[發(fā)明專利]具有傾斜周期性結(jié)構(gòu)的計量目標及方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201880085027.1 | 申請日： | 2018-11-29 |
| 公開（公告）號： | CN111542784A | 公開（公告）日： | 2020-08-14 |
| 發(fā)明（設計）人： | F·約埃爾;M·吉諾烏克;A·斯維澤爾;V·萊溫斯基;I·塔爾西斯-沙皮爾 | 申請（專利權(quán)）人： | 科磊股份有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京律盟知識產(chǎn)權(quán)代理有限責任公司 11287 | 代理人： | 劉麗楠 |
| 地址： | 美國加利*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 具有 傾斜 周期性 結(jié)構(gòu) 計量 目標 方法 | ||
1.一種計量目標，其包括多個周期性結(jié)構(gòu)且通過具有正交產(chǎn)生軸X及Y的光刻工具產(chǎn)生，其中所述周期性結(jié)構(gòu)的至少一者相對于軸X及Y傾斜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的計量目標，其經(jīng)配置為成像目標且使至少一個目標層的所述周期性結(jié)構(gòu)經(jīng)配置為相對于軸X及Y且在兩個非平行方向上傾斜。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的計量目標，其經(jīng)配置為基于疊紋效應的目標。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的計量目標，其使至少一個目標層的所述周期性結(jié)構(gòu)經(jīng)配置為相對于軸X及Y且在兩個非平行方向上傾斜。
5.根據(jù)權(quán)利要求2到4中任一權(quán)利要求所述的計量目標，其包括至少三個層，其中傾斜周期性結(jié)構(gòu)在所述層中的一者中。
6.根據(jù)權(quán)利要求1到5中任一權(quán)利要求所述的計量目標，其使一個測量方向相對于所述光刻工具的所述X軸傾斜，其中所述傾斜周期性結(jié)構(gòu)具有在節(jié)距及/或CD(臨界尺寸)上不同的兩個類型。
7.根據(jù)權(quán)利要求1到6中任一權(quán)利要求所述的計量目標，其中所述傾斜周期性結(jié)構(gòu)經(jīng)設置以充填具有沿著所述X及所述Y軸的邊的矩形。
8.根據(jù)權(quán)利要求1到7中任一權(quán)利要求所述的計量目標，其中所述傾斜周期性結(jié)構(gòu)經(jīng)設置以充填根據(jù)可用晶片面積設計的指定空間。
9.根據(jù)權(quán)利要求1到8中任一權(quán)利要求所述的計量目標，其中所述傾斜周期性結(jié)構(gòu)經(jīng)設置以充填根據(jù)可用晶片面積設計的凸四邊形。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的計量目標，其經(jīng)配置為SEM(掃描電子顯微鏡)目標，其具有兩個部分重疊的、交替的周期性結(jié)構(gòu)，其兩者相對于所述X軸傾斜。
11.根據(jù)權(quán)利要求1到10中任一權(quán)利要求所述的計量目標，其中所述周期性結(jié)構(gòu)的元件經(jīng)分段。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的計量目標，其中所述元件的分段是二維的。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的計量目標，其中所述分段的節(jié)距是對應周期性結(jié)構(gòu)的節(jié)距的五分之一或更小。
14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的計量目標，其中所述片段是矩形的。
15.根據(jù)權(quán)利要求1到14中任一權(quán)利要求所述的計量目標，其中所述傾斜周期性結(jié)構(gòu)相對于對應軸X及Y形成介于20°與70°之間的角度。
16.根據(jù)權(quán)利要求1到14中任一權(quán)利要求所述的計量目標，其中所述目標進一步包括具有所述周期性結(jié)構(gòu)的兩者之間的輔助特征部的至少一個中間層。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的計量目標，其中所述輔助特征部相對于軸X及Y傾斜。
18.根據(jù)權(quán)利要求1到17中任一權(quán)利要求所述的計量目標，其中所述周期性結(jié)構(gòu)的至少兩者并排放置。
19.一種根據(jù)權(quán)利要求1到18中任一權(quán)利要求所述的計量目標的目標設計文件。
20.一種根據(jù)權(quán)利要求1到18中任一權(quán)利要求所述的計量目標的計量測量。
21.一種根據(jù)權(quán)利要求1到18中任一權(quán)利要求所述的計量目標的計量測量方法，其中通過圖像處理及/或信號建模調(diào)整給定計量測量算法以從所述傾斜周期性結(jié)構(gòu)導出對應信號。
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