[發明專利]用于在芳環上多種取代的烷基芳烴的α-H位鹵化的工藝

有效

• 申請號: 201880067519.8
• 申請日: 2018-10-17
• 公開（公告）號: CN111587235B
• 公開（公告）日: 2023-04-14
• 發明（設計）人: 莉迪亞·維拉·喬凡納·德盧卡;西爾維亞·加斯帕;安東尼奧·瓦倫托尼;加布里埃萊·穆拉斯;安德里亞·波爾凱杜
• 申請（專利權）人: 卡利亞里大學;薩薩里大學
• 主分類號: C07C22/04
• 分類號: C07C22/04;C07C17/06
• 代理公司: 北京安信方達知識產權代理有限公司 11262
• 代理人: 凌翠;鄭霞

1.一種用于制備烷基芳烴的工藝，所述烷基芳烴選擇性地在直接鍵合到芳環或雜芳環的烷基取代基的碳原子上被鹵化，所述工藝是在完全不存在溶劑以及任何金屬催化劑或化學添加劑的情況下，在存在用可見光輻照的情況下，通過相應的未鹵化的烷基芳烴化合物排他地與三氯異氰尿酸反應。

2.根據權利要求1所述的工藝，其中烷基芳烴是由具有至少一個烷基鏈作為取代基的芳環或雜芳環組成的化合物。

3.根據權利要求1所述的工藝，其中所述芳環或雜芳環選自：苯、吡啶、喹啉、異喹啉、吡咯，并且烷基是具有從1個至5個碳原子的直鏈或支鏈的烷基。

4.根據權利要求2所述的工藝，其中所述芳環或雜芳環選自：苯、吡啶、喹啉、異喹啉、吡咯，并且烷基是具有從1個至5個碳原子的直鏈或支鏈的烷基。

5.根據權利要求1-4中任一項所述的工藝，其中所述芳環或雜芳環是被一個或更多個選自以下的取代基進一步取代的：CH₃、C(CH₃)₃、Cl、CN、NO₂、F、苯基。

6.根據權利要求1-4中任一項所述的工藝，其中起始物料：烷基芳烴/三氯異氰尿酸是以在4:2和2:0.5之間的化學計量比。

7.根據權利要求5所述的工藝，其中起始物料：烷基芳烴/三氯異氰尿酸是以在4:2和2:0.5之間的化學計量比。

8.根據權利要求6所述的工藝，其中所述起始物料：烷基芳烴/三氯異氰尿酸是以3:1的化學計量比。

9.根據權利要求7所述的工藝，其中所述起始物料：烷基芳烴/三氯異氰尿酸是以3:1的化學計量比。

10.根據權利要求1-4和7-9中任一項所述的工藝，其中起始物料在20℃和35℃之間的溫度且在惰性氣氛下在太陽光輻照下反應持續在5分鐘和12小時之間的時間。

11.根據權利要求5所述的工藝，其中起始物料在20℃和35℃之間的溫度且在惰性氣氛下在太陽光輻照下反應持續在5分鐘和12小時之間的時間。

12.根據權利要求6所述的工藝，其中起始物料在20℃和35℃之間的溫度且在惰性氣氛下在太陽光輻照下反應持續在5分鐘和12小時之間的時間。

13.根據權利要求10所述的工藝，其中所述輻照用太陽模擬器或鎢燈或藍色發光二極管來進行，或通過簡單地將反應器暴露于陽光來進行。

14.根據權利要求11或12所述的工藝，其中所述輻照用太陽模擬器或鎢燈或藍色發光二極管來進行，或通過簡單地將反應器暴露于陽光來進行。

15.根據權利要求1-4、7-9和11-13中任一項所述的工藝，其中最終產物經由通過二氧化硅墊過濾來分離。

16.根據權利要求5所述的工藝，其中最終產物經由通過二氧化硅墊過濾來分離。

17.根據權利要求6所述的工藝，其中最終產物經由通過二氧化硅墊過濾來分離。

18.根據權利要求10所述的工藝，其中最終產物經由通過二氧化硅墊過濾來分離。

19.根據權利要求14所述的工藝，其中最終產物經由通過二氧化硅墊過濾來分離。

20.根據權利要求1-4、7-9、11-13和16-19中任一項所述的工藝，其中所述烷基芳烴是甲苯，并且獲得的產物是氯化芐。