[發(fā)明專利]LED陣列的波長轉(zhuǎn)換層圖案化有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201880090080.0 | 申請日: | 2018-12-20 |
| 公開(公告)號: | CN111712932B | 公開(公告)日: | 2023-10-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | D·R·錢柏林;E·M·勒林;D·B·羅伊特曼;清水健太郎 | 申請(專利權(quán))人: | 亮銳有限責(zé)任公司 |
| 主分類號: | H01L33/50 | 分類號: | H01L33/50 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 于非凡;閆小龍 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | led 陣列 波長 轉(zhuǎn)換 圖案 | ||
1. 一種方法,包括:
將波長轉(zhuǎn)換層沉積到表面上,所述波長轉(zhuǎn)換層包括光引發(fā)劑和粘合劑材料;和
通過將納米壓印光刻工藝施加于所述波長轉(zhuǎn)換層來圖案化所述波長轉(zhuǎn)換層,所述納米壓印光刻工藝包括:
在所述波長轉(zhuǎn)換層上施加納米壓印模具;
固化所述波長轉(zhuǎn)換層,使得所述光引發(fā)劑經(jīng)歷脫羧;和
在所述固化后從所述波長轉(zhuǎn)換層上去除所述納米壓印模具。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,所述脫羧產(chǎn)生超堿。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其中,所述超堿在所述粘合劑材料的反應(yīng)性鏈端和可交聯(lián)襯底中的一個上引起催化作用。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,所述粘合劑材料在所述固化期間經(jīng)歷縮聚和開環(huán)聚合中的一個。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,所述波長轉(zhuǎn)換層用紫外(UV)光固化。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,所述光引發(fā)劑是通過一種或多種堿與酸的相互作用生成的鹽。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,還包括:使用熱固化和后烘烤中的一個去除所述超堿。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,還包括:將第一轉(zhuǎn)換器膜施加到第一發(fā)光器件上,并且將第二轉(zhuǎn)換器膜施加到第二發(fā)光器件上,使得所述第一轉(zhuǎn)換器膜和所述第二轉(zhuǎn)換器膜是通過使所述波長轉(zhuǎn)換層圖案化生成的所述波長轉(zhuǎn)換層的段。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,所述粘合劑材料包括硅氧烷材料、聚硅氮烷或溶膠-凝膠材料中的一個或多個。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,所述波長轉(zhuǎn)換層還包括多個光學(xué)隔離顆粒。
11.一種器件,包括:
多個GaN臺面;
與所述GaN臺面接觸的網(wǎng)狀壁;和
沉積到所述網(wǎng)狀壁中的多個腔中的波長轉(zhuǎn)換層。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的器件,其中,通過模涂、刮涂、噴涂或?qū)訅褐械闹辽僖粋€,將所述轉(zhuǎn)換器材料沉積到所述多個腔的第一腔和第二腔中。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的器件,其中,所述波長轉(zhuǎn)換層包括磷光體顆粒。
14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的器件,其中,所述網(wǎng)狀壁的結(jié)構(gòu)是通過直接紫外(UV)納米壓印光刻工藝、熱納米壓印光刻工藝和接觸印刷工藝中的一個創(chuàng)建的。
15.根據(jù)權(quán)利要求11所述的器件,其中,所述多個腔中的第一腔小于100微米寬。
16.一種器件,包括:
表面上的第一波長轉(zhuǎn)換層,所述第一波長轉(zhuǎn)換層包括光引發(fā)劑和選自硅氧烷材料、聚硅氮烷和溶膠-凝膠材料中的一個或多個的粘合劑材料;
所述表面上的第二波長轉(zhuǎn)換層,所述第二波長轉(zhuǎn)換層包括多個光學(xué)隔離顆粒、脫羧的光引發(fā)劑和選自硅氧烷材料、聚硅氮烷和溶膠-凝膠材料中的一個或多個的粘合劑材料;和
超堿。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的器件,還包括納米壓印模具。
18.根據(jù)權(quán)利要求16所述的器件,其中,所述第一波長轉(zhuǎn)換層和所述第二波長轉(zhuǎn)換層是相同的原始波長轉(zhuǎn)換層的部分,并且所述第二波長轉(zhuǎn)換層是所述原始波長轉(zhuǎn)換層經(jīng)歷了經(jīng)由脫羧而固化的部分。
19.根據(jù)權(quán)利要求16所述的器件,其中,所述脫羧的光引發(fā)劑經(jīng)由UV光被脫羧。
20.根據(jù)權(quán)利要求16所述的器件,其中所述超堿是通過脫羧創(chuàng)建的。
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