[發明專利]用于納米粒子生產的反應器有效
| 申請號： | 201880052374.4 | 申請日： | 2018-09-05 |
| 公開（公告）號： | CN111050898B | 公開（公告）日： | 2022-02-25 |
| 發明（設計）人： | 金恩貞;崔峻源;鄭鎮美;林藝勛;辛富建 | 申請（專利權）人： | 株式會社LG化學 |
| 主分類號： | B01J6/00 | 分類號： | B01J6/00;B01J19/12;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 北京鴻元知識產權代理有限公司 11327 | 代理人： | 李琳;陳英俊 |
| 地址： | 韓國*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 納米 粒子 生產 反應器 | ||
1.一種用于納米粒子生產的反應器，包括：
主腔室，所述主腔室包括第一噴嘴，原料氣體被供應到所述第一噴嘴；
透鏡殼體，所述透鏡殼體以流體能夠移動的方式連接到所述主腔室，并且包括用于向其中供應沖洗氣體的第二噴嘴；
透鏡，所述透鏡安裝在所述透鏡殼體上；
光源，所述光源用于照射激光，使所述激光穿過所述透鏡到達所述主腔室中的所述原料氣體；以及
罩，所述罩用于排出在所述主腔室中產生的納米粒子，
其中，所述透鏡殼體設置成使得所述透鏡殼體的區域的至少一部分的橫截面積沿著面對所述主腔室的方向減小，
其中，所述透鏡殼體包括：第一區域，所述第一區域的橫截面積沿著面對所述主腔室的方向保持恒定；以及第二區域，所述第二區域從所述第一區域延伸到所述主腔室側并且具有減小的橫截面積，
其中，所述透鏡殼體還包括第三區域，所述第三區域從所述第二區域延伸并且所述第三區域的中心軸線不與所述第二區域的中心軸線同軸地定位。
2.根據權利要求1所述的用于納米粒子生產的反應器，其中，
所述透鏡設置在所述第一區域側。
3.根據權利要求1所述的用于納米粒子生產的反應器，其中，
所述第二噴嘴設置在所述第一區域側。
4.根據權利要求1所述的用于納米粒子生產的反應器，其中，
所述第一區域和所述第二區域設置成使得所述第一區域和所述第二區域的中心軸線同軸地定位。
5.根據權利要求1所述的用于納米粒子生產的反應器，其中，
所述透鏡殼體設置成使得所述第一區域的中心軸線與所述第一噴嘴的中心軸線正交，并且
所述第三區域相對于所述第一區域朝向所述第一噴嘴側向下傾斜。
6.根據權利要求5所述的用于納米粒子生產的反應器，其中，
所述光源設置成使得所述激光穿過所述第一區域到達所述第三區域而被照射到所述主腔室中。
7.根據權利要求1所述的用于納米粒子生產的反應器，其中，
所述光源設置成使得二氧化碳激光被照射，并且原料氣體包含甲硅烷。
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