[發(fā)明專利]通過尺寸排阻色譜法確定顆粒尺寸分布

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• 申請?zhí)枺?/td>: 201880078016.0
• 申請日: 2018-12-11
• 公開（公告）號: CN111448448A
• 公開（公告）日: 2020-07-24
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 奧克薩納·巴克;塞伊·拉通德-達(dá)達(dá);馬科斯·特賴克里奧蒂斯;戴維·巴克
• 申請（專利權(quán)）人: 馬爾文帕納科
• 主分類號: G01N15/02
• 分類號: G01N15/02;G01N30/02;G01N21/49;G01N21/53;G01N15/06
• 代理公司: 北京康信知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11240
• 代理人: 王紅艷

1.一種表征包含顆粒的樣本的方法，所述方法包括：

使用第一顆粒表征技術(shù)對所述樣本執(zhí)行第一測量；

使所述樣本從所述第一顆粒表征技術(shù)流到顆粒分離裝置；

用所述顆粒分離裝置分離所述樣本；以及

對所分離的樣本執(zhí)行第二測量。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述顆粒分離裝置包括色譜柱，并且可選地，其中，所述色譜柱是尺寸排阻色譜柱。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，進(jìn)一步包括確定所述樣本的顆粒特性分布，并且可選地，其中，所述顆粒特性是顆粒質(zhì)量或顆粒尺寸。

4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的方法，進(jìn)一步包括使所述樣本從所述分離器裝置流回到所述第一顆粒表征技術(shù)。

5.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法，其中，執(zhí)行所述第二測量包括使用所述第一顆粒表征技術(shù)對所述樣本執(zhí)行所述第二測量。

6.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法，進(jìn)一步包括：在用所述顆粒分離裝置分離所述樣本之前和/或之后，對所述樣本執(zhí)行附加測量。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其中，執(zhí)行所述附加測量包括：使用所述第一顆粒表征技術(shù)對所述樣本執(zhí)行附加測量；或者使用第二顆粒表征技術(shù)對所述樣本執(zhí)行附加測量，所述第二顆粒表征技術(shù)不同于所述第一顆粒表征技術(shù)。

8.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法，進(jìn)一步包括比較所述第一測量和所述第二測量以確定所述樣本的所有顆粒是否已經(jīng)通過所述分離裝置。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其中，比較所述第一測量和第二測量包括：

確定所述第二測量是否與所述第一測量匹配；以及

如果所述第二測量確實與所述第一測量匹配，則確定所述樣本的所有顆粒都已通過所述分離裝置；以及

如果所述第二測量與所述第一測量不匹配，則確定不是所有的所述樣本的所述顆粒都已通過所述分離裝置。

10.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法，其中，將所述樣本從所述第一顆粒表征技術(shù)流到所述顆粒分離裝置包括操作閥以將所述樣本從所述第一顆粒表征技術(shù)引導(dǎo)到所述顆粒分離裝置。

11.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法，其中，所述第一顆粒表征和/或第二顆粒表征技術(shù)包括一種或多種整體顆粒表征技術(shù)。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中，一種或多種整體顆粒表征技術(shù)選自包括以下項的組：UV光譜法、動態(tài)光散射、靜態(tài)光散射，以及泰勒分散分析，以及UV光度法。

13.一種顆粒表征平臺，包括：

測量系統(tǒng)，用于根據(jù)第一顆粒表征技術(shù)執(zhí)行測量；以及

顆粒分離裝置，用于分離包含顆粒的樣本；

其中，所述顆粒表征平臺被配置為執(zhí)行權(quán)利要求1至12中任一項的方法。

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的顆粒表征平臺，其中，所述顆粒分離裝置包括色譜柱，并且可選地，其中，所述色譜柱是尺寸排阻色譜柱。

15.根據(jù)權(quán)利要求13或權(quán)利要求14所述的顆粒表征平臺，其中，所述測量系統(tǒng)進(jìn)一步被配置為根據(jù)第二顆粒表征技術(shù)來執(zhí)行測量。

16.根據(jù)權(quán)利要求13至15中任一項所述的顆粒表征平臺，其中，所述顆粒表征平臺被配置為使樣本流至所述測量系統(tǒng)以執(zhí)行所述第一測量，然后使樣本流至所述顆粒分離裝置以分離所述樣本，并且然后使樣本流回至所述測量系統(tǒng)以執(zhí)行所述第二測量。