[發(fā)明專(zhuān)利]用于下流式反應(yīng)器的污垢收集裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201880087355.5 | 申請(qǐng)日: | 2018-12-20 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111629805A | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-09-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 小G·羅伯特·L·邦廷;史蒂文·J·萊斯尼亞克;徐占平 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 環(huán)球油品有限責(zé)任公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | B01D24/22 | 分類(lèi)號(hào): | B01D24/22;B01J8/00;B01J19/24 |
| 代理公司: | 北京同立鈞成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205 | 代理人: | 楊貝貝;臧建明 |
| 地址: | 美國(guó)伊*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 下流 反應(yīng)器 污垢 收集 裝置 | ||
本發(fā)明涉及一種污垢收集裝置,該污垢收集裝置位于下流式反應(yīng)器頭部?jī)?nèi),用于從進(jìn)料流中去除固體以增加反應(yīng)器操作循環(huán)時(shí)間,而對(duì)用于催化劑裝填的有效反應(yīng)器空間沒(méi)有影響。更具體地,過(guò)濾區(qū)域位于粗液體分配托盤(pán)和分配托盤(pán)上方的反應(yīng)器容器的上部部分中。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種用于改善下流式反應(yīng)器的操作的裝置。更具體地,本發(fā)明涉及一種污垢收集裝置,該污垢收集裝置位于下流式反應(yīng)器頭部?jī)?nèi),用于從進(jìn)料流中去除固體以增加反應(yīng)器操作循環(huán)時(shí)間,而對(duì)用于催化劑裝填的有效反應(yīng)器空間沒(méi)有影響。
背景技術(shù)
在下流式反應(yīng)器中,諸如在下流式反應(yīng)器中,通常在第一催化劑床的頂部上放置一層過(guò)濾材料,以捕獲微粒諸如細(xì)粒和污垢。典型地,該層能夠是6英寸至36英寸厚,并且減少催化劑所占據(jù)的可用空間。另外,當(dāng)固體聚積在過(guò)濾材料層內(nèi)或在過(guò)濾材料與催化劑床之間從而引起高壓降時(shí),必須在操作循環(huán)內(nèi)去除并替換過(guò)濾材料。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明涉及一種反應(yīng)器,該反應(yīng)器包括上部部分和下部部分,其中該上部部分包含污垢收集裝置。過(guò)濾區(qū)域位于粗液體分配托盤(pán)上方及其內(nèi),并且其中蒸氣-液體分配托盤(pán)位于所述粗液體分配托盤(pán)下方,并且其中該下部部分包含催化劑床。過(guò)濾區(qū)域能夠包含具有相同或不同物理和化學(xué)性質(zhì)的單層或多層過(guò)濾材料。過(guò)濾區(qū)域包含多孔陶瓷顆粒或?qū)崿F(xiàn)類(lèi)似功能的其他材料。過(guò)濾區(qū)域能夠通過(guò)多個(gè)隔離物在粗液體分配托盤(pán)上方間隔開(kāi)。
附圖說(shuō)明
圖1示出了反應(yīng)器的上部部分,示出了位于分配托盤(pán)上方的過(guò)濾材料。
具體實(shí)施方式
現(xiàn)在已經(jīng)發(fā)現(xiàn),優(yōu)選不同的布置以從下流式反應(yīng)器中的進(jìn)料流中過(guò)濾微粒。除了在催化劑的頂部上具有過(guò)濾材料層之外,已經(jīng)發(fā)現(xiàn)在分配托盤(pán)上方的反應(yīng)器的上部部分中包括一層過(guò)濾材料是有利的。更具體地,污垢收集裝置位于下流式反應(yīng)器的上部部分或反應(yīng)器頭部?jī)?nèi),用于從進(jìn)料流中去除固體并增加反應(yīng)器操作循環(huán)時(shí)間,而對(duì)用于催化劑裝填的有效反應(yīng)器空間量沒(méi)有任何影響。這通過(guò)位于反應(yīng)器頭部?jī)?nèi)的特別設(shè)計(jì)的污垢收集裝置來(lái)實(shí)現(xiàn)。如圖1所示,污垢收集裝置位于粗液體分配托盤(pán)(RLDT)內(nèi),該粗液體分配托盤(pán)由圓筒形側(cè)壁和穿孔底板以及介質(zhì)支撐件/隔離物構(gòu)造而成,該介質(zhì)支撐件/隔離物在污垢收集裝置的底部處在RLDT穿孔底板上方間隔開(kāi)一小段距離。過(guò)濾材料填充介質(zhì)支撐件/隔離物上方和圓筒形側(cè)壁內(nèi)部的空間。在過(guò)濾材料的頂部處能夠存在壓緊網(wǎng)格,以防止其四處移動(dòng)。多個(gè)上升筒附接到介質(zhì)支撐件/隔離物并且向上延伸到過(guò)濾材料上方,用于在過(guò)濾床被固體堵塞而限制液體流動(dòng)通過(guò)床的情況下的液體溢流。溢流液體被遞送到過(guò)濾介質(zhì)下方的穿孔的粗液體分配托盤(pán),以便將液體穿過(guò)托盤(pán)重新分配到下方的蒸氣-液體分配托盤(pán)。
氣體和液體通過(guò)入口分配器進(jìn)入反應(yīng)器中。入口流動(dòng)流能夠由分配器頂部處的孔板或其他裝置垂直向下矯直。液體分布在過(guò)濾材料的頂部上。氣體在入口分配器和過(guò)濾材料的頂部之間的空間中與液體分離。液體向下流動(dòng)通過(guò)過(guò)濾材料,而氣體流動(dòng)通過(guò)污垢收集裝置的圓筒形側(cè)壁與反應(yīng)器頭部之間的開(kāi)口環(huán)形區(qū)域。在氣體繞過(guò)過(guò)濾材料的情況下,即使過(guò)濾材料填充有固體,壓降也不會(huì)增加。
通過(guò)這種設(shè)計(jì),能夠通過(guò)頂部反應(yīng)器頭部?jī)?nèi)的附加過(guò)濾床來(lái)增加反應(yīng)器循環(huán)時(shí)間,或者通過(guò)減少催化劑床頂部上的過(guò)濾器材料來(lái)增加催化劑裝填。液體應(yīng)均勻地分布在濾床的頂部上,以使污垢收集裝置的固體去除能力最大化。
離開(kāi)污垢收集裝置的液體由下方的粗液體分配托盤(pán)重新分配。氣體和液體然后通過(guò)與粗液體分配托盤(pán)流體連通的蒸氣-液體分配托盤(pán)分配到催化劑床。
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