[發(fā)明專利]拒水構(gòu)件和拒水構(gòu)件的制造方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201880052758.6
• 申請日: 2018-06-12
• 公開（公告）號: CN111032337B
• 公開（公告）日: 2023-02-10
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 山根祐治;片山理佐;酒匈隆介;松田高至
• 申請（專利權(quán)）人: 信越化學(xué)工業(yè)株式會社
• 主分類號: B32B9/00
• 分類號: B32B9/00;B05D1/36;B05D7/24;B32B27/00;C08G65/336;C09K3/18
• 代理公司: 中國貿(mào)促會專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 11038
• 代理人: 杜麗利

在各種基材的外表面上設(shè)置以二氧化硅納米粒子為主成分的特定厚度的二氧化硅層后，在該二氧化硅層的外表面上設(shè)置了以含氟有機(jī)硅化合物的固化物為主成分的特定厚度的拒水拒油層的拒水構(gòu)件能夠穩(wěn)定且簡便地對各種基材提供耐磨損性優(yōu)異的拒水拒油被膜，所述拒水構(gòu)件利用具有如下工序的方法等得到，在基材的外表面上濕法涂布包含二氧化硅納米粒子和溶劑的分散液的工序；從該分散液將該溶劑干燥、除去的工序；在將該溶劑干燥、除去而形成的二氧化硅層的外表面上濕法涂布包含含氟有機(jī)硅化合物和溶劑的溶液的工序；以及從該溶液將該溶劑干燥、除去以將含氟有機(jī)硅化合物固化的工序。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及拒水構(gòu)件和拒水構(gòu)件的制造方法，詳細(xì)而言，涉及在基材和拒水拒油層之間設(shè)有以二氧化硅納米粒子為主成分的二氧化硅層的拒水構(gòu)件和該拒水構(gòu)件的制造方法。

背景技術(shù)

近年來，為了改善外觀和視見性，對不易粘附污垢的技術(shù)和易于去除污垢的技術(shù)的需求逐年高漲，特別地，眼鏡鏡片，智能手機(jī)，可穿戴終端，汽車導(dǎo)航系統(tǒng)，電子設(shè)備的殼體，廚房灶臺或運(yùn)輸設(shè)備的主體的表面易于粘附皮脂和油污，因此期望設(shè)置拒水拒油層。然而，就用作拒水拒油劑的具有氟基的化合物而言，其表面自由能非常小，對于各種基材具有非壓敏粘合性和非密合性，難以將拒水拒油劑直接密合于基材。

為了解決這樣的問題，作為能夠?qū)ΣＡУ然谋砻孢M(jìn)行拒水拒油處理的處理劑，例如，日本特開2011-116947號公報(專利文獻(xiàn)1)公開了由以下的平均組成式所示的含氟代氧化烯基的聚合物的組合物。

[化學(xué)式1]

A-Rf¹-B

(其中Rf¹為包含5～100個-C_dF_2dO-(d為1～6的整數(shù)，對于每個重復(fù)單元可以不同)重復(fù)單元的二價的直鏈型氟代氧化烯基，A和B彼此獨(dú)立地為選自Rf²基團(tuán)或由下式

[化學(xué)式2]

所示的基團(tuán)的基團(tuán)，Rf²為F、H、其末端為-CF₃基或-CF₂H基的一價含氟基團(tuán)，Q為二價有機(jī)基團(tuán)，Z為具有硅氧烷鍵的2價～7價的有機(jī)聚硅氧烷殘基，R為碳原子數(shù)1～4的烷基或苯基，X為水解性基團(tuán)，a為2或3，b為1～6的整數(shù)，c為1～5的整數(shù)，β為0或1的整數(shù)。

然而，專利文獻(xiàn)1中提出的處理劑在玻璃等為代表的表面存在許多硅烷醇基(鍵合至硅原子的羥基)的基板的表面上顯示出相對優(yōu)異的耐久性，但對金屬、金屬氧化物和樹脂等的表面難以獲得優(yōu)異的密合性。

作為提高密合性的方法，公開了通過干法(蒸鍍法或濺射法)設(shè)置 SiO₂層作為底涂層的方法(國際公開第2014/097388號：專利文獻(xiàn)2)。已經(jīng)表明，使用該方法時，可以形成耐久性優(yōu)異的拒水拒油層，但是有時需要在真空中進(jìn)行處理，對于涂覆大型基板，需要大型的裝置，因此，在生產(chǎn)率和生產(chǎn)成本方面，應(yīng)用范圍受到限制。

另一方面，公開了可以通過濕法設(shè)置底涂層的聚硅氮烷溶液(國際公開第2010/038648號：專利文獻(xiàn)3)。利用了將聚硅氮烷溶液涂布到基材的表面后該聚硅氮烷溶液與水分反應(yīng)而轉(zhuǎn)化成二氧化硅玻璃。該方法在不使用真空工藝方面優(yōu)于干法，但是存在如下問題：為了穩(wěn)定拒水拒油層的密合性需要長時間的高溫加熱和加濕，因此在生產(chǎn)率和成本方面存在問題，可應(yīng)用的基材也受到限制。

再者，作為與本發(fā)明相關(guān)的現(xiàn)有技術(shù)，可舉出上述文獻(xiàn)以及以下的文獻(xiàn)。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特開2011-116947號公報

專利文獻(xiàn)2：國際公開第2014/097388號