[發(fā)明專利]處理液、試劑盒、基板的清洗方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201880052428.7
• 申請日: 2018-08-10
• 公開（公告）號: CN111033697B
• 公開（公告）日: 2023-10-10
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 高橋智威;上村哲也
• 申請（專利權(quán)）人: 富士膠片株式會社
• 主分類號: H01L21/304
• 分類號: H01L21/304;C11D7/32;C11D7/50;C11D17/08
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 蔣亭

1.一種處理液，其為半導(dǎo)體器件用處理液，包含：

水；

有機溶劑；及

2種以上的含氮芳香族雜環(huán)化合物。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理液，其中，

作為所述含氮芳香族雜環(huán)化合物，包含含氮芳香族雜環(huán)化合物A及含氮芳香族雜環(huán)化合物B，

所述含氮芳香族雜環(huán)化合物A為由下述通式(I)表示的化合物或由下述通式(IV)表示的化合物，

所述含氮芳香族雜環(huán)化合物B是選自以由下述通式(II)表示的化合物、由下述通式(III)表示的化合物及由下述通式(V)表示的化合物組成的組中的至少1種，

通式(I)中，R¹¹及R¹²分別獨立地表示氫原子、或者經(jīng)取代或未經(jīng)取代的烴基，R¹¹及R¹²任選彼此鍵合而形成環(huán)，

通式(II)中，R²¹及R²²分別獨立地表示氫原子、羥基、或者經(jīng)取代或未經(jīng)取代的烴基，

其中，在R²¹是氫原子的情況下，R²²表示經(jīng)取代或未經(jīng)取代的烴基，在R²¹是氫原子，R²²表示經(jīng)取代或未經(jīng)取代的烴基，且所述通式(I)中的R¹¹及R¹²彼此鍵合而形成苯環(huán)并且所述苯環(huán)具有取代基時，R²²與所述取代基表示不同的基團，

通式(III)中，R³¹及R³²分別獨立地表示氫原子、或者經(jīng)取代或未經(jīng)取代的烴基，

其中，在R³¹是氫原子的情況下，R³²表示經(jīng)取代或未經(jīng)取代的烴基，在R³¹是氫原子，R³²表示經(jīng)取代或未經(jīng)取代的烴基，且所述通式(I)中的R¹¹及R¹²彼此鍵合而形成苯環(huán)并且苯環(huán)具有取代基時，R³²與所述取代基表示不同的基團，

通式(IV)中，R⁴¹表示氫原子，R⁴²表示氫原子、羥基、巰基或氨基，

通式(IV)中，R⁵¹及R⁵²分別獨立地表示氫原子、或者經(jīng)取代或未經(jīng)取代的烴基，其中，R⁵¹及R⁵²中的至少一個表示經(jīng)取代或未經(jīng)取代的烴基。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的處理液，其中，

所述含氮芳香族雜環(huán)化合物A相對于所述含氮芳香族雜環(huán)化合物B的質(zhì)量含有比為2～30000。

4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的處理液，其中，

所述含氮芳香族雜環(huán)化合物B包含選自以由所述通式(II)表示的化合物、由所述通式(III)表示的化合物及由所述通式(V)表示的化合物組成的組中的2種化合物，

所述2種化合物的質(zhì)量比為1～10000。

5.根據(jù)權(quán)利要求2至4中任一項所述的處理液，其中，

所述含氮芳香族雜環(huán)化合物B的含量相對于所述處理液的總質(zhì)量為0.01質(zhì)量ppm～10000質(zhì)量ppm。

6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項所述的處理液，其還包含鈷離子。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的處理液，其中，

所述鈷離子是源自選自以氟化鈷、氯化鈷、氫氧化鈷、氧化鈷及硫酸鈷組成的組中的至少1種鈷離子源的鈷離子。

8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的處理液，其中，

所述含氮芳香族雜環(huán)化合物B相對于所述鈷離子的質(zhì)量含有比為1.0×10²～1.0×10⁶。