[發明專利]具有可移除地可插入的殘留物收集器的氣溶膠生成裝置

有效

• 申請號: 201880077306.3
• 申請日: 2018-12-18
• 公開（公告）號: CN111417323B
• 公開（公告）日: 2023-10-10
• 發明（設計）人: D·魯肖;K·D·費爾南多;B·馬勒;E·P·莫克;A·蘭茨;P·波恩哈德;N·J·彼特米德;M·特倫扎
• 申請（專利權）人: 菲利普莫里斯生產公司
• 主分類號: A24F40/40
• 分類號: A24F40/40;A24F40/46
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 張豐豪

1.一種氣溶膠生成系統，包括：

具有用于加熱氣溶膠形成基質的加熱室的氣溶膠生成裝置，所述加熱室包括具有開口的第一端，具有基部的第二端，以及在所述開口和所述基部之間延伸的側壁，其中

所述氣溶膠生成系統還包括殘留物收集器，所述殘留物收集器可移除地可插入所述加熱室中并且可定位在所述第二端處或附近，其中

所述加熱室還包括在所述側壁中的第一側開口和在所述側壁中與所述第一側開口相對的第二側開口，并且所述殘留物收集器通過所述第一側開口和所述第二側開口可插入所述加熱室中并且從所述加熱室可移除。

2.根據權利要求1所述的氣溶膠生成系統，其中當氣溶膠形成基質接收在所述加熱室中時，所述殘留物收集器可定位在所述加熱室的基部和氣溶膠形成基質之間。

3.根據權利要求1或2中任一項所述的氣溶膠生成系統，其中所述殘留物收集器包括主體，所述主體具有第一面，第二面，以及在所述第一面和所述第二面之間延伸的側壁，其中當所述殘留物收集器定位在所述加熱室內時，所述第二面鄰近所述加熱室的基部定位。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的氣溶膠生成系統，其中所述系統還包括加熱組件和用于向所述加熱器供電的電源。

5.根據權利要求4所述的氣溶膠生成系統，其中所述加熱組件包括加熱器，所述加熱器通過所述基部突出到所述加熱室中。

6.根據權利要求5所述的氣溶膠生成系統，其中所述殘留物收集器包括在所述第一面和所述第二面之間延伸的槽，其中所述槽配置成當所述殘留物收集器定位在所述加熱室中時接收所述加熱器。

7.根據權利要求6所述的氣溶膠生成系統，其中所述槽延伸到所述殘留物收集器的側壁，使得所述加熱器可以通過所述側壁接收在所述槽中。

8.根據權利要求7所述的氣溶膠生成系統，其中所述殘留物收集器在所述槽的相對側包括多個切口。

9.根據權利要求3至8中任一項所述的氣溶膠生成系統，其中唇部從所述殘留物收集器的第一面圍繞所述第一面的周邊突出，使得由所述第一面和所述唇部限定敞開腔。

10.根據權利要求9所述的氣溶膠生成系統，其中多個突起從所述殘留物收集器的第一面突出到由所述第一面和所述唇部限定的所述腔中。

11.根據權利要求3至10中任一項所述的氣溶膠生成系統，其中所述殘留物收集器包括在所述第一面和所述第二面之間延伸的一個或多個狹縫。

12.根據權利要求3至11中任一項所述的氣溶膠生成系統，其中所述殘留物收集器被提供作為殘留物收集器的陣列的一部分，并且其中所述陣列中的相鄰殘留物收集器在所述側壁處可釋放地固定在一起。