[發明專利]拒水構件和拒水構件的制造方法

有效

• 申請號: 201880052758.6
• 申請日: 2018-06-12
• 公開（公告）號: CN111032337B
• 公開（公告）日: 2023-02-10
• 發明（設計）人: 山根祐治;片山理佐;酒匈隆介;松田高至
• 申請（專利權）人: 信越化學工業株式會社
• 主分類號: B32B9/00
• 分類號: B32B9/00;B05D1/36;B05D7/24;B32B27/00;C08G65/336;C09K3/18
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 杜麗利

1.拒水構件，其中，在基材的外表面上具有作為由選自水、甲醇和乙醇中的至少1種的溶劑與二氧化硅納米粒子組成的分散液的濕法涂布干燥膜的由平均粒徑0.1～10nm的二氧化硅納米粒子組成的膜厚1nm～5μm的二氧化硅層、或者作為由選自水、甲醇和乙醇中的至少1種的溶劑、二氧化硅納米粒子和該二氧化硅納米粒子以外的納米粒子組成的分散液的濕法涂布干燥膜的由50～99.9質量％的平均粒徑0.1～10nm的二氧化硅納米粒子和0.1～50質量％的選自氧化鈦、氧化錫、銀、鉑、銅、氧化鋁、氧化鈣、氧化鎂、氧化錳、氧化鎳、氧化鋯和多組分氧化物中的1種或2種以上的平均粒徑1～10nm的納米粒子組成的膜厚1nm～5μm的二氧化硅層，并且在該二氧化硅層的外表面上具有以含氟有機硅化合物的固化物為主成分的膜厚0.5～30nm的拒水拒油層。

2.根據權利要求1所述的拒水構件，其中，含氟有機硅化合物為具有至少一個水解性基團的含氟代氧化烯基的有機硅化合物。

3.根據權利要求1或2所述的拒水構件，其中，含氟有機硅化合物為選自由以下通式(1)、(2)、(3)、(4)和(5)表示的含氟水解性有機硅化合物中的至少一種，

(A-Rf)_α-ZW_β (1)

Rf-(ZW_β)₂ (2)

Z’-(Rf-ZW_β)_γ (3)

式中，Rf為-(CF₂)_d-O-(CF₂O)_p(CF₂CF₂O)_q(CF₂CF₂CF₂O)_r(CF₂CF₂CF₂CF₂O)_s(CF(CF₃)CF₂O)_t-(CF₂)_d-，p、q、r、s和t各自獨立地為0～200的整數，并且，p+q+r+s+t＝3～500，這些括弧內所示的各單元可無規地結合，d獨立地為0～8的整數，所述單元可以為直鏈狀，也可以為支鏈狀；A為氟原子、氫原子或者末端為-CF₃基、-CF₂H基或-CH₂F基的一價含氟基團，Z、Z'獨立地為單鍵或者可以含有氮原子、氧原子、硅原子、磷原子或硫原子、可以被氟取代的2價～8價的有機基團，W為在末端具有水解性基團的一價有機基團；α、β各自獨立地為1～7的整數，并且，α+β＝2～8；γ為2～8的整數；

A-Rf-Q-(Y)_δ-B (4)

Rf-(Q-(Y)_δ-B)₂ (5)

式中，Rf、A基團與上述相同，Q為單鍵或二價有機基團，δ為1～10的整數，Y為具有水解性基團的二價有機基團，B為氫原子，碳原子數1～4的烷基或鹵素原子。