[發(fā)明專利]用于介質(zhì)處理裝置的輸出倉

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201880072098.8
• 申請日: 2018-10-19
• 公開（公告）號: CN111315672B
• 公開（公告）日: 2022-04-15
• 發(fā)明（設計）人: G·馬歇爾;K·齊奧帕諾斯;T·R·赫爾馬;N·R·班克斯頓
• 申請（專利權）人: 斑馬技術公司
• 主分類號: B65H31/02
• 分類號: B65H31/02;B65H1/06;B65H7/06;B65H43/06;G06K1/12;B41J11/58;B41J3/407
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 蘇娟

1.一種輸出倉，包括：

空腔，所述空腔從介質(zhì)處理裝置的輸出接收介質(zhì)單元，空腔造成介質(zhì)單元在第一方向上形成堆疊；

第一門，所述第一門能夠在閉合位置和打開位置之間樞轉(zhuǎn)運動，在位于閉合位置時，第一門將介質(zhì)單元保持在空腔內(nèi)；

第二門，所述第二門能夠在閉合位置和打開位置之間運動，在位于閉合位置時，第二門將介質(zhì)單元保持在空腔內(nèi)；其中：

第一門被構造成在大致平行于第一方向的第一軸線上樞轉(zhuǎn)；

第二門被構造成在大致平行于第一方向的第二軸線上樞轉(zhuǎn)；

第一門朝著閉合位置偏置；以及

第二門朝著閉合位置偏置。

2.根據(jù)權利要求1所述的輸出倉，其中，第一方向延伸遠離輸出倉的底表面。

3.根據(jù)權利要求2所述的輸出倉，其中，空腔被構造成使得介質(zhì)單元靜置在底表面上。

4.根據(jù)權利要求2所述的輸出倉，其中，輸出倉的底表面包括被構造成在底表面和介質(zhì)單元中的最底部一個的表面之間提供空間。

5.根據(jù)權利要求1所述的輸出倉，其中：

第一門樞轉(zhuǎn)地安裝在輸出倉的第一側(cè)上；以及

第二門樞轉(zhuǎn)地安裝在輸出倉的第二側(cè)上，第一側(cè)與第二側(cè)相對。

6.根據(jù)權利要求1所述的輸出倉，其中：

第一門在第一轉(zhuǎn)動方向上從閉合位置樞轉(zhuǎn)到打開位置；以及

第二門在與第一轉(zhuǎn)動方向相反的第二轉(zhuǎn)動方向上從閉合位置樞轉(zhuǎn)到打開位置。

7.根據(jù)權利要求1所述的輸出倉，其中，在第一門和第二門位于閉合位置時，第一門的第一保持部分與第二門的第二保持部分間隔開第一距離。

8.根據(jù)權利要求7所述的輸出倉，其中，在第一門和第二門位于打開位置時，第一保持部分與第二保持部分間隔開大于第一距離的第二距離。

9.根據(jù)權利要求7所述的輸出倉，其中，第一介質(zhì)保持部分被構造成在位于閉合位置時接合介質(zhì)單元的次邊緣。

10.根據(jù)權利要求1所述的輸出倉，其中：

第一門包括位于第一門的第一頂邊緣處的第一切口；

第二門包括位于第二門的第二頂邊緣處的第二切口；以及

第一切口和第二切口允許介質(zhì)單元在超過空腔容量時溢出第一頂邊緣和第二頂邊緣。

11.根據(jù)權利要求1所述的輸出倉，其中，第一軸線與介質(zhì)單元之一的表面限定的介質(zhì)單元平面交叉。

12.一種介質(zhì)處理裝置，包括：

介質(zhì)單元輸送組件，所述介質(zhì)單元輸送組件被構造成將處理后的介質(zhì)單元引導到介質(zhì)單元輸出；以及

輸出倉，所述輸出倉接收處理后的介質(zhì)單元，輸出倉包括：

第一門，所述第一門樞轉(zhuǎn)地安裝到介質(zhì)處理裝置的殼體，第一門包括第一保持部分；

第二門，所述第二門樞轉(zhuǎn)地安裝到介質(zhì)處理裝置的殼體，第二門包括第二保持部分，其中：

在第一門和第二門位于閉合位置時，第一保持部分與第二保持部分間隔開第一距離；以及

在第一門和第二門位于打開位置時，第一保持部分與第二保持部分間隔開大于第一距離的第二距離；

第一門朝著閉合位置偏置；以及

第二門朝著閉合位置偏置。

13.根據(jù)權利要求12所述的介質(zhì)處理裝置，其中：

第一距離小于處理后的介質(zhì)單元的邊緣的長度；以及

第二距離大于處理后的介質(zhì)單元的邊緣的長度。

14.根據(jù)權利要求12所述的介質(zhì)處理裝置，還包括在介質(zhì)單元上產(chǎn)生標記的打印頭。

15.根據(jù)權利要求12所述的介質(zhì)處理裝置，其中，第一門圍繞第一軸線在第一轉(zhuǎn)動方向上運動到打開位置。