[發明專利]框架一體型掩模及框架一體型掩模的制造方法在審
| 申請號: | 201880086540.2 | 申請日: | 2018-12-26 |
| 公開(公告)號: | CN111656552A | 公開(公告)日: | 2020-09-11 |
| 發明(設計)人: | 李裕進 | 申請(專利權)人: | 悟勞茂材料公司 |
| 主分類號: | H01L51/56 | 分類號: | H01L51/56;H01L51/00;C23C14/04 |
| 代理公司: | 北京鴻元知識產權代理有限公司 11327 | 代理人: | 姜虎;陳英俊 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 框架 體型 制造 方法 | ||
本發明涉及一種框架一體型掩模及框架一體型掩模的制造方法。根據本發明的框架一體型掩模,其由多個掩模(100)與用于支撐掩模(100)的框架(200)一體形成,其特征在于,框架(200)具有:邊緣框架部(210),其包括中空區域(R);以及掩模單元片材部(220),其具有多個掩模單元區域(CR)且連接于邊緣框架部(210),各掩模(100)連接于掩模單元片材部(220)的上部。
技術領域
本發明涉及一種框架一體型掩模及框架一體型掩模的制造方法,更具體地,涉及一種能夠將掩模與框架形成一體且準確地進行各掩模間的對齊(alignment)的框架一體型掩模及框架一體型掩模的制造方法。
背景技術
最近,在薄板制造中針對電鑄(Electroforming)方法的研究正在持續地進行。電鑄方法通過將陽極、陰極浸漬于電解液中,并施加電源而使金屬薄板電沉積于陰極的表面上,因此是一種能夠制造極薄板并有望量產的方法。
另一方面,作為在OLED工藝中形成像素的技術,主要使用FMM(Fine Metal Mask,精密金屬掩模)方法,其通過將薄膜的金屬掩模(陰影掩模,Shadow Mask)緊貼到基板上,從而將有機物蒸鍍到所需位置上。
在現有的OLED制造工藝中,以棒狀、板狀等制造掩模后,將掩模焊接固定到OLED像素蒸鍍框架上并使用。一個掩模可具有對應于一個顯示器的多個單元。另外,為了制造大面積OLED,可將多個掩模固定到OLED像素蒸鍍框架,然而,在固定到框架上的過程中,會通過拉伸使各掩模變得平坦。為了使掩模整體上變得平坦而調節拉伸力屬于非常困難的作業。尤其為了一邊使各單元都平坦化且一邊對齊尺寸為數~數十μm的掩模圖案,需要進行如下高難度作業:一邊細微地調節施加于掩模各側的拉伸力,一邊實時地確認對齊狀態。
盡管如此,將多個掩模固定到一個框架的過程中,存在掩模間和掩模單元間無法很好地對齊的問題。另外,在將掩模焊接固定到框架的過程中,由于掩模膜的厚度過薄且面積大,因此存在掩模因荷重而下垂或扭曲的問題。
對于超高畫質的OLED而言,目前QHD畫質為500-600PPI(pixel per inch,每英寸像素),像素的尺寸達到約30~50μm,而4K UHD、8K UHD高畫質具有比其更高的~860PPI、~1600PPI等的分辨率。考慮到超高畫質的OLED的像素尺寸,需要將各單元之間的對齊誤差縮減為數μm左右,超出這一誤差將導致產品的不良,所以收率可能極低。因此,需要開發能夠防止掩模的下垂或者扭曲等變形且使對齊精確的技術以及將掩模固定到框架的技術等。
發明內容
所要解決的技術問題
本發明為了解決如上所述的現有技術中的各種問題而提出,其目的在于提供一種能夠使掩模與框架形成一體型結構的框架一體型掩模及框架一體型掩模的制造方法。
此外,本發明的目的在于提供一種可防止掩模下垂或扭曲等變形且準確地進行對齊的框架一體型掩模及框架一體型掩模的制造方法。
此外,本發明的目的在于提供一種可明顯縮短制造時間并顯著提高收率的框架一體型掩模及框架一體型掩模的制造方法。
解決技術問題的方案
本發明的上述目的通過框架一體型掩模來實現,所述框架一體型掩模由多個掩模與用于支撐掩模的框架一體形成,其中,框架包括:邊緣框架部,其包括中空區域;以及掩模單元片材部,其具有多個掩模單元區域并連接于邊緣框架部,各掩模連接于掩模單元片材部的上部。
掩模單元片材部沿著第一方向和垂直于第一方向的第二方向中至少一個方向可具有多個掩模單元區域。
掩模單元片材部可包括:邊緣片材部;以及至少一個第一柵格片材部,其在第一方向上延伸形成且兩端連接于邊緣片材部。
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