[發明專利]用于納米粒子生產的反應器

有效

• 申請號: 201880052374.4
• 申請日: 2018-09-05
• 公開（公告）號: CN111050898B
• 公開（公告）日: 2022-02-25
• 發明（設計）人: 金恩貞;崔峻源;鄭鎮美;林藝勛;辛富建
• 申請（專利權）人: 株式會社LG化學
• 主分類號: B01J6/00
• 分類號: B01J6/00;B01J19/12;B82Y40/00
• 代理公司: 北京鴻元知識產權代理有限公司 11327
• 代理人: 李琳;陳英俊

本發明涉及一種用于納米粒子生產的反應器，根據本發明的一個方面，提供一種用于納米粒子生產的反應器，包括：主腔室，其包括第一噴嘴，原料氣體被供應到第一噴嘴；透鏡殼體，其以流體能夠移動的方式連接到主腔室，并且包括用于向其中供應沖洗氣體的第二噴嘴；透鏡，其安裝在透鏡殼體上；光源，用于照射激光，使激光穿過透鏡以到達主腔室中的原料氣體；以及罩，其用于排出在主腔室中產生的納米粒子，其中，透鏡殼體設置成使得區域的至少一部分的橫截面積沿著面對主腔室的方向減小。

技術領域

本發明涉及一種用于納米粒子生產的反應器。

本申請要求基于2017年9月7日提交的韓國專利申請No.10-2017-0114288的優先權的權益，其全部公開內容通過引用并入本文。

背景技術

通常，激光熱解法是一種通過用激光照射原料使原料分解來形成納米粒子的方法。

通過使用激光熱解硅烷氣體(SiH₄)能夠合成硅納米粒子。在這樣的設備中，重要的是，沒有損失地較好地收集合成的納米粒子而，以提高生產率。

激光熱解反應設備配備有光學透鏡，激光束穿過該光學透鏡，如果透鏡被納米粒子污染，則有可能透鏡損壞。

為了防止這種情況，將透鏡安裝成與原料氣體流過的主腔室分隔開，并且用于防止納米粒子流入的沖洗氣體噴嘴設置在安裝透鏡的區域中。然而，常規反應器不能完全防止納米粒子流向透鏡側，從而透鏡被納米粒子污染，因此連續工作是不可能的。

發明內容

技術問題

本發明要解決的問題是提供一種能夠防止納米粒子流向透鏡側的用于納米粒子生產的反應器。

技術方案

為了解決上述問題，根據本發明的一個方面，提供一種用于納米粒子生產的反應器，包括：主腔室，所述主腔室包括第一噴嘴，原料氣體被供應到所述第一噴嘴；透鏡殼體，所述透鏡殼體以流體能夠移動的方式連接到所述主腔室，并且包括用于向其中供應沖洗氣體的第二噴嘴；透鏡，所述透鏡安裝在所述透鏡殼體上；光源，所述光源用于照射激光，使所述激光穿過所述透鏡到達所述主腔室中的所述原料氣體；以及罩，所述罩用于排出在所述主腔室中產生的納米粒子，其中，所述透鏡殼體設置成使得所述透鏡殼體的區域的至少一部分的橫截面積沿著面對所述主腔室的方向減小。

有益效果

如上所述，根據本發明的至少一個實施例的用于納米粒子生產的反應器具有以下效果。

配備有透鏡的透鏡殼體形成為具有朝向主腔室的方向減小的橫截面積，從而增加了透鏡殼體中的沖洗氣體的動量，因此，能夠防止納米粒子從主腔室流入透鏡殼體的透鏡中。

此外，通過使透鏡殼體的流動路徑彎曲，使得沖洗氣體流不直接接觸主腔室中的原料氣體流，能夠防止在透鏡殼體中加速的沖洗氣體干擾主腔室中的原料氣體流，由此防止納米粒子污染主腔室的內壁表面。

附圖說明

圖1和圖2是示出普通的用于納米粒子生產的反應器的示意圖。

圖3和圖4是示出圖1所示的用于納米粒子生產的反應器的主要部分立體圖。

圖5是示出圖3的反應器中的粒子軌跡的模擬結果。

圖6和圖7是示出根據本發明的第一實施例的用于納米粒子生產的反應器的主要部分立體圖。

圖8是示出圖6的反應器中的粒子軌跡的模擬結果。

圖9和圖10是示出根據本發明的第二實施例的用于納米粒子生產的反應器的主要部分立體圖。

圖11是示出圖9的反應器中的粒子軌跡的模擬結果。