收基板上。此外，可以結合納米壓印光刻和模具母版使用各種大批量制造方法，包括但不限于角色對角色壓印，以滿足大規模生產的需求。但是，在大面積模具母版上提供亞微米或納米級特征精度可能會出現問題。特別地，實際上，如果納米級特征精度必須延伸到晶圓的邊界之外，例如，在不同晶圓上的納米級特征之間，則可能妨礙跨大面積模具母版維持納米級精度。這樣，盡管使用壓印光刻甚至納米壓印光刻的大規模制造可能已經成熟，但是這些制造處理通常限于微米或更大規模的特征。

附圖說明

參考結合附圖進行的以下詳細描述，可以更容易地理解根據本文描述的原理的示例和實施例的各種特征，其中相同的附圖標記表示相同的結構元件，其中：

圖1A示出了根據與本文描述的原理一致的實施例的示例中的大面積納米壓印模具母版的截面圖。

圖1B示出了根據與本文描述的原理一致的另一實施例的示例中的大面積納米壓印模具母版的截面圖。

圖2示出了根據與本文描述的原理一致的實施例的示例中的大面積納米壓印模具母版的截面圖。

圖3A示出了根據與本文描述的原理一致的實施例的示例中的大面積納米壓印模具母版的截面圖。

圖3B示出了根據與本文描述的原理一致的另一實施例的示例中的大面積納米壓印模具母版的截面圖。

圖4示出了根據與本文描述的原理一致的實施例的示例中的大面積納米壓印模具母版的平面圖。

圖5示出了根據與本文描述的原理一致的實施例的示例中的形成大面積納米壓印模具母版的方法的流程圖。

圖6A示出了根據與本文描述的原理一致的實施例的示例中的使用大面積納米壓印模具母版來執行大面積納米壓印光刻的截面圖。

圖6B示出了根據與本文描述的原理一致的實施例的示例中的使用圖6A的大面積納米壓印模具母版的另一截面圖。

圖6C示出了根據與本文描述的原理一致的實施例的示例中的使用圖6A的大面積納米壓印模具母版的另一截面圖。