[發明專利]負型感光性硅氧烷組合物、以及使用了其的固化膜和電子器件的制造方法

在審

• 申請號: 201880076350.2
• 申請日: 2018-11-26
• 公開（公告）號: CN111386499A
• 公開（公告）日: 2020-07-07
• 發明（設計）人: 林昌伸
• 申請（專利權）人: 默克專利有限公司
• 主分類號: G03F7/075
• 分類號: G03F7/075;G03F7/004;G03F7/40
• 代理公司: 北京三幸商標專利事務所(普通合伙) 11216
• 代理人: 劉卓然

1.一種負型感光性組合物，其包含(I)聚硅氧烷、(II)光堿產生劑、以及(III)溶劑，

所述聚硅氧烷是包含由以下的式(Ia)以及以下的式(Ib)表示的重復單元的聚硅氧烷，

利用FT-IR法對所述聚硅氧烷進行了測定以及解析時，處于1100±100cm^-1的范圍的歸屬于Si-O的吸收帶的面積強度S1與處于900±100cm^-1的范圍的歸屬于SiOH的吸收帶的面積強度S2之比S2/S1為0.05～0.15，

式中，

R¹表示氫，1～3價的C_1～30的直鏈狀、支鏈狀或者環狀的飽和或不飽和的脂肪族烴基，或者1～3價的C_6～30的芳香族烴基，

在所述脂肪族烴基以及所述芳香族烴基中，1個以上的亞甲基被氧基、酰亞胺或者羰基取代了或者非取代，1個以上的氫被氟、羥基、或者烷氧基取代了或者非取代，或者1個以上的碳被硅取代了或者非取代，

R¹為2價或3價的情況下，R¹將多個重復單元中所含的Si彼此進行連結；

所述光堿產生劑由以下的式(PBG-A)或者(PBG-B)表示，

式中，

R^A1～R^A6各自獨立地為氫、鹵素、羥基、巰基、硫醚、甲硅烷基、硅烷醇、硝基、亞硝基、亞磺基、磺基、磺酸根、膦基、氧膦基、膦酰基、膦酸根、氨基、銨、取代或者非取代的C_1～20的脂肪族烴基、取代或者非取代的C_6～22的芳香族烴基、取代或者非取代的C_1～20的烷氧基、或者取代或者非取代的C_6～20的芳氧基，

R^A7以及R^A8各自獨立地為C_1～6的羥基烷基，或者R^A7以及R^A8利用C_2～9的亞烷基進行結合而形成環狀結構，在所述環狀結構上結合著C_1～6的羥基烷基，

R^B1～R^B8各自獨立地為氫、取代或者非取代的C_1～20的脂肪族烴基、取代或者非取代的C_6～22的芳香族烴基、取代或者非取代的C_1～20的烷氧基、或者取代或者非取代的C_6～20的芳氧基，

X^-是硼酸根離子或者羧酸根離子，其具有取代或者非取代的C_1～20的脂肪族烴基、取代或者非取代的C_6～22的芳香族烴基。

2.根據權利要求1所述的組合物，其中，所述聚硅氧烷在末端或者側鏈具有硅烷醇。

3.根據權利要求1或2所述的組合物，其中，所述R¹為氫，C_1～6的直鏈狀、支鏈狀或者環狀的烷基，或者C_6～10的芳基。

4.根據權利要求1～3中任一項所述的組合物，其中，所述聚硅氧烷包含選自由以下的式(i-1)、(i-2)以及(i-3)組成的組中的重復單元的組合，

所述重復單元(i-1)、(i-2)、以及(i-3)的配混摩爾比p1、p2、以及p3為0.4≤p1≤0.8、0≤p2≤0.4、且0.2≤p3≤0.6。

5.根據權利要求1～4中任一項所述的組合物，其中，所述聚硅氧烷的質均分子量為1,000～10,000。

6.根據權利要求1～5中任一項所述的組合物，其中，所述聚硅氧烷中所含的重復單元(Ib)相對于重復單元的總和的配混比為20mol％以上。

7.根據權利要求1～6中任一項所述的組合物，其中，所述光堿產生劑選自由以下的式(PBG-A1)～(PBG-A8)以及(PBG-B1)～(PBG-B2)組成的組中