[發(fā)明專利]圖案曝光方法及圖案曝光裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201880055472.3
• 申請(qǐng)日: 2018-10-03
• 公開（公告）號(hào): CN111263919B
• 公開（公告）日: 2022-06-21
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 杉本重人
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社V技術(shù)
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 呂琳;樸秀玉

本發(fā)明提供一種圖案曝光方法及圖案曝光裝置，該圖案曝光方法中，通過抑制無遮罩曝光的曝光圖像數(shù)據(jù)中平面角部上的邊緣誤差，以良好的精度形成被微細(xì)化的圖案。在曝光面上劃分光束的最小曝光單位，以最小曝光單位的集合特定曝光圖像數(shù)據(jù)中校正所需要的光束的接通區(qū)域，按接通區(qū)域內(nèi)的最小曝光單位累積光束的強(qiáng)度分布，并求出接通區(qū)域內(nèi)的累積強(qiáng)度分布，對(duì)累積強(qiáng)度分布與所設(shè)定的閾值進(jìn)行比較而求出在曝光面上連結(jié)累積強(qiáng)度分布與閾值一致的點(diǎn)而成的輪廓來作為累積強(qiáng)度輪廓(AIP)，在接通區(qū)域的外側(cè)按最小曝光單位設(shè)定接通光束的接通單位來校正曝光圖像數(shù)據(jù)，以使被接通區(qū)域的外緣和AIP包圍的差分面積變小。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種圖案曝光方法及圖案曝光裝置。

背景技術(shù)

關(guān)于在光刻等微細(xì)圖案加工中所使用的圖案曝光，已知一種基于曝光圖像數(shù)據(jù)，在基板表面對(duì)被接通或斷開控制的光束(包括電子束)進(jìn)行掃描，并在基板上直接描繪圖案的無遮罩曝光。無遮罩曝光中的光束的接通或斷開控制中使用能夠進(jìn)行DMD(DigitalMicro-mirror Device：數(shù)字微鏡裝置)、LD或LED陣列等光調(diào)制元件陣列、光源陣列或灰階的控制的GLV(Grating light Valve：柵狀光閥)等(例如，參考下述專利文獻(xiàn)1)。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特開2007-94227號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明要解決的技術(shù)課題

上述以往的圖案曝光(無遮罩曝光)中，按光束的掃描間距或光調(diào)制元件陣列等陣列間隔確定能夠控制的曝光的最小單位，但在各個(gè)光束中存在強(qiáng)度分布(例如，高斯分布)，因此在曝光圖像數(shù)據(jù)的邊緣(接通區(qū)域與斷開區(qū)域的邊界)中，所累積的曝光量不得不逐漸變低，在曝光圖像數(shù)據(jù)的邊緣線與實(shí)際顯影后得到的圖案的邊緣線之間產(chǎn)生小于上述最小單位的尺寸誤差，該情況會(huì)成為問題。

圖1(a)中，以網(wǎng)格線表示曝光的最小單位，且粗線表示曝光圖像數(shù)據(jù)的邊緣。在圖示的例中，將用粗線描繪的斷開區(qū)域的內(nèi)側(cè)設(shè)為光束的接通區(qū)域，將用粗線描繪的斷開區(qū)域的外側(cè)設(shè)為光束的斷開區(qū)域而形成了斷開區(qū)域的圖案，但該圖案根據(jù)抗蝕劑是負(fù)型還是正型而成為點(diǎn)圖案和孔圖案。從而，將斷開區(qū)域的內(nèi)側(cè)設(shè)為接通區(qū)域并將外側(cè)設(shè)為斷開區(qū)域，或者將斷開區(qū)域的內(nèi)側(cè)設(shè)為斷開區(qū)域并將外側(cè)設(shè)為接通區(qū)域是根據(jù)所使用的抗蝕劑和欲得到的凹凸圖案而適當(dāng)確定，因此本質(zhì)上無問題。

當(dāng)以這些曝光圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行圖案曝光時(shí)，圖1(a)的A1-A2之間的光束的累積強(qiáng)度分布成為如圖1(b)，若累積僅A1-A2的線上的光束的強(qiáng)度，則成為如P1～P7的分布，但當(dāng)累積了照射在其周邊全部的光束時(shí)，成為以Pf表示的強(qiáng)度分布。此時(shí)，若將強(qiáng)度Et設(shè)為抗蝕劑的顯影閾值，則通過顯影得到的圖案的邊緣成為被強(qiáng)度Et劃分的S1，且在與曝光顯影數(shù)據(jù)中邊緣S0之間產(chǎn)生誤差me。如圖1(a)所示，這些邊緣的誤差me在曝光圖像數(shù)據(jù)的圖案中的平面角部尤其明顯。此外，在此所述的角部當(dāng)然不僅包括凸?fàn)顖D案的角部還包括凹狀圖案的角部。

本發(fā)明是為了解決這些問題而提出的。即，本發(fā)明的課題為通過抑制無遮罩曝光的曝光圖像數(shù)據(jù)中平面角部上的邊緣誤差，以良好的精度形成被微細(xì)化的圖案等。

用于解決技術(shù)課題的手段

為了解決這些課題，本發(fā)明具備以下構(gòu)成。