[發明專利]封端單元

有效

• 申請號: 201880070999.3
• 申請日: 2018-10-15
• 公開（公告）號: CN111295824B
• 公開（公告）日: 2023-09-15
• 發明（設計）人: D·弗德椰克
• 申請（專利權）人: 阿努米克斯私營有限責任公司
• 主分類號: H02K11/01
• 分類號: H02K11/01;H01J37/34;C23C14/34;C23C14/35
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 秦晨

用于沉積系統的封端單元(300)，包括用于實現功能的設備(100)，該設備包括至少一個包括電工鋼的部件(110)，以及至少一個導電的屏蔽元件(120)。該屏蔽元件被配置為使得：減輕對設備的功能沒有貢獻的相鄰電流對包括電工鋼的部件(120)的影響，其中該相鄰電流具有第一拓撲；并且使得沒有顯著減輕具有與第一拓撲不同的拓撲的至少一個相鄰電流的影響。該設備另外包括電流傳輸裝置(140)，該電流傳輸裝置(140)與至少一個包括電工鋼的部件(110)相鄰，并且適于根據第一拓撲引導電流并且適于當其安裝在封端單元上時向靶傳輸功率。

技術領域

本發明涉及用于沉積系統的封端單元。更具體而言，本發明涉及一種封端單元，該封端單元適于在操作中將功率傳輸到它所攜載的靶(target)。

背景技術

借助于濺射進行材料沉積的技術已經知道了數十年。通常，在低壓腔室中產生等離子體，在該低壓腔室中存在諸如氬氣的惰性氣體或諸如氧氣或氮氣的活性氣體，并且在所謂的“濺射靶”(包含要沉積的材料)和要在其上沉積一層濺射材料的“基板”之間施加高壓。氬原子被離子化，并且濺射靶被氬離子轟擊，使得原子從濺射靶中釋放出來，并移動到基板上在那里沉積。

基本上，使用三種濺射靶：平面圓盤靶、平面矩形靶和旋轉圓柱靶。

通常，使用三種電源：DC電源、AC或脈沖電源(例如，頻率為1至100kHz)和RF電源(例如，頻率為0.3至100MHz)。當沉積層的導電性較低時，通常使用AC電源，而當靶材料非常絕緣時，通常使用RF電源。

現有技術沉積系統中的封端單元的主要功能是攜載靶并且還可能旋轉靶。封端單元可以例如是PVD源封端單元。由于PVD沉積是通過低壓氣體完成的，因此封端單元必須在靶可能旋轉期間也是真空密封的。PVD沉積是指一種物理氣相沉積技術，其中耗材靶中的材料被沉積在期望在其上施加薄層的基板上。在這樣的沉積系統中，靶需要用電流供電，使得在靶上存在一定的電位。

因此，需要一種封端單元，其適于將功率傳輸到它們所攜載的靶。

發明內容

本發明的實施例的目的是提供一種用于沉積系統的適于將功率傳輸到靶的封端單元。

上述目的是通過根據本發明的封端單元實現的。

本發明的實施例涉及一種用于沉積系統的封端單元。該封端單元包括用于實現功能的設備。該設備包括：至少一個包括電工鋼的部件，以及至少一個屏蔽元件，該屏蔽元件是導電的并且被配置為使得如果要施加具有第一拓撲的相鄰電流，那么對設備的功能沒有貢獻的該相鄰電流對包括電工鋼的部件的影響被通過屏蔽元件從而在屏蔽元件中產生抵消場的電流減輕。該設備另外包括與至少一個包括電工鋼的部件相鄰的電流傳輸裝置，其中該電流傳輸裝置適于根據第一拓撲來引導電流，并且適于當其安裝在封端單元上時向靶傳輸功率。

通過屏蔽元件的電流可以由相鄰電流感應。本發明的實施例的優點在于，減輕了對設備的功能沒有貢獻的相鄰電流對包括電工鋼的部件的影響。該影響例如可以導致包括電工鋼的部件中的能量損失，該能量損失通過減輕該影響而減小。

本發明的實施例的優點在于，可以創建更緊湊的封端單元，該封端單元適于旋轉靶并將電力傳輸到靶。從而有利的是，通過屏蔽繞組顯著減小了由變化的電流產生的變化的非貢獻磁場來為靶供電。

在電工鋼中，單個或一組有源電流可能產生隨時間變化的磁通密度，該密度比在空氣中的情況下要高。這樣的設備可以例如在馬達或變壓器中找到。

如果對設備的操作沒有貢獻的交流外部電流(其可能是正弦波、方波、脈沖波或可能具有任何波形)正在電工鋼中產生磁場，那么這可能會導致由于磁滯損耗和渦流引起使電工鋼發熱。

根據本發明的實施例的封端單元的優點在于，它們包括用于減少使電工鋼發熱的裝置，如果電工鋼中存在變化的磁場，而該磁場對封端單元的設備(例如馬達或軸承)的操作沒有貢獻，那么會感應出發熱。