[發(fā)明專利]改進的熱處理設(shè)備

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201880056490.3
• 申請日: 2018-08-29
• 公開（公告）號: CN111032590A
• 公開（公告）日: 2020-04-17
• 發(fā)明（設(shè)計）人: C.奧扎南;E.米蒙;J.斯科爾斯基;L.卡諾瓦
• 申請（專利權(quán)）人: 法國圣戈班玻璃廠
• 主分類號: C03C17/00
• 分類號: C03C17/00
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 鄧雪萌;王麗輝

1.一種用于對涂敷到基板（S）上的涂層（R）進行熱處理的熱處理設(shè)備（1），其包括基板可以移動通過的加熱裝置（10），所述加熱裝置（10）被設(shè)計成加熱所述玻璃基板的第一面上的涂層的加熱區(qū)域，其特征在于，所述熱處理設(shè)備還包括預(yù)熱裝置（10’），所述預(yù)熱裝置被設(shè)計成在預(yù)熱區(qū)域中在所述加熱區(qū)域上游加熱移動的基板的涂層。

2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的熱處理設(shè)備，其特征在于，所述加熱裝置（10）被設(shè)計成在至多1 ms的時間間隔內(nèi)將所述涂層的溫度從300℃升高到700℃，特別是從500℃升高到650℃，并且所述預(yù)熱裝置（10’）被設(shè)計成在至多50 ms的時間間隔內(nèi)將所述涂層（R）的溫度升高至多所述涂層通過所述加熱裝置達到的溫度的三分之一。

3.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的熱處理設(shè)備，其特征在于，它還包括再循環(huán)設(shè)備（RC），使得有可能使用由所述加熱裝置（10）提供的能量的未被吸收的部分充當預(yù)熱裝置。

4.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的熱處理設(shè)備，其特征在于，所述加熱裝置（10）包括激光系統(tǒng)（10b），所述激光系統(tǒng)包括至少一個激光發(fā)生器（L）。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的熱處理設(shè)備，其特征在于，所述激光系統(tǒng)（10b）以相對于所述玻璃基板的垂線成角度偏移的方式定位。

6.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的熱處理設(shè)備，其特征在于，所述加熱裝置（10）包括多個閃光燈（LD）。

7.根據(jù)權(quán)利要求4或6所述的熱處理設(shè)備，其特征在于，所述再循環(huán)設(shè)備（RC）是反射器元件（20），其被設(shè)計成反射未被所述基板吸收的部分光束（f），并將其引導(dǎo)到移動的基板的涂層上，以便充當預(yù)熱裝置。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的熱處理設(shè)備，其特征在于，所述反射器元件（20）是鏡子（M），其面向所述基板的與帶有所述涂層的面相對的面布置。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的熱處理設(shè)備，其特征在于，所述反射器元件（20）是平行于所述基板的平面延伸的平面鏡（M）。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的熱處理設(shè)備，其特征在于，所述反射器元件（20）是曲面鏡（M）。

11.根據(jù)權(quán)利要求8至10中任一項所述的熱處理設(shè)備，其特征在于，所述反射器元件（20）能夠以至少一個自由度移動。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的熱處理設(shè)備，其特征在于，所述自由度是在垂直于所述基板的平面的平面中的平移。

13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的熱處理設(shè)備，其特征在于，所述自由度是相對于垂直于移動方向的軸線的旋轉(zhuǎn)。

14.根據(jù)權(quán)利要求7所述的熱處理設(shè)備，其特征在于，所述反射器元件（20）被設(shè)計成在兩個不同的方向上反射光束，以允許未吸收的光束（f）被定向在聚焦點的每一側(cè)上。

15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的熱處理設(shè)備，其特征在于，所述反射器元件（20）是鏡子（M’），其包括在彼此之間形成角度的兩個部分，外角的面是反射性的。

16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的熱處理設(shè)備，其特征在于，所述反射器元件（20）包括三角形截面的柱體（200），所述柱體包括兩個平行的邊緣面（201）和三個側(cè)面（202），兩個相鄰的側(cè)面是反射性的。

17.根據(jù)權(quán)利要求7所述的熱處理設(shè)備，其特征在于，所述反射器元件（20）是反射層（21），其被涂敷到所述基板（S）的與所述帶有涂層（R）的面相對的面上。