[發明專利]具有單獨附件饋通的襯底運輸裝置

在審

• 申請號: 201880078979.0
• 申請日: 2018-10-05
• 公開（公告）號: CN111432986A
• 公開（公告）日: 2020-07-17
• 發明（設計）人: S.E.普萊斯特;L.F.沙羅克;C.艾特肯
• 申請（專利權）人: 布魯克斯自動化公司
• 主分類號: B25J9/00
• 分類號: B25J9/00;B25J9/04;B25J9/08;B25J9/10;B25J11/00;G05B19/04;H01L21/677
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 鄒松青;劉茜

一種襯底運輸裝置包括：框架；連接到所述框架的襯底運輸臂，所述襯底運輸臂具有末端執行器；以及驅動區段，所述驅動區段具有聯接到所述襯底運輸臂的至少一個電機，其中所述至少一個電機限定所述驅動區段的運動學部分，所述驅動區段的運動學部分被構造成實現所述襯底運輸臂的運動學運動，并且所述驅動區段包括與所述運動學部分相鄰的附件部分，其中所述附件部分具有不同且區別于所述至少一個電機的另一電機，所述附件部分的所述另一電機可操作地聯接到一個或多個附件設備并且被構造成獨立于所述襯底運輸臂的所述運動學運動驅動一個或多個附件設備。

相關申請的交叉引用

此非臨時專利申請要求于2017年10月5日提交的的美國臨時專利申請第62/568,541號的優先權和權益，所述美國臨時專利申請的公開內容以全文引用方式并入本文中。

背景技術

1. 技術領域

示例性實施例總體涉及襯底加工裝置，并且更具體地涉及襯底運輸裝置。

2. 相關發展的簡要描述

用于半導體集成電路的常規制造技術可以包括在全自動真空工具中對硅晶片（通常稱為襯底）的加工。典型工具可以包括群集真空室或線性真空室（兩者都通常稱為傳送室），其具有連接到相應傳送室的周界的負載鎖（load lock）和加工模塊（兩者都通常稱為站）。所述工具通常由位于傳送室內的真空環境襯底運輸裝置服務，并且例如在負載鎖與加工模塊之間運輸襯底。所述工具還可以包括聯接到傳送室的大氣區段。大氣區段可以包括在盒（也稱為站）與負載鎖之間運輸襯底的大氣襯底運輸裝置。

在典型自動襯底處理過程中，襯底首先由襯底運輸裝置拾取用于從一個站傳送到另一站。在傳送期間，襯底相對于襯底運輸裝置的襯底保持器經受移位/滑動。通常采用主動/被動抓握末端執行器來減輕/基本上消除滑動。還采用襯底對準設備來確定在襯底放置在站處之前由襯底運輸裝置保持的襯底的滑動/偏心度的量。通常，主動抓握末端執行器（active grip end effector）和對準器采用動力和控制源來進行操作，該動力和控制源由真空和/或通過襯底運輸裝置的臂連桿饋送到末端執行器的電纜提供。電纜因襯底運輸裝置的鉸接所致的撓曲可能產生污染顆粒，絕緣件可能在真空中釋放不想要的氣體，并且電纜通道必須充分密封以維持其中設置有襯底運輸裝置的傳送室內的受控氣氛的隔離。

為最小化電纜延伸的長度以及與其相關聯的問題，一些常規運輸裝置可以在鉸接接頭處采用滑環，所述滑環轉而也經受沿著滑環接觸表面的微粒污染產生。此外，滑環昂貴，襯底運輸裝置的成本相當地增加。此外，向位于可隔離傳送室中的常規運輸裝置的末端執行器提供動力和控制的電纜和/或管道形成物理聯結，從而將常規運輸裝置聯結到傳送室的以其他方式固定的電源或控制源。

由真空和/或電氣饋通（electrical feedthrough）提供動力的主動抓握器和對準器到襯底加工系統的添加可以幫助增加襯底加工系統的產出量，但是這些真空和/或電氣饋通可能增加成本、復雜性以及到襯底加工系統的顆粒的產生。

將有利的是，提供帶有動力附件的襯底運輸裝置來增加襯底處理可靠性和/或產出速度，或者在不利用真空和/或在不受控環境與襯底運輸裝置操作所在的受控環境之間延伸的電氣饋通的情況下在襯底運輸裝置中產生動力。

附圖說明

在結合附圖考慮的以下描述中解釋所公開實施例的前述方面和其他特征，在附圖中：

圖1A-圖1H是包含所公開實施例的方面的襯底加工裝置構造的示意性圖解；

圖2A-圖2E是根據所公開實施例的方面的襯底運輸臂的示意性圖解；

圖3是根據所公開實施例的方面的襯底運輸裝置的示意性圖解；

圖3A是根據所公開實施例的方面的襯底運輸裝置的一部分的示意性圖解；

圖4是根據所公開實施例的方面的襯底運輸裝置的一部分的示意性圖解；