[發(fā)明專利]用于預(yù)測(cè)層變形的系統(tǒng)和方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201880078584.0
• 申請(qǐng)日: 2018-11-29
• 公開（公告）號(hào): CN111433680B
• 公開（公告）日: 2023-01-20
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: C·巴蒂斯塔奇斯;S·A·米德爾布魯克斯;S·F·伍伊斯特
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 王益

1.一種確定抗蝕劑的變形的方法，包括：

初始化用于模擬所述抗蝕劑中的圖案的一部分的變形過程的抗蝕劑變形模型，所述抗蝕劑變形模型模擬作為在一段時(shí)間內(nèi)呈現(xiàn)流體行為的黏彈性材料的所述抗蝕劑，且所述抗蝕劑變形模型是被配置為模擬作用于所述抗蝕劑的流體內(nèi)力的流體動(dòng)力學(xué)模型；以及

由硬件計(jì)算機(jī)系統(tǒng)使用所述流體動(dòng)力學(xué)模型執(zhí)行所述變形過程的計(jì)算機(jī)模擬，以獲得對(duì)應(yīng)于輸入圖案的經(jīng)顯影抗蝕劑圖案的變形，所述模擬被執(zhí)行多次迭代直到滿足一準(zhǔn)則為止，其中，在每次迭代中更新與所述流體動(dòng)力學(xué)模型相關(guān)聯(lián)的至少一個(gè)參數(shù)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述流體動(dòng)力學(xué)模型基于納維-斯托克斯流動(dòng)方程。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述流體內(nèi)力至少與表面張力有關(guān)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，在多個(gè)位置處確定所述變形，每個(gè)位置與位于針對(duì)所述輸入圖案的經(jīng)顯影抗蝕劑圖案的經(jīng)顯影部分的邊界上的一點(diǎn)對(duì)應(yīng)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，在一位置處通過至少對(duì)于與所述輸入圖案相關(guān)聯(lián)的圖像中在所述位置處的像素所對(duì)應(yīng)于的速度向量進(jìn)行計(jì)算，來獲得經(jīng)顯影抗蝕劑圖案的變形。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，與所述流體動(dòng)力學(xué)模型相關(guān)聯(lián)的至少一個(gè)參數(shù)包括或者涉及所述抗蝕劑的密度、所述抗蝕劑的黏度、所述抗蝕劑的表面張力、和/或時(shí)間；和/或

其中，所述抗蝕劑的密度、所述抗蝕劑的黏度、和所述抗蝕劑的表面張力通過對(duì)應(yīng)于所述抗蝕劑的奧內(nèi)佐格數(shù)而彼此相關(guān)，或者所述抗蝕劑的黏度和所述抗蝕劑的表面張力通過毛細(xì)數(shù)而彼此相關(guān)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，在所述計(jì)算機(jī)模擬的每次迭代時(shí)修改的所述至少一個(gè)參數(shù)是所述抗蝕劑的奧內(nèi)佐格數(shù)或毛細(xì)數(shù)。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括：

使用所述流體動(dòng)力學(xué)模型計(jì)算設(shè)置在經(jīng)顯影抗蝕劑圖案的邊界上的一對(duì)位置之間的尺寸；以及

對(duì)實(shí)際上經(jīng)顯影抗蝕劑圖案的測(cè)得尺寸與所計(jì)算出的尺寸之間的誤差進(jìn)行計(jì)算。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其中，所述準(zhǔn)則對(duì)應(yīng)于滿足或跨超過某一誤差閾值的所計(jì)算出的誤差。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括：

在滿足所述準(zhǔn)則之后獲得所述流體動(dòng)力學(xué)模型的參數(shù)的值；

接收另一輸入圖案的布局；以及

使用所述流體動(dòng)力學(xué)模型基于所述流體動(dòng)力學(xué)模型的參數(shù)的所得到的值來創(chuàng)建關(guān)于與所述另一輸入圖案的經(jīng)顯影抗蝕劑圖案的變形對(duì)應(yīng)的電子數(shù)據(jù)。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述抗蝕劑是負(fù)調(diào)性抗蝕劑或正調(diào)性抗蝕劑。

12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述輸入圖案呈二元圖像的形式；和/或

其中，所述方法還包括產(chǎn)生所述二元圖像，產(chǎn)生所述二元圖像的步驟包括：

獲得對(duì)應(yīng)于所述輸入圖案的圖案形成裝置圖案；

基于所述圖案形成裝置圖案來產(chǎn)生空間圖像；以及

提取所述空間圖像中的圖案的邊界以產(chǎn)生所述二元圖像。

13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述初始化步驟還包括將一組邊界條件應(yīng)用于所述流體動(dòng)力學(xué)模型；和/或

其中，所述一組邊界條件包括將所述抗蝕劑在所述經(jīng)顯影抗蝕劑圖案的邊界處的壓力值設(shè)定為零。

14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，在所述抗蝕劑圖案中針對(duì)至少兩種液體指定所述抗蝕劑變形模型，其中，所述至少兩種液體中每種液體具有不同的黏度。

15.一種非暫時(shí)性機(jī)器可讀介質(zhì)，包括儲(chǔ)存在所述非暫時(shí)性機(jī)器可讀介質(zhì)上的機(jī)器可讀指令，所述機(jī)器可讀指令用于使得處理器執(zhí)行根據(jù)權(quán)利要求1至14中任一項(xiàng)所述的方法。