[發(fā)明專(zhuān)利]具有傾斜周期性結(jié)構(gòu)的計(jì)量目標(biāo)及方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201880085027.1 | 申請(qǐng)日: | 2018-11-29 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111542784A | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-08-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | F·約埃爾;M·吉諾烏克;A·斯維澤爾;V·萊溫斯基;I·塔爾西斯-沙皮爾 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 科磊股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G03F7/20 | 分類(lèi)號(hào): | G03F7/20 |
| 代理公司: | 北京律盟知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11287 | 代理人: | 劉麗楠 |
| 地址: | 美國(guó)加利*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 具有 傾斜 周期性 結(jié)構(gòu) 計(jì)量 目標(biāo) 方法 | ||
1.一種計(jì)量目標(biāo),其包括多個(gè)周期性結(jié)構(gòu)且通過(guò)具有正交產(chǎn)生軸X及Y的光刻工具產(chǎn)生,其中所述周期性結(jié)構(gòu)的至少一者相對(duì)于軸X及Y傾斜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的計(jì)量目標(biāo),其經(jīng)配置為成像目標(biāo)且使至少一個(gè)目標(biāo)層的所述周期性結(jié)構(gòu)經(jīng)配置為相對(duì)于軸X及Y且在兩個(gè)非平行方向上傾斜。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的計(jì)量目標(biāo),其經(jīng)配置為基于疊紋效應(yīng)的目標(biāo)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的計(jì)量目標(biāo),其使至少一個(gè)目標(biāo)層的所述周期性結(jié)構(gòu)經(jīng)配置為相對(duì)于軸X及Y且在兩個(gè)非平行方向上傾斜。
5.根據(jù)權(quán)利要求2到4中任一權(quán)利要求所述的計(jì)量目標(biāo),其包括至少三個(gè)層,其中傾斜周期性結(jié)構(gòu)在所述層中的一者中。
6.根據(jù)權(quán)利要求1到5中任一權(quán)利要求所述的計(jì)量目標(biāo),其使一個(gè)測(cè)量方向相對(duì)于所述光刻工具的所述X軸傾斜,其中所述傾斜周期性結(jié)構(gòu)具有在節(jié)距及/或CD(臨界尺寸)上不同的兩個(gè)類(lèi)型。
7.根據(jù)權(quán)利要求1到6中任一權(quán)利要求所述的計(jì)量目標(biāo),其中所述傾斜周期性結(jié)構(gòu)經(jīng)設(shè)置以充填具有沿著所述X及所述Y軸的邊的矩形。
8.根據(jù)權(quán)利要求1到7中任一權(quán)利要求所述的計(jì)量目標(biāo),其中所述傾斜周期性結(jié)構(gòu)經(jīng)設(shè)置以充填根據(jù)可用晶片面積設(shè)計(jì)的指定空間。
9.根據(jù)權(quán)利要求1到8中任一權(quán)利要求所述的計(jì)量目標(biāo),其中所述傾斜周期性結(jié)構(gòu)經(jīng)設(shè)置以充填根據(jù)可用晶片面積設(shè)計(jì)的凸四邊形。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的計(jì)量目標(biāo),其經(jīng)配置為SEM(掃描電子顯微鏡)目標(biāo),其具有兩個(gè)部分重疊的、交替的周期性結(jié)構(gòu),其兩者相對(duì)于所述X軸傾斜。
11.根據(jù)權(quán)利要求1到10中任一權(quán)利要求所述的計(jì)量目標(biāo),其中所述周期性結(jié)構(gòu)的元件經(jīng)分段。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的計(jì)量目標(biāo),其中所述元件的分段是二維的。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的計(jì)量目標(biāo),其中所述分段的節(jié)距是對(duì)應(yīng)周期性結(jié)構(gòu)的節(jié)距的五分之一或更小。
14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的計(jì)量目標(biāo),其中所述片段是矩形的。
15.根據(jù)權(quán)利要求1到14中任一權(quán)利要求所述的計(jì)量目標(biāo),其中所述傾斜周期性結(jié)構(gòu)相對(duì)于對(duì)應(yīng)軸X及Y形成介于20°與70°之間的角度。
16.根據(jù)權(quán)利要求1到14中任一權(quán)利要求所述的計(jì)量目標(biāo),其中所述目標(biāo)進(jìn)一步包括具有所述周期性結(jié)構(gòu)的兩者之間的輔助特征部的至少一個(gè)中間層。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的計(jì)量目標(biāo),其中所述輔助特征部相對(duì)于軸X及Y傾斜。
18.根據(jù)權(quán)利要求1到17中任一權(quán)利要求所述的計(jì)量目標(biāo),其中所述周期性結(jié)構(gòu)的至少兩者并排放置。
19.一種根據(jù)權(quán)利要求1到18中任一權(quán)利要求所述的計(jì)量目標(biāo)的目標(biāo)設(shè)計(jì)文件。
20.一種根據(jù)權(quán)利要求1到18中任一權(quán)利要求所述的計(jì)量目標(biāo)的計(jì)量測(cè)量。
21.一種根據(jù)權(quán)利要求1到18中任一權(quán)利要求所述的計(jì)量目標(biāo)的計(jì)量測(cè)量方法,其中通過(guò)圖像處理及/或信號(hào)建模調(diào)整給定計(jì)量測(cè)量算法以從所述傾斜周期性結(jié)構(gòu)導(dǎo)出對(duì)應(yīng)信號(hào)。
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