[發(fā)明專利]基板支撐裝置及基板處理設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201880056422.7
• 申請日: 2018-08-20
• 公開（公告）號: CN111066138B
• 公開（公告）日: 2023-08-25
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 金鐘植;申鉉昱;李受娟
• 申請（專利權(quán)）人: 周星工程股份有限公司
• 主分類號: H01L21/687
• 分類號: H01L21/687;H01L21/67;H01L21/683
• 代理公司: 北京鴻元知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11327
• 代理人: 李琳;陳英俊

本發(fā)明涉及一種基板支撐裝置及基板處理設(shè)備。該基板支撐裝置，即基板處理設(shè)備的基板支撐裝置可以包括：圓盤；以及從圓盤的中心徑向布置的多個基板支撐部，基板由多個基板支撐部中的每個基板支撐部支撐。多個基板支撐部中的每個基板支撐部的上表面可以比圓盤的上表面更向上突出。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種基板處理設(shè)備，該基板處理設(shè)備在基板上執(zhí)行包括沉積工藝、蝕刻工藝等的處理工藝。

背景技術(shù)

通常，應(yīng)該在用于制造太陽能電池、半導(dǎo)體裝置、平板顯示裝置等的基板上形成薄膜層、薄膜電路圖案或光學(xué)圖案。為此，在基板上執(zhí)行處理工藝，該處理工藝的示例包括在基板上沉積包括特定材料的薄膜的薄膜沉積工藝、通過使用光敏材料選擇性地暴露一部分薄膜的光學(xué)工藝、去除薄膜的選擇性暴露的部分以形成圖案的蝕刻工藝等。通過基板處理設(shè)備在基板上執(zhí)行該處理工藝。

圖1是示意性示出現(xiàn)有技術(shù)的基板處理設(shè)備的一部分的、側(cè)視剖視圖。

參照圖1，在現(xiàn)有技術(shù)的基板處理設(shè)備10中安裝有腔室11、圓盤12以及分配單元(未示出)，腔室11提供裝載并處理基板S的空間，多個基板S安裝在圓盤12上并由圓盤12支撐，分配單元將氣體朝向圓盤12分配。圓盤12安裝在腔室11中。分配單元將氣體分配到基板S，因此，在由圓盤12支撐的基板S上執(zhí)行處理工藝。

這里，在現(xiàn)有技術(shù)的基板處理設(shè)備10中，基板S的上表面S1被設(shè)置在與圓盤12的上表面121相同的平面上。也就是說，基板S的上表面S1和圓盤12的上表面121被設(shè)置在相同的高度。因此，在現(xiàn)有技術(shù)的基板處理設(shè)備10中，氣體不能經(jīng)由圓盤12與腔室11之間的空間順暢地排出，從而導(dǎo)致已經(jīng)進行包括沉積工藝、蝕刻工藝等的處理工藝的薄膜的質(zhì)量的降低。

發(fā)明內(nèi)容

技術(shù)問題

為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明可以包括下述元件。

根據(jù)本發(fā)明的基板支撐裝置，基板處理設(shè)備的基板支撐裝置可以包括：圓盤；以及多個基板支撐部，所述多個基板支撐部從圓盤的中心徑向布置，基板通過所述多個基板支撐部中的每個基板支撐部支撐。多個基板支撐部中的每個基板支撐部的上表面可以比圓盤的上表面更向上突出。

根據(jù)本發(fā)明的基板處理設(shè)備可以包括：腔室；氣體分配單元，所述氣體分配單元將處理氣體供應(yīng)到腔室的內(nèi)部；以及基板支撐裝置，多個基板由所述基板支撐裝置支撐。基板支撐裝置可以包括圓盤和從圓盤的中心徑向布置的多個基板支撐部。多個基板支撐部中的每個基板支撐部的上表面可以比圓盤的上表面更向上突出。

技術(shù)方案

本發(fā)明旨在解決上述問題，并提供一種基板支撐裝置和基板處理設(shè)備，該基板支撐裝置和基板處理設(shè)備能夠順暢地排出供應(yīng)到腔室內(nèi)部的氣體。

有益效果

根據(jù)本發(fā)明，可以獲得如下效果。

本發(fā)明被實現(xiàn)為順暢地排出處理氣體，因此，能夠減少在用于在基板上執(zhí)行的處理工藝之后殘留的處理氣體的量，從而提高已經(jīng)進行了包括沉積工藝、蝕刻工藝等的處理工藝的薄膜的質(zhì)量。

附圖說明

圖1是示意性示出現(xiàn)有技術(shù)的基板處理設(shè)備的一部分的側(cè)視剖視圖。

圖2是根據(jù)本發(fā)明的基板處理設(shè)備的示意性分解立體圖。

圖3是根據(jù)本發(fā)明的基板處理設(shè)備的示意性側(cè)視剖視圖。

圖4是示意性示出根據(jù)本發(fā)明的基板處理設(shè)備的一部分的、側(cè)視剖視圖。

圖5是根據(jù)本發(fā)明的基板處理設(shè)備中的圓盤和基板支撐部中的每一者的概念俯視圖。

圖6是根據(jù)本發(fā)明的基板處理設(shè)備中的基板支撐部和圓盤中的每一者的示意性分解側(cè)視剖視圖。