[發明專利]解析方法、解析裝置、解析程序以及記錄解析程序的存儲介質

有效

• 申請號: 201880076287.2
• 申請日: 2018-09-05
• 公開（公告）號: CN111417860B
• 公開（公告）日: 2023-04-07
• 發明（設計）人: 嶋瀬朗;堀田和宏
• 申請（專利權）人: 浜松光子學株式會社
• 主分類號: G01R31/26
• 分類號: G01R31/26;G01R31/302
• 代理公司: 北京尚誠知識產權代理有限公司 11322
• 代理人: 楊琦

1.一種解析方法，其中，

是以半導體器件為對象進行利用光測量的解析處理的解析方法，

具備：

第1測量步驟，其取得作為輸入有測試信號的第1半導體器件上的多個位置的每個位置的光測量所獲得的時間波形的第1波形數據；

第2測量步驟，其取得作為輸入有測試信號的第2半導體器件上的多個位置的每個位置的光測量所獲得的時間波形的第2波形數據；

計算步驟，其在所述第1半導體器件的多個位置的每個位置的所述第1波形數據、與對應于該多個位置的所述第2半導體器件的多個位置的每個位置的所述第2波形數據之間，計算一致度；及

解析步驟，其基于通過所述計算步驟計算的多個位置的每個位置的一致度，解析所述第1或第2半導體器件的任一者的不良部位，

還具備：圖像產生步驟，其將通過所述計算步驟計算出的多個位置的每個位置的一致度映射于坐標上而產生一致度圖像數據，

在所述解析步驟中，基于所述一致度圖像數據而解析所述第1或第2半導體器件的任一者的不良部位，

在所述解析步驟中，使用所述一致度圖像數據，自所述一致度相對較低的所述坐標上的位置，沿著信號傳遞方向追蹤位置直至所述一致度相對較高的所述坐標上的位置，由此解析所述不良部位。

2.如權利要求1所述的解析方法，其中，

在所述解析步驟中，基于與所述第1半導體器件及所述第2半導體器件的任一者相關的屏蔽數據而制作電路圖，基于所述電路圖而決定位置追蹤的路線。

3.如權利要求1或2所述的解析方法，其中，

在所述計算步驟中，計算所述第1波形數據及所述第2波形數據的時間波形的振幅的變化的一致度。

4.如權利要求3所述的解析方法，其中，

在所述計算步驟中，基于所述第1波形數據及所述第2波形數據中的上升及下降的時機而計算所述一致度。

5.如權利要求3所述的解析方法，其中，

在所述計算步驟中，在多個時機計算所述第1波形數據及所述第2波形數據中與閾值的比較結果，基于在所述多個時機的所述比較結果而計算所述一致度。

6.如權利要求1~5中任一項所述的解析方法，其中，

在所述第1測量步驟及所述第2測量步驟中，對輸入有測試信號的所述第1半導體器件或所述第2半導體器件中的多個位置照射光，測量來自所述多個位置的反射光而取得所述第1波形數據或所述第2波形數據。

7.如權利要求1~5中任一項所述的解析方法，其中，

在所述第1測量步驟及所述第2測量步驟中，測量來自輸入有測試信號的所述第1半導體器件或所述第2半導體器件中的多個位置的發光，而取得所述第1波形數據或所述第2波形數據。