[發(fā)明專利]成膜裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201880093587.1 | 申請日: | 2018-06-08 |
| 公開(公告)號: | CN112135924B | 公開(公告)日: | 2023-01-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 織田容征 | 申請(專利權(quán))人: | 東芝三菱電機產(chǎn)業(yè)系統(tǒng)株式會社 |
| 主分類號: | C23C16/46 | 分類號: | C23C16/46;B05D1/26 |
| 代理公司: | 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002 | 代理人: | 劉英華 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 裝置 | ||
1.一種成膜裝置,具備:基板載置部(53),載置基板(10);加熱機構(gòu)(2),與所述基板載置部以分離的方式設(shè)置,具有紅外光燈(22),執(zhí)行從所述紅外光燈照射紅外光而將所述基板加熱的加熱處理;以及霧噴射部(1),執(zhí)行霧噴射處理,在所述霧噴射處理中,向所述基板的表面噴射將原料溶液霧化而得到的原料霧(MT),從所述紅外光燈照射的紅外光的波長與所述原料霧的吸收波長區(qū)域不重復(fù),通過同時執(zhí)行基于所述加熱機構(gòu)的所述加熱處理和基于所述霧噴射部的所述霧噴射處理,從而在所述基板的表面形成薄膜,從所述紅外光燈照射的紅外光的波長被設(shè)定為700nm~900nm。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置,其中,還具備:成膜室(6A),在內(nèi)部收容所述基板、所述加熱機構(gòu)以及所述霧噴射部。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置,其中,還具備:成膜室(6B),在內(nèi)部收容所述基板及所述霧噴射部,所述加熱機構(gòu)配置于所述成膜室外,經(jīng)由所述成膜室執(zhí)行所述加熱處理,所述成膜室將相對于從所述加熱機構(gòu)的所述紅外光燈照射的紅外光而言透射性優(yōu)異的紅外光透射材料作為構(gòu)成材料。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的成膜裝置,其中,所述紅外光透射材料包括石英玻璃、硼硅酸玻璃、藍(lán)寶石、氟化鈣、氟化鋇、氟化鎂、以及氟化鋰中的至少一種。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于東芝三菱電機產(chǎn)業(yè)系統(tǒng)株式會社,未經(jīng)東芝三菱電機產(chǎn)業(yè)系統(tǒng)株式會社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201880093587.1/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





