[發明專利]脫模膜

在審

• 申請號: 201880052267.1
• 申請日: 2018-05-18
• 公開（公告）號: CN111051060A
• 公開（公告）日: 2020-04-21
• 發明（設計）人: 辻內直樹;中垣貴充
• 申請（專利權）人: 東麗薄膜先端加工股份有限公司
• 主分類號: B32B27/00
• 分類號: B32B27/00;B32B7/02;B32B7/023;B32B7/06;B32B27/36;B32B27/16;B32B33/00;B29C67/02;B29L7/00
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 楊宏軍

本發明的目的為提供脫模膜，其同時滿足：能夠適當地進行被轉印膜的缺陷檢查；脫模膜的識別性良好；耐溶劑性良好；以及加熱后的剝離性良好。為了實現該目的的本發明的脫模膜具有以下的構成。即，脫模膜，其為在基材膜的至少一個面具有脫模層的脫模膜，脫模膜的霧度值為1.5～8.0％，且上述脫模層為活性能量射線固化性組合物的固化層，上述活性能量射線固化性組合物包含具有碳原子數8以上的烷基的化合物。

技術領域

本發明涉及脫模膜。詳細而言，涉及在基材膜上具備由包含長鏈烷基化合物(具有碳原子數8以上的烷基的化合物)的活性能量射線固化性組合物的固化層形成的脫模層的脫模膜。

背景技術

脫模膜是出于對陶瓷電容器、硬盤驅動器、半導體裝置等精密電子設備的制造工序中使用的粘合劑層的表面進行保護的目的而使用的。另外，脫模膜也作為制造粘合片時的承載膜使用。進而，脫模膜作為將生坯片(green sheet)、光學用樹脂片、感光性樹脂片等成型時的承載膜使用。

在脫模膜中通常設置有以提高剝離性為目的的脫模層。

在脫模膜的脫模層中一般使用有機硅系化合物，但是，若在與精密電子設備等相關的用途中使用有機硅系化合物，則脫模層中所含的低分子量的有機硅系化合物會轉移至粘合劑層而殘留在精密電子設備中，有可能使精密電子設備產生故障。

基于此，已知有在脫模層中使用非有機硅系化合物的脫模膜，并且提出有使用長鏈烷基化合物作為非有機硅系化合物的方案(例如專利文獻1～6)。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2011-230289號公報

專利文獻2：日本特開2013-87239號公報

專利文獻3：日本特開2015-30795號公報

專利文獻4：日本特開2016-33173號公報

專利文獻5：日本特開2001-240775號公報

專利文獻6：日本特開2004-197050號公報

發明內容

發明要解決的課題

在使用脫模膜作為工序膜時，有時要求如以下那樣的性能。例如要求：1)能夠適當地進行形成于脫模膜上的被轉印膜的缺陷等的檢查；2)脫模膜的識別性良好(脫模膜是最終被剝離除去的物質，在視覺上能夠確認脫模膜是否已被剝離，即，能夠抑制忘記剝離脫模膜的情況)；3)耐溶劑性良好(形成于脫模膜上的被轉印膜的涂布液大多包含有機溶劑，因此耐溶劑性良好)；以及4)形成于脫模膜上的被轉印膜有時被加熱，即使在加熱后，剝離性也良好。

但是，前述的專利文獻1～6記載的技術不能同時解決所有的上述課題。

因此，本發明的目的在于提供下述這樣的脫模膜，其同時滿足：能夠適當地進行被轉印膜的缺陷檢查；脫模膜的識別性良好；耐溶劑性良好；以及加熱后的剝離性良好。

用于解決課題的手段

上述目的是通過以下的發明而實現的。

[1]脫模膜，其為在基材膜的至少一個面具有脫模層的脫模膜，上述脫模膜的霧度值為1.5～8.0％，且上述脫模層為活性能量射線固化性組合物的固化層，所述活性能量射線固化性組合物包含具有碳原子數8以上的烷基的化合物。

[2]根據[1]所述的脫模膜，其中，上述具有碳原子數8以上的烷基的化合物為在分子中包含烯鍵式不飽和基團和碳原子數8以上的烷基的化合物。

[3]根據[1]或[2]所述的脫模膜，其中，活性能量射線固化性組合物含有在分子中具有2～10個烯鍵式不飽和基團且不具有碳原子數8以上的烷基的化合物。