[發(fā)明專利]用于介質(zhì)處理裝置的輸出倉(cāng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201880072098.8
• 申請(qǐng)日: 2018-10-19
• 公開（公告）號(hào): CN111315672B
• 公開（公告）日: 2022-04-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: G·馬歇爾;K·齊奧帕諾斯;T·R·赫爾馬;N·R·班克斯頓
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 斑馬技術(shù)公司
• 主分類號(hào): B65H31/02
• 分類號(hào): B65H31/02;B65H1/06;B65H7/06;B65H43/06;G06K1/12;B41J11/58;B41J3/407
• 代理公司: 北京市金杜律師事務(wù)所 11256
• 代理人: 蘇娟

一種示例性公開的輸出倉(cāng)包括空腔，其從介質(zhì)處理裝置的輸出接收介質(zhì)單元，空腔造成介質(zhì)單元在第一方向上形成堆疊；第一門，其能夠在閉合位置和打開位置之間樞轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，在位于閉合位置時(shí)，第一門將介質(zhì)單元保持在空腔內(nèi)；第二門，其能夠在閉合位置和打開位置之間運(yùn)動(dòng)，在位于閉合位置時(shí)，第二門將介質(zhì)單元保持在空腔內(nèi)；其中第一門被構(gòu)造成在大致平行于第一方向的第一軸線上樞轉(zhuǎn)；并且第二門被構(gòu)造成在大致平行于第一方向的第二軸線上樞轉(zhuǎn)。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請(qǐng)涉及用于介質(zhì)處理裝置的輸出倉(cāng)。

背景技術(shù)

一些介質(zhì)處理裝置被構(gòu)造成處理諸如身份卡片(例如駕駛證或員工卡)的介質(zhì)單元。如本文使用，術(shù)語(yǔ)“介質(zhì)單元”指的是離散介質(zhì)單元。雖然本文公開的一些例子使用術(shù)語(yǔ)“卡片”來(lái)描述，卡片是介質(zhì)單元的示例性類型，并且本文公開的示例性方法和設(shè)備適用于任何適當(dāng)類型的介質(zhì)單元。

介質(zhì)處理裝置例如通過將標(biāo)記打印到介質(zhì)單元的一個(gè)或多個(gè)表面和/或?qū)橘|(zhì)單元編碼有機(jī)器可讀數(shù)據(jù)來(lái)處理介質(zhì)。在介質(zhì)單元處理之后，介質(zhì)處理裝置以如下方式分配介質(zhì)單元，使得處理后的介質(zhì)單元可以被用戶接近。例如，介質(zhì)處理裝置將介質(zhì)單元分配到被構(gòu)造成接收和保持多個(gè)介質(zhì)單元的空腔。空腔通過稱為輸出倉(cāng)的結(jié)構(gòu)限定。

發(fā)明內(nèi)容

根據(jù)本申請(qǐng)的一個(gè)方面，提供一種輸出倉(cāng)，包括空腔，所述空腔從介質(zhì)處理裝置的輸出接收介質(zhì)單元，空腔造成介質(zhì)單元在第一方向上形成堆疊；第一門，所述第一門能夠在閉合位置和打開位置之間樞轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，在位于閉合位置時(shí)，第一門將介質(zhì)單元保持在空腔內(nèi)；第二門，所述第二門能夠在閉合位置和打開位置之間運(yùn)動(dòng)，在位于閉合位置時(shí)，第二門將介質(zhì)單元保持在空腔內(nèi)；其中：第一門被構(gòu)造成在大致平行于第一方向的第一軸線上樞轉(zhuǎn)；第二門被構(gòu)造成在大致平行于第一方向的第二軸線上樞轉(zhuǎn)；第一門朝著閉合位置偏置；以及第二門朝著閉合位置偏置。

在一個(gè)實(shí)施方案中，其中，第一方向延伸遠(yuǎn)離輸出倉(cāng)的底表面。

在一個(gè)實(shí)施方案中，其中，空腔被構(gòu)造成使得介質(zhì)單元靜置在底表面上。

在一個(gè)實(shí)施方案中，其中，輸出倉(cāng)的底表面包括被構(gòu)造成在底表面和介質(zhì)單元中的最底部一個(gè)的表面之間提供空間。

在一個(gè)實(shí)施方案中，其中：

第一門樞轉(zhuǎn)地安裝在輸出倉(cāng)的第一側(cè)上；以及

第二門樞轉(zhuǎn)地安裝在輸出倉(cāng)的第二側(cè)上，第一側(cè)與第二側(cè)相對(duì)。

在一個(gè)實(shí)施方案中，其中：

第一門在第一轉(zhuǎn)動(dòng)方向上從閉合位置樞轉(zhuǎn)到打開位置；以及

第二門在與第一轉(zhuǎn)動(dòng)方向相反的第二轉(zhuǎn)動(dòng)方向上從閉合位置樞轉(zhuǎn)到打開位置。

在一個(gè)實(shí)施方案中，其中，在第一門和第二門位于閉合位置時(shí)，第一門的第一保持部分與第二門的第二保持部分間隔開第一距離。

在一個(gè)實(shí)施方案中，其中，在第一門和第二門位于打開位置時(shí)，第一保持部分與第二保持部分間隔開大于第一距離的第二距離。

在一個(gè)實(shí)施方案中，其中，第一介質(zhì)保持部分被構(gòu)造成在位于閉合位置時(shí)接合介質(zhì)單元的次邊緣。

在一個(gè)實(shí)施方案中，其中：

第一門包括位于第一門的第一頂邊緣處的第一切口；

第二門包括位于第二門的第二頂邊緣處的第二切口；以及

第一切口和第二切口允許介質(zhì)單元在超過空腔容量時(shí)溢出第一頂邊緣和第二頂邊緣。

在一個(gè)實(shí)施方案中，其中，第一軸線與介質(zhì)單元之一的表面限定的介質(zhì)單元平面交叉。