[發(fā)明專利]布線電路基板

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201880064303.6
• 申請日: 2018-10-12
• 公開（公告）號: CN111165078B
• 公開（公告）日: 2023-09-22
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 柴田周作;高野譽(yù)大;春田裕宗;若木秀一
• 申請（專利權(quán)）人: 日東電工株式會社
• 主分類號: H05K1/02
• 分類號: H05K1/02
• 代理公司: 北京林達(dá)劉知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會華

布線電路基板具有：絕緣層；布線，其埋設(shè)在絕緣層中；以及對準(zhǔn)標(biāo)記，其在電氣方面相對于布線獨立，該對準(zhǔn)標(biāo)記以厚度方向上的一側(cè)面自絕緣層暴露的方式配置于絕緣層。對準(zhǔn)標(biāo)記的周邊部僅由絕緣層構(gòu)成，對準(zhǔn)標(biāo)記的周邊部具有30μm以下的厚度。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種布線電路基板。

背景技術(shù)

以往，在各種布線電路基板中，已知的是，設(shè)置對準(zhǔn)標(biāo)記，利用該對準(zhǔn)標(biāo)記在之后的工序中進(jìn)行對準(zhǔn)。

例如，提出一種電路基板，該電路基板具備：絕緣基底；端子部分和對準(zhǔn)標(biāo)記，該端子部分和對準(zhǔn)標(biāo)記配置于絕緣基底的表面；以及透明層，其覆蓋對準(zhǔn)標(biāo)記的上表面(例如參照專利文獻(xiàn)1。)。

在專利文獻(xiàn)1中，自在電路基板的背面?zhèn)仍O(shè)置的光源向電路基板照射光，利用在電路基板的表面?zhèn)仍O(shè)置的光接收元件來接收透過電路基板后的光，確認(rèn)對準(zhǔn)標(biāo)記的位置(透射模式)。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特開2003－304041號公報

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明要解決的問題

然而，對于對準(zhǔn)標(biāo)記，在上述透射模式中要求更優(yōu)異的可視性。

并且，對于對準(zhǔn)標(biāo)記，在對電路基板照射光、然后生成反射光并接收該反射光的反射模式中，也要求優(yōu)異的可視性。但是，在專利文獻(xiàn)1中，對準(zhǔn)標(biāo)記被透明層覆蓋，存在無法滿足上述要求這樣的不良。

本發(fā)明提供一種反射模式和透射模式這兩種模式下的對準(zhǔn)標(biāo)記的可視性優(yōu)異的布線電路基板。

用于解決問題的方案

本發(fā)明(1)提供一種布線電路基板，其中，該布線電路基板具有：絕緣層；布線，其埋設(shè)在所述絕緣層中；以及對準(zhǔn)標(biāo)記，其在電氣方面相對于所述布線獨立，該對準(zhǔn)標(biāo)記以厚度方向上的一側(cè)面自所述絕緣層暴露的方式配置于所述絕緣層，所述對準(zhǔn)標(biāo)記的周邊部僅由所述絕緣層構(gòu)成，所述對準(zhǔn)標(biāo)記的周邊部具有30μm以下的厚度。

在該布線電路基板中，對準(zhǔn)標(biāo)記的厚度方向上的一側(cè)面自絕緣層暴露。因此，在自對準(zhǔn)標(biāo)記的厚度方向上的一側(cè)向厚度方向上的一側(cè)面照射光且對在對準(zhǔn)標(biāo)記的厚度方向上的一側(cè)面生成的反射光進(jìn)行檢測的反射模式中，能夠使該光的光量大于被絕緣層(透明層)覆蓋的對準(zhǔn)標(biāo)記的厚度方向上的一側(cè)面的反射光的光量。其結(jié)果，反射模式中的對準(zhǔn)標(biāo)記的可視性優(yōu)異。

另外，在該布線電路基板中，周邊部僅由絕緣層構(gòu)成，周邊部的厚度較薄、為30μm以下。因此，在向周邊部照射光并對透過周邊部的光進(jìn)行檢測的透射模式中，能夠提高該光的透射率，因而，能夠增大透射模式中的周邊部的透射光的光量。其結(jié)果，透射模式中的對準(zhǔn)標(biāo)記的可視性優(yōu)異。

因而，該布線電路基板在反射模式和透射模式這兩種模式下的對準(zhǔn)標(biāo)記的可視性優(yōu)異。

本發(fā)明(2)是根據(jù)(1)所述的布線電路基板，其中，所述絕緣層具有在所述厚度方向上貫通該絕緣層的通孔，所述對準(zhǔn)標(biāo)記配置在所述通孔內(nèi)，所述厚度方向上的一側(cè)面和所述厚度方向上的另一側(cè)面中的至少一者自所述絕緣層暴露。

在該布線電路基板中，對準(zhǔn)標(biāo)記自厚度方向上的一側(cè)面和厚度方向上的另一側(cè)面中的至少任意一側(cè)面暴露，因此，反射模式中的對準(zhǔn)標(biāo)記的可視性優(yōu)異。