[發明專利]加熱設備及具備其的烹飪設備有效
| 申請號: | 201880052561.2 | 申請日: | 2018-07-23 |
| 公開(公告)號: | CN111033128B | 公開(公告)日: | 2022-12-13 |
| 發明(設計)人: | 李政炫;崔盛皓 | 申請(專利權)人: | LG電子株式會社 |
| 主分類號: | A47J27/00 | 分類號: | A47J27/00;F24C7/08;F24C15/12;F24C7/06;F24C15/10 |
| 代理公司: | 隆天知識產權代理有限公司 72003 | 代理人: | 崔炳哲;向勇 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 加熱 設備 具備 烹飪 | ||
1.一種加熱設備,其中,包括:
罩體,在所述罩體的內部形成有容納空間,所述罩體的上部開放;
容器,插入于所述罩體的內部的容納空間,在所述容器的內部形成有用于容納流體的空間,所述容器的上部開放;
加熱部,對容納于所述容器的內部的流體進行加熱;以及
蓋,覆蓋所述罩體的開放的上部,
所述蓋包括:
蓋主體部,具有沿著前后方向延伸的長度和沿著左右方向延伸的寬度,所述蓋主體部以能夠在使所述罩體的上部開放的開放位置和使所述罩體的開放的上部關閉的關閉位置之間進行轉動的方式設置于所述罩體,所述蓋主體部在所述關閉位置覆蓋所述容器的開放的上部而密封所述容器;以及
引導凸起部,凸出設置于所述蓋主體部,并且以在所述關閉位置插入于所述容器的內部且在所述開放位置所述引導凸起部的至少一部分能夠位于所述容器的上部區域內的長度凸出,
所述蓋主體部包括蓋框架,所述蓋框架形成所述蓋的骨架并以能夠進行轉動的方式設置于所述罩體,
所述蓋框架包括框架主體部,所述框架主體部形成所述蓋框架的骨架,
所述容器包括上端彎折部,所述上端彎折部從所述容器的上端朝向與所述框架主體部平行的外側方向凸出,
所述蓋還包括第三密封構件,所述第三密封構件凸出設置于所述框架主體部的面向所述上端彎折部的內側面,并且在所述關閉位置緊貼于所述上端彎折部而對所述框架主體部和所述上端彎折部之間進行密封。
2.根據權利要求1所述的加熱設備,其中,
所述蓋主體部還包括:
外側蓋部,結合于所述蓋框架;以及
內側蓋部,以在所述關閉位置配置于所述外側蓋部的下部的方式結合于所述蓋框架。
3.根據權利要求2所述的加熱設備,其中,
所述外側蓋部形成為平板形狀,
在所述外側蓋部和所述內側蓋部之間,形成有由所述外側蓋部和所述內側蓋部圍繞而成的密閉空間。
4.根據權利要求3所述的加熱設備,其中,
所述內側蓋部包括:
平面部,形成與所述外側蓋部平行的平面,所述平面部與所述外側蓋部隔開規定間隔而配置,以在所述平面部和所述外側蓋部之間形成所述密閉空間;
側壁部,從所述平面部的邊緣朝向所述外側蓋部延伸,并且形成有從側部圍繞所述密閉空間的側壁;以及
延伸部,形成從所述側壁部朝向與所述外側蓋部平行的外側方向延伸的平面,并且以面接觸的方式緊貼于所述外側蓋部。
5.根據權利要求4所述的加熱設備,其中,
所述蓋框架還包括:
第一安置面,通過凹陷形成于所述框架主體部來形成用于安置所述外側蓋部的凹陷的平面;
貫通部,通過貫通形成于所述第一安置面的內側來形成能夠使所述平面部和所述側壁部穿過的通道;以及
第二安置面,配置在所述第一安置面和所述貫通部之間,通過凹陷形成于所述框架主體部來在所述第二安置面和所述第一安置面之間形成臺階,以形成用于安置所述延伸部的凹陷的平面。
6.根據權利要求5所述的加熱設備,其中,
所述蓋還包括:
第一密封構件,對所述外側蓋部和所述延伸部之間以及所述外側蓋部和所述第一安置面之間進行密封;以及
第二密封構件,對所述第二安置面和所述延伸部之間進行密封。
7.根據權利要求5所述的加熱設備,其中,
所述蓋還包括凸出條,
所述凸出條配置于所述蓋主體部的前方側,并且凸出設置于所述框架主體部的面向所述罩體的內側面,而且在所述關閉位置緊貼于所述罩體而在所述容器的前方形成阻斷壁。
8.根據權利要求7所述的加熱設備,其中,
所述蓋還包括磁性構件,
所述磁性構件設置于所述凸出條的內部,并且提供用于使所述凸出條緊貼于所述罩體的磁力。
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