[發明專利]具有傾斜周期性結構的計量目標及方法

在審

• 申請號: 201880085027.1
• 申請日: 2018-11-29
• 公開（公告）號: CN111542784A
• 公開（公告）日: 2020-08-14
• 發明（設計）人: F·約埃爾;M·吉諾烏克;A·斯維澤爾;V·萊溫斯基;I·塔爾西斯-沙皮爾
• 申請（專利權）人: 科磊股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287
• 代理人: 劉麗楠

本發明揭示計量目標、其設計方法及測量方法，所述目標具備相對于光刻工具的正交產生軸X及Y傾斜的周期性結構，從而實現具有對角線(傾斜(oblique/tilted))元件的裝置(例如DRAM裝置)的更準確疊加測量。一或多個傾斜周期性結構可用于提供關于一或多個層的一維或二維信號，從而可能提供針對應用到一個層的多個步驟的疊加測量。所述傾斜周期性結構可用于修改當前計量目標設計(例如，成像目標及/或散射測量目標)或設計新的目標，且可分別調整測量算法以從所述傾斜周期性結構導出信號及/或提供其預處理圖像。所揭示的目標是過程兼容的且更準確地反映關于各種過程步驟的裝置疊加。

相關申請案的交叉參考

此申請案主張2018年1月12日申請的第62/617,086號美國臨時專利申請案的權益，所述申請案的全文以引用方式并入本文。

技術領域

本發明涉及計量領域，且更特定來說，涉及計量目標設計。

背景技術

其全部內容以引用方式并入本文中的第6,921,916號美國專利案揭示用于確定襯底的兩個或兩個以上連續層之間或襯底的單個層上的兩個或兩個以上單獨產生的圖案之間的相對位置的疊加標記；且其全部內容以引用方式并入本文中的第2007/0008533號美國專利公開案揭示具有靈活對稱特性的疊加目標及用于測量此類目標的兩個或兩個以上連續層之間的疊加誤差的計量技術。

發明內容

下文是提供對本發明的初步理解的簡化概述。所述概述未必識別關鍵元素，也不限制本發明的范圍，而僅充當下列描述的介紹。

本發明的一個方面提供一種計量目標，其包括多個周期性結構且通過具有正交產生軸X及Y的光刻工具產生，其中所述周期性結構的至少一者相對于軸X及Y傾斜。

本發明的這些、額外及/或其它方面及/或優點在下列實施方式中陳述；可能可從實施方式推導；及/或可通過本發明的實踐而學習。

附圖說明

為更好理解本發明的實施例且展示可如何實行所述實施例，現將純粹通過實例參考隨附圖式，其中貫穿全文相同數字指定對應元件或區段。

在附圖中：

圖1A到1E是裝置的一個層(圖1A)及用于提供疊加計量目標以測量裝置80的不同層或特征部之間的疊加的現有技術方法(圖1B到1E)的高級示意圖。

圖2A、2B及3到5是根據本發明的一些實施例的計量目標、周期性結構及其元件的高級示意圖。

圖6B是與圖6A中示意性說明的現有技術目標比較的根據本發明的一些實施例的計量目標的高級示意圖。

圖7A、7B及7C是根據本發明的一些實施例的分段邊緣配置的高級示意圖。

圖8是說明根據本發明的一些實施例的方法的高級流程圖。

具體實施方式

在下列描述中，描述本發明的各種方面。出于解釋的目的，陳述特定配置及細節以便提供對本發明的透徹理解。然而，所屬領域的技術人員還將明白，可在無本文呈現的特定細節的情況下實踐本發明。此外，可能已省略或簡化眾所周知的特征以不致使本發明模糊。具體參考圖式，強調所展示的細節僅是通過實例且僅出于本發明的說明性討論的目的，且是為提供據信為本發明的原理及概念性方面的最有用且容易理解的描述的內容而呈現。就此來說，未嘗試比基本理解本發明所需更詳細地展示本發明的結構細節，結合圖式進行的描述使所屬領域的技術人員了解本發明的若干形式可如何在實踐中體現。