[發明專利]圖案形成方法、晶體管的制造方法和圖案形成用部件

有效

• 申請號: 201880079273.6
• 申請日: 2018-12-11
• 公開（公告）號: CN111433675B
• 公開（公告）日: 2023-08-29
• 發明（設計）人: 川上雄介
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F7/004
• 分類號: G03F7/004;C07F7/18;G03F7/09;G03F7/095;G03F7/20
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 于潔;褚瑤楊

本發明提供一種圖案形成方法，其是在對象物的被處理面上形成圖案的圖案形成方法，其包括下述工序：第1層形成工序，在上述被處理面上形成第1層，該第1層包含具有能夠用酸分解、并且還能夠用光分解的保護基團的化合物；第2層形成工序，在上述第1層上形成包含通過曝光而產生酸的光產酸劑的第2層；曝光工序，對上述第1層和上述第2層進行曝光，在上述第1層上形成由曝光區域和未曝光區域構成的潛像；以及配置工序，將圖案形成材料配置在上述曝光區域或上述未曝光區域。

技術領域

本發明涉及圖案形成方法、晶體管的制造方法和圖案形成用部件。

本申請基于2017年12月13日在日本提交的日本特愿2017-238552號要求優先權，將其內容援引于此。

背景技術

近年來，在半導體元件、集成電路、有機EL顯示器用器件等微細器件等的制造中，提出了下述方法：在基板上形成表面特性不同的圖案，利用該表面特性的差異來制作微細器件。

作為利用基板上的表面特性的差異的圖案形成方法，例如有在基板上形成親水區域和疏水區域并將功能性材料的水溶液涂布至親水區域的方法。該方法中，功能性材料的水溶液僅在親水區域潤濕鋪展，因而能夠形成功能性材料的薄膜圖案。

作為能夠在基板上形成親水區域和疏水區域的材料，近年來使用了偶聯劑。專利文獻1中記載了一種在光照射前后能夠使接觸角發生顯著變化的光分解性偶聯劑。這樣的光分解性偶聯劑優選對光的靈敏度優異。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2008-50321號公報

發明內容

本發明的第1方式涉及一種圖案形成方法，其是在對象物的被處理面上形成圖案的圖案形成方法，其包括下述工序：第1層形成工序，在上述被處理面上形成第1層，該第1層包含具有能夠用酸分解、并且還能夠用光分解的保護基團的化合物；第2層形成工序，在上述第1層上形成包含通過曝光而產生酸的光產酸劑的第2層；曝光工序，隔著上述第2層對上述第1層進行曝光，在上述第1層形成由曝光區域和未曝光區域構成的潛像；以及配置工序，將圖案形成材料配置在上述曝光區域或上述未曝光區域。

本發明的第2方式涉及一種晶體管的制造方法，其包括利用第1方式的圖案形成方法形成柵電極、源電極、漏電極中的至少1種電極的工序。

本發明的第3方式涉及一種圖案形成方法，其是在對象物的被處理面上形成圖案的圖案形成方法，其包括下述工序：第1層形成工序，在上述被處理面上形成第1層，該第1層包含具有能夠用酸分解、并且還能夠用光分解的保護基團的化合物；第2層形成工序，在上述第1層上形成包含通過曝光而產生酸的光產酸劑的第2層；曝光工序，對上述第1層和上述第2層進行曝光，在上述第1層上形成由曝光區域和未曝光區域構成的潛像；以及化學鍍覆工序，將化學鍍覆用催化劑配置在上述曝光區域或未曝光區域，進行化學鍍覆。

本發明的第4方式涉及一種晶體管的制造方法，其包括利用第3方式的圖案形成方法形成柵電極、源電極、漏電極中的至少1種電極的工序。

本發明的第5方式涉及一種圖案形成用部件，其具有規定的基板、設置在上述基板上的第1層、以及設置在上述第1層上的第2層，上述第1層包含具有能夠用酸分解、并且還能夠用光分解的保護基團的化合物，上述第2層包含通過曝光而產生酸的光產酸劑。

附圖說明

圖1是示出本實施方式的圖案形成方法中優選的基板處理裝置的整體構成的示意圖。

圖2是示出圖案形成方法的示意性工序的圖。

圖3是示出晶體管的制造方法的示意性工序的一例的圖。

具體實施方式

圖案形成方法