[發(fā)明專利]基板清洗方法及清洗裝置

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201880088255.4
• 申請(qǐng)日: 2018-02-07
• 公開（公告）號(hào): CN111656486A
• 公開（公告）日: 2020-09-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王暉;王希;陳福平;張曉燕;陳福發(fā)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 盛美半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/02
• 分類號(hào): H01L21/02
• 代理公司: 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100
• 代理人: 陸嘉

1.一種基板清洗方法，其特征在于，包括：

將基板放置在基板保持裝置上；

對(duì)基板實(shí)施少氣泡或無氣泡的預(yù)濕潤工藝；

實(shí)施超聲波或兆聲波清洗工藝清洗基板。

2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述少氣泡或無氣泡的預(yù)濕潤工藝包括在基板周圍建立真空環(huán)境，然后向基板上提供預(yù)濕潤化學(xué)藥液或化學(xué)藥霧。

3.如權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，真空度設(shè)置在25Torr及以上。

4.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述少氣泡或無氣泡的預(yù)濕潤工藝包括汽化預(yù)濕潤化學(xué)溶液，然后將汽化的液體分子提供到基板表面以在基板上形成預(yù)濕潤化學(xué)液層。

5.如權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，使用聲波發(fā)生法將預(yù)濕潤化學(xué)溶液轉(zhuǎn)化為氣相分子。

6.如權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，進(jìn)一步包括加熱汽化的液體分子，使汽化的液體分子的溫度高于基板的溫度。

7.如權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，進(jìn)一步包括冷卻基板，使基板的溫度低于汽化的液體分子的溫度。

8.如權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，使用加熱的方法將預(yù)濕潤化學(xué)溶液轉(zhuǎn)化為氣相分子。

9.如權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，所述預(yù)濕潤化學(xué)溶液包括表面活性劑或添加劑。

10.如權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，所述表面活性劑是含羧基的乙二胺四乙酸(EDTA)或四羧基乙二胺四丙酸(EDTP)酸或鹽。

11.如權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，所述預(yù)濕潤化學(xué)溶液包括氧化劑以將基板表面從疏水性氧化成親水性。

12.如權(quán)利要求11所述的方法，其特征在于，所述氧化劑是臭氧溶液或SC1溶液。

13.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，進(jìn)一步包括在對(duì)基板實(shí)施少氣泡或無氣泡的預(yù)濕潤工藝之前，去除浮渣或毛刺以提高基板凹陷區(qū)域的表面光滑度。

14.一種基板清洗裝置，其特征在于，包括：

第一腔室，被配置為與泵相連以在第一腔室中形成真空環(huán)境；

基板保持裝置，被配置為設(shè)置在第一腔室中保持基板；

至少一個(gè)噴頭，被配置為向基板表面提供預(yù)濕潤化學(xué)藥液或化學(xué)藥霧以在基板上形成少氣泡或無氣泡的化學(xué)液層；以及

第二腔室，被配置有超聲波或兆聲波裝置以清洗基板。

15.如權(quán)利要求14所述的裝置，其特征在于，進(jìn)一步包括預(yù)處理單元，被配置為去除基板凹陷區(qū)域的浮渣或毛刺。

16.如權(quán)利要求14所述的裝置，其特征在于，所述第一腔室的真空度設(shè)置在25Torr及以上。

17.如權(quán)利要求14所述的裝置，其特征在于，進(jìn)一步包括旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置，被配置為與基板保持裝置相連。

18.一種基板清洗裝置，其特征在于，包括：

腔室，被配置為與泵相連以在腔室中形成真空環(huán)境；

基板保持裝置，被配置為設(shè)置在腔室中保持基板；

至少一個(gè)噴嘴，被配置為在腔室中形成真空環(huán)境后向基板表面提供預(yù)濕潤化學(xué)藥液或化學(xué)藥霧以在基板上形成少氣泡或無氣泡的化學(xué)液層；以及

超聲波或兆聲波裝置，被配置為清洗基板。

19.如權(quán)利要求18所述的裝置，其特征在于，進(jìn)一步包括預(yù)處理單元，被配置為去除基板凹陷區(qū)域的浮渣或毛刺。