[發明專利]發光裝置及其制造方法

有效

• 申請號: 201880078807.3
• 申請日: 2018-11-28
• 公開（公告）號: CN111448725B
• 公開（公告）日: 2023-03-31
• 發明（設計）人: 廣瀬和義;黑坂剛孝;瀧口優;杉山貴浩
• 申請（專利權）人: 浜松光子學株式會社
• 主分類號: H01S5/18
• 分類號: H01S5/18
• 代理公司: 北京尚誠知識產權代理有限公司 11322
• 代理人: 楊琦

本實施方式涉及一種分別關聯的不同折射率區域的重心位置與晶格點的位置關系與現有的發光裝置不同的發光裝置及其制造方法。在該發光裝置中，在基板上設置有包含發光部和與該發光部光學耦合的相位調制層的層疊體。相位調制層包含基本層和設置于該基本層內的多個不同折射率區域。各不同折射率區域的重心位置配置于通過設定于基本層的設計面上的假想的正方晶格的晶格點中的對應的基準晶格點的假想直線上。另外，基準晶格點與不同折射率區域的重心的沿該假想直線的距離以從該發光裝置輸出形成光學圖像的光的方式對多個不同折射率區域的各個個別地設定。

技術領域

本發明涉及一種發光裝置及其制造方法。

背景技術

在專利文獻1中記載了涉及作為發光裝置的半導體發光元件的技術。該半導體發光元件具備活性層、夾持該活性層的一對包覆層、以及與活性層光學耦合的相位調制層。相位調制層包含基本層和分別具有與基本層的折射率不同的折射率的多個不同折射率區域。在設定了使相位調制層的厚度方向與Z軸方向一致的XYZ正交坐標系，進一步在相當于該相位調制層的設計面的X-Y平面上設定了晶格間隔a的假想的正方晶格的情況下，不同折射率區域分別以各重心位置從假想的正方晶格中的晶格點(關聯于不同折射率區域的任一者的晶格點)偏移距離r的方式配置。距離r滿足0r≤0.3a。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：國際公開第2016/148075號

發明內容

發明所要解決的技術問題

本發明人們對現有的發光裝置進行了研究，結果發現了以下問題。即，研究通過控制從二維狀地排列的多個發光點輸出的光的相位譜和強度譜來輸出任意的光學圖像的發光裝置。作為這樣的發光裝置的構造之一，存在一種包含設置于基板上的相位調制層的構造。相位調制層包含基本層和分別具有與基本層的折射率不同的折射率的多個不同折射率區域。在正交于該相位調制層的厚度方向的面(設計面)上設定有假想的正方晶格的情況下，以各重心位置分別對應于應當輸出的光學圖像而從假想的正方晶格的相對應的晶格點的位置偏移的方式，分別配置不同折射率區域。這種發光裝置被稱為S-iPM(靜態可積分相位調制(Static-integrable Phase Modulating))激光器，沿相對于基板的主面的法線方向傾斜的方向輸出形成任意形狀的光學圖像的光。

一直以來，作為這種發光裝置，如上述專利文獻1所記載的半導體發光元件那樣，已知有一種在不同折射率區域的重心位置的各個離開假想的正方晶格的對應的晶格點的狀態下，以構成對應于在該對應的晶格點周圍應當輸出的光學圖像的旋轉角度的方式配置的發光裝置。然而，只要可以實現分別關聯的不同折射率區域的重心位置與晶格點的位置關系與現有不同的新的發光裝置，則相位調制層的設計的寬度擴大，是極為有用的。

本發明為了解決上述問題而完成，其目的在于，提供一種分別關聯的不同折射率區域的重心位置與晶格點的位置關系與現有不同的新的發光裝置及其制造方法。

解決問題的技術手段

本發明所涉及的發光裝置是一種沿主面的法線方向以及相對于該法線方向傾斜的傾斜方向中的至少任一者的方向輸出用于形成光學圖像的光的發光裝置，具備用于解決上述問題的構造。即，該發光裝置具備：基板，其具有主面；發光部，其設置于基板上；相位調制層，其在與發光部光學耦合的狀態下設置于基板上。相位調制層包含基本層、以及具有與該基本層的折射率不同的折射率的多個不同折射率區域。當在垂直于相位調制層的厚度方向的該相位調制層的設計面上設定有假想的正方晶格時，多個不同折射率區域的重心位置的各個配置于通過假想的正方晶格的對應的晶格點，并且相對于該正方晶格傾斜的直線上。另外，不同折射率區域的重心位置與對應的晶格點的各距離以形成光學圖像的光從該發光裝置輸出的方式個別地設定。

發明的效果

根據本發明，能夠提供一種分別關聯的不同折射率區域的重心位置與晶格點的位置關系與現有的發光裝置不同的發光裝置。