[發明專利]改進的熱處理設備

在審

• 申請號: 201880056490.3
• 申請日: 2018-08-29
• 公開（公告）號: CN111032590A
• 公開（公告）日: 2020-04-17
• 發明（設計）人: C.奧扎南;E.米蒙;J.斯科爾斯基;L.卡諾瓦
• 申請（專利權）人: 法國圣戈班玻璃廠
• 主分類號: C03C17/00
• 分類號: C03C17/00
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 鄧雪萌;王麗輝

本發明涉及一種用于對涂敷到基板（S）上的涂層（R）進行熱處理的熱處理設備（1），其包括基板可以移動通過的加熱裝置（10），所述加熱裝置（10）被設計成加熱玻璃基板的第一面上的涂層，其特征在于，所述熱處理設備還包括預熱裝置（10’），該預熱裝置被設計成在加熱區域上游加熱移動的基板的涂層。

技術領域

本發明涉及玻璃基板上的薄層的熱處理領域。

背景技術

已知實現涂覆到平坦基板上的涂層的局部和快速退火（快速加熱）。為此，使具有需要退火的涂層的基板在閃光燈或等離子炬或者激光線等加熱裝置下通過，該加熱裝置布置在具有涂層的基板上。

快速退火允許薄涂層被加熱到大約幾百度的高溫，同時保留下面的基板。通過速度當然優選盡可能高，有利的是至少每分鐘幾米。

例如，在使用的激光線中，該線包括提供激光束的至少一個激光發生器。該激光束被聚焦，以便局部增加由激光發生器提供的熱功率。

這種退火方法，無論是用激光還是用閃光燈或其他方法，都有能量消耗大的缺點，這種高消耗隨著生產線能力、特別是在處理速度方面的增加而增加。這種高能耗意味著成本很高。

發明內容

因此，本發明試圖通過提供一種用于快速退火的熱處理設備來解決這些缺點，該設備從能量水平的角度來看更有效，并且更便宜。

為此，本發明涉及一種用于對涂敷到基板上的涂層進行熱處理的熱處理設備，包括基板可以移動通過的加熱裝置，所述加熱裝置設計成加熱玻璃基板第一面上的涂層區域，其特征在于，所述熱處理設備還包括預熱裝置，該預熱裝置設計成在加熱區域上游加熱移動的所述基板的涂層。

本發明提供了預熱涂層的優點，從而使得有可能降低成本，因為有可能使用低功率的加熱裝置或者使用性能不太好的加熱裝置。這種使用還可以提高移動速度，因為涂層經過了預熱。

根據一個示例，加熱裝置被設計成在至多1 ms的時間內將涂層的溫度從300℃升高到700℃，特別是從500℃升高到650℃，并且預熱裝置被設計成在至多50 ms的時間內將涂層的溫度升高涂層通過加熱裝置達到的溫度的三分之一。

根據一個示例，該設備還包括再循環設備，使得有可能使用由加熱裝置提供的能量的未被吸收的部分作為預熱裝置。

根據一個示例，加熱裝置包括激光系統，激光系統包括至少一個激光發生器。

根據一個示例，激光系統以相對于玻璃基板的垂線成角度偏移的方式定位。

根據一個示例，加熱裝置包括多個閃光燈。

根據一個示例，再循環設備是反射器元件，其被設計成反射未被基板吸收的部分光束，并將其引導到移動的基板的涂層上，以便充當預熱裝置。

該示例有利地使得僅具有一個用于執行加熱和預熱的設備成為可能，使得盡可能降低成本成為可能。這也使得有可能具有更簡單的熱處理設備，因為只有加熱裝置要參數化。

根據一個示例，所述反射器元件是面向所述基板的與帶有涂層的面相對的面定位的鏡子。

根據一個示例，所述反射器元件是平行于基板平面延伸的平面鏡。

根據一個示例，所述反射器元件是曲面鏡。

根據一個示例，所述反射器元件能夠以至少一個自由度移動。

根據一個示例，自由度是在垂直于基板平面的平面中的平移。

根據一個示例，自由度是相對于垂直于移動方向的軸線的旋轉。

根據一個示例，所述反射器元件被設計成在兩個不同的方向上反射光束，從而允許未被吸收的光束被定向在聚焦點的每一側上。