[發明專利]用于下流式反應器的污垢收集裝置

在審

• 申請號: 201880087355.5
• 申請日: 2018-12-20
• 公開（公告）號: CN111629805A
• 公開（公告）日: 2020-09-04
• 發明（設計）人: 小G·羅伯特·L·邦廷;史蒂文·J·萊斯尼亞克;徐占平
• 申請（專利權）人: 環球油品有限責任公司
• 主分類號: B01D24/22
• 分類號: B01D24/22;B01J8/00;B01J19/24
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 楊貝貝;臧建明

1.一種反應器，所述反應器包括上部部分和下部部分，其中所述上部部分包含污垢收集裝置，其中過濾區域位于粗液體分配托盤上方，其中蒸氣-液體分配托盤位于所述粗液體分配托盤下方，并且其中所述分配托盤包括多個分配器，所述分配器隔開過濾介質床。

2.根據權利要求1所述的反應器，其中所述過濾區域包括上部區中的第一部分，所述第一部分包含具有比所述過濾區域的下部區中的第二部分更大的孔的多孔顆粒。

3.根據權利要求1所述的反應器，其中所述過濾區域包含多孔陶瓷顆粒。

4.根據權利要求1所述的反應器，其中所述過濾區域通過多個隔離物在所述粗液體分配托盤上方間隔開。

5.根據權利要求1所述的反應器，其中所述隔離物聯接到所述粗液體分配托盤和所述蒸氣-液體分配托盤。

6.根據權利要求1所述的反應器，其中所述過濾介質床支撐件包括異型金屬絲。

7.根據權利要求1所述的反應器，其中所述過濾介質床支撐件包括格柵。

8.根據權利要求1所述的反應器，其中所述過濾介質床支撐件包括格柵和金屬絲網。

9.根據權利要求1所述的反應器，其中所述污垢收集裝置的底面包括穿孔板。

10.根據權利要求9所述的反應器，其中溢流上升筒包含槽，其中所述槽能夠是v形的。

11.根據權利要求9所述的反應器，其中所述溢流上升筒包含切口。

12.根據權利要求9所述的反應器，其中所述溢流上升筒包含孔。

13.根據權利要求9所述的反應器，其中所述溢流上升筒能夠包含泡帽。

14.根據權利要求1所述的反應器，其中所述粗液體分配托盤包含孔，所述孔的尺寸被設定成在所述粗液體分配托盤上產生期望的液位。

15.一種設備，所述設備包括上部部分和下部部分，其中所述上部部分包含污垢收集裝置，其中過濾區域位于粗液體分配托盤上方，其中蒸氣-液體分配托盤位于所述粗液體分配托盤下方，并且其中所述分配托盤包括多個分配器，所述分配器隔開過濾介質床。

16.根據權利要求15所述的設備，其中所述過濾區域包括上部區中的第一部分，所述第一部分包含具有比所述過濾區域的下部區中的第二部分更大的孔的多孔顆粒。

17.根據權利要求15所述的設備，其中所述過濾區域包含多孔陶瓷顆粒。

18.根據權利要求15所述的設備，其中所述過濾區域通過多個隔離物在所述粗液體分配托盤上方間隔開。

19.根據權利要求15所述的設備，其中所述粗液體分配托盤包含孔，所述孔的尺寸被設定成在所述粗液體分配托盤上產生期望的液位。