[發明專利]具有可移除地可插入的殘留物收集器的氣溶膠生成裝置

有效

• 申請號: 201880077306.3
• 申請日: 2018-12-18
• 公開（公告）號: CN111417323B
• 公開（公告）日: 2023-10-10
• 發明（設計）人: D·魯肖;K·D·費爾南多;B·馬勒;E·P·莫克;A·蘭茨;P·波恩哈德;N·J·彼特米德;M·特倫扎
• 申請（專利權）人: 菲利普莫里斯生產公司
• 主分類號: A24F40/40
• 分類號: A24F40/40;A24F40/46
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 張豐豪

一種氣溶膠生成系統包括具有用于加熱氣溶膠形成基質的加熱室(106)的氣溶膠生成裝置(102)，加熱室(106)由具有開口(110)的第一端(112)，具有基部(114)的第二端(116)，以及在開口(110)和基部(114)之間延伸的側壁(108)限定。氣溶膠生成系統還包括殘留物收集器(1)，所述殘留物收集器可移除地可插入加熱室(106)中并且在加熱室(106)內可定位在第二端(116)處或附近。加熱室(106)還包括在側壁(108)中的第一側開口(118a)和在側壁(108)中與第一側開口(118a)相對的第二側開口(118b)。殘留物收集器(1)通過第一和第二側開口(118a、118b)可插入加熱室(106)中并且從加熱室(106)可移除。

本發明涉及用于加熱氣溶膠生成制品以形成可吸入氣溶膠的氣溶膠生成系統。特別地，本發明涉及包括可移除地可插入的殘留物收集器的系統。殘留物收集器配置成定位在氣溶膠生成系統的加熱室的基部處或附近。

用于生成供用戶吸入的氣溶膠的裝置在本領域中是已知的。這樣的裝置通常包括加熱室以接收包括氣溶膠形成基質的氣溶膠生成制品。這樣的裝置通常還包括加熱器組件，所述加熱器組件配置成加熱加熱室內的氣溶膠形成基質以便生成可吸入氣溶膠。例如，WO2013/102614公開了一種包括加熱室的氣溶膠生成裝置，所述加熱室用于接收包括固體氣溶膠形成基質的氣溶膠生成制品。在使用中，氣溶膠生成制品插入加熱室中并釘在布置在室內的加熱器上。加熱器可以被激活以加熱氣溶膠形成基質并生成氣溶膠。在消耗后，將氣溶膠生成制品從裝置移除并丟棄。

氣溶膠形成基質在這樣的氣溶膠生成裝置中的插入、移除和加熱通常會在加熱室內產生殘留物，例如松散的碎屑。加熱過程中產生的殘留物可能積聚在加熱器上，特別是在穿透到基質中的內部加熱器上。殘留物也可能積聚在加熱室的內壁上。當將氣溶膠形成基質插入加熱室中或從加熱室移除時，來自氣溶膠生成制品的氣溶膠形成基質的顆粒或碎片可能變松并釋放到加熱室中。這些形式的碎屑可能會隨著時間以及裝置的多次使用而積聚在加熱室內。特別地，碎屑可能積聚在加熱室的基部或閉合端周圍。如果有內部加熱器，則碎屑也可能積聚在加熱器的基部周圍。積聚的碎屑可能會阻礙裝置的有效操作，例如，通過從旨在用于加熱氣溶膠形成基質的加熱器吸收一些熱，或者通過影響通過裝置的氣流，或者通過抑制氣溶膠生成制品的插入和移除。

氣溶膠生成裝置的加熱室的尺寸和形狀通常設計成緊密地容納氣溶膠生成制品。因此，例如，用于容納形狀類似于傳統香煙的氣溶膠生成制品的加熱室可以是圓柱形加熱室，其尺寸略大于制品的外部尺寸。通常期望在使用之間清潔氣溶膠生成裝置的加熱室以最小化殘留物和碎屑的累積。已知提供一種用于氣溶膠生成系統的刷子，其可以在使用之間插入加熱室中以清除和移除積聚的殘留物。然而，由于氣溶膠生成系統中的加熱室的尺寸通常較小，并且加熱室內存在難以接近的拐角，因此使用刷子可能無法完全有效地移除積聚的殘留物。

在本發明的一方面，提供了一種氣溶膠生成系統，其包括具有用于加熱氣溶膠形成基質的加熱室的氣溶膠生成裝置。加熱室包括具有開口的第一端，具有基部的第二端，以及在開口和基部之間延伸的側壁。氣溶膠生成系統還包括殘留物收集器，所述殘留物收集器可移除地可插入加熱室中并且可定位在第二端處或附近。

通常，加熱室的側壁可以從基部的周邊延伸。側壁可以大致圍繞基部的整個圓周延伸。側壁可以在大致垂直于基部的方向上延伸。如本文所用，術語“垂直”涉及裝置或系統的兩個部分的大致正交的相對取向，例如加熱室的基部和側壁之間的相對取向。側壁遠離基部延伸以限定加熱室的腔。側壁可以在大致垂直于基部的方向上從基部的周邊圍繞基部的整個周邊延伸，由此形成大致圓柱形的管。在基部大致為圓形的情況下，加熱室可以形成大致直圓柱形管。與基部相對的側壁的端部或末端可以在加熱室的第一端處提供或限定開口。在該布置中，加熱室可以配置成接收類似于常規香煙的氣溶膠生成制品的一部分。

本發明的加熱室具有至少一個側壁。在加熱室具有單個側壁的情況下，側壁可以大致圍繞基部的圓周延伸。在加熱室具有一個以上側壁的情況下，側壁可以布置成大致圍繞基部的圓周延伸。加熱室可以具有任何合適數量的側壁。應當領會，對具有單個側壁的加熱室的特征的引用同樣適用于具有一個以上側壁的加熱室。