[發明專利]用于晶圓檢查的高級充電控制器的方法和設備

在審

• 申請號: 201880063511.4
• 申請日: 2018-09-25
• 公開（公告）號: CN111164727A
• 公開（公告）日: 2020-05-15
• 發明（設計）人: 張劍;陳慶久;王義向
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: H01J37/22
• 分類號: H01J37/22;G01N23/00
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 張昊

1.一種用于光束的高級充電控制的系統，所述系統包括：

激光源，用于發射束；

束均勻器，用于對發射的所述束進行均勻；

束成形器，被配置為使用變形棱鏡組來對發射的所述束進行成形；以及

驅動器，被配置為將成形的所述束引導到晶圓上的指定位置，

其中所述激光源、所述束成形器和所述驅動器同軸對準。

2.根據權利要求1所述的系統，其中所述激光源是激光二極管。

3.根據權利要求1所述的系統，其中所述激光源是準直激光器。

4.根據權利要求1所述的系統，其中所述變形棱鏡組包括兩個或更多個棱鏡的組。

5.根據權利要求4所述的系統，其中所述兩個或更多個棱鏡具有相同的幾何結構。

6.根據權利要求1所述的系統，其中所述變形棱鏡組對所述束進行成形，其中對所述束進行成形包括修改所述束的大小和縱橫比。

7.根據權利要求1所述的系統，其中所述變形棱鏡組產生與輸入束同軸對準的輸出束。

8.根據權利要求1所述的系統，其中所述驅動器包括用于引導所述束的一個或多個楔狀件。

9.根據權利要求1所述的系統，其中所述驅動器包括用于引導所述束的一個或多個板。

10.根據權利要求1所述的系統，其中所述驅動器包括用于將所述束反射到所述晶圓的反射鏡，其中所述反射鏡被定位為以一角度修改所述束，使得所述束以基本為圓形的截面與所述晶圓相交。

11.根據權利要求10所述的系統，其中所述反射鏡被進一步定位為使所述束以66°和86°之間的角度與所述晶圓相交。

12.根據權利要求1所述的系統，其中所述束均勻器是球面像差均勻器。

13.一種用于控制光束斑的方法，所述方法包括：

從激光源發射束；

使用束均勻器來對發射的所述束進行均勻；

使用變形棱鏡組對發射的所述束進行成形；

將成形的所述束引導到晶圓上的指定位置。

14.根據權利要求13所述的方法，其中使用所述變形棱鏡組對發射的所述束進行成形包括使發射的所述束通過兩個或更多個棱鏡。

15.根據權利要求13所述的方法，其中使用所述變形棱鏡組對發射的所述束進行成形還包括使發射的所述束通過具有相同幾何結構的兩個或更多個棱鏡。