[發明專利]帶電粒子束檢查的樣品檢查選配方案的動態確定的方法

有效

• 申請號: 201880063430.4
• 申請日: 2018-09-25
• 公開（公告）號: CN111164729B
• 公開（公告）日: 2023-04-11
• 發明（設計）人: 陳仲瑋;招允佳;方偉;關鍵
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: H01J37/28
• 分類號: H01J37/28
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 董莘

本文中公開了一種方法，該方法包括：基于樣品的第二組特性確定對樣品上的區域的帶電粒子束檢查的選配方案的參數；使用該選配方案檢查該區域。

相關申請的交叉引用

本申請要求于2017年9月29日提交的美國申請62/566,132的優先權，其全部內容通過引用并入本文。

技術領域

本公開涉及用于檢查(例如，觀察、測量和成像)在諸如集成電路(IC)的制造等器件制造工藝中使用的諸如晶片和掩模等樣品的方法和裝置。

背景技術

器件制造工藝可以包括將期望圖案施加到襯底上。圖案化裝置(其備選地被稱為掩模或掩模版)可以用于生成期望圖案。該圖案可以被轉印到襯底(例如，硅晶片)上的目標部分(例如，包括管芯的一部分、一個管芯或若干管芯)上。圖案的轉印通常經由成像到設置在襯底上的輻射敏感材料(抗蝕劑)層上。單個襯底可以包含被連續圖案化的相鄰目標部分的網絡。光刻裝置可以用于該轉印。一種類型的光刻裝置稱為步進器，其中通過一次將整個圖案曝光到目標部分上來照射每個目標部分。另一種類型的光刻裝置稱為掃描器，其中通過在給定方向上通過輻射束掃描圖案同時平行于或反平行于該方向同步地掃描襯底來照射每個目標部分。還可以通過將圖案壓印到襯底上來將圖案從圖案化裝置轉印到襯底上。

為了監測器件制造工藝的一個或多個步驟(例如，曝光、抗蝕劑處理、刻蝕、顯影、烘烤等)，可以檢查樣品(諸如通過器件制造工藝圖案化的襯底或在其中使用的圖案化裝置)，其中可以測量樣品的一個或多個參數。一個或多個參數可以包括例如邊緣位置誤差(EPE)，EPE是襯底或圖案化裝置上的圖案的邊緣與圖案的預期設計的對應邊緣之間的距離。檢查還可能發現圖案缺陷(例如，失效連接或失效分離)和不請自來的顆粒。

檢查在器件制造工藝中使用的襯底和圖案化裝置可以幫助提高成品率。從檢查中獲得的信息可以用于標識缺陷或調節器件制造工藝。

發明內容

本文中公開了一種方法，該方法包括：基于樣品的第二組特性確定樣品上的區域的帶電粒子束檢查的選配方案(recipe)的參數；使用該選配方案檢查該區域。

根據一個實施例，第二組特性包括樣品的形狀、樣品的密度、樣品的組分或樣品的結構。

根據一個實施例，第二組特性包括在該區域中形成的圖案的特性。

根據一個實施例，在該區域中形成的圖案的特性包括圖案的設計。

根據一個實施例，第二組特性包括形成區域中的圖案所采用的工藝的特性。

根據一個實施例，工藝的特性包括刻蝕參數、光刻參數或沉積參數。

根據一個實施例，第二組特性包括該區域中的缺陷的特性。

根據一個實施例，缺陷的特性包括缺陷的存在、缺陷的密度、缺陷的類型或缺陷的幾何特性。

根據一個實施例，第二組特性包括對該區域的先前檢查的特性。

根據一個實施例，對該區域的先前檢查的特性包括：在先前檢查中使用的選配方案的參數、先前檢查的結果、表示先前檢查的有效性的度量。

根據一個實施例，選配方案的參數選自由以下項組成的組：一個或多個帶電粒子束的著陸能量、一個或多個帶電粒子束的電流、一個或多個帶電粒子束的焦點、一個或多個帶電粒子束的掃描方向、一個或多個帶電粒子束的掃描速度、一個或多個帶電粒子束的目的地、一個或多個帶電粒子束的帶電粒子的類型、使用一個或多個帶電粒子束記錄的信號的平均值、一個或多個帶電粒子束的光斑尺寸、放大率、所記錄的信號的類型、一個或多個帶電粒子束的帶電粒子的加速電壓及其組合。

根據一個實施例，該方法還包括基于樣品的第一組特性來標識區域。