[發明專利]脫模膜在審
| 申請號： | 201880052267.1 | 申請日： | 2018-05-18 |
| 公開（公告）號： | CN111051060A | 公開（公告）日： | 2020-04-21 |
| 發明（設計）人： | 辻內直樹;中垣貴充 | 申請（專利權）人： | 東麗薄膜先端加工股份有限公司 |
| 主分類號： | B32B27/00 | 分類號： | B32B27/00;B32B7/02;B32B7/023;B32B7/06;B32B27/36;B32B27/16;B32B33/00;B29C67/02;B29L7/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律師事務所 11256 | 代理人： | 楊宏軍 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 脫模 | ||
1.脫模膜，其為在基材膜的至少一個面具有脫模層的脫模膜，所述脫模膜的霧度值為1.5～8.0％，且所述脫模層為活性能量射線固化性組合物的固化層，所述活性能量射線固化性組合物包含具有碳原子數8以上的烷基的化合物。
2.根據權利要求1所述的脫模膜，其中，所述具有碳原子數8以上的烷基的化合物為在分子中包含烯鍵式不飽和基團和碳原子數8以上的烷基的化合物。
3.根據權利要求1或2所述的脫模膜，其中，活性能量射線固化性組合物含有在分子中具有2～10個烯鍵式不飽和基團且不具有碳原子數8以上的烷基的化合物。
4.根據權利要求1～3中任一項所述的脫模膜，其常態剝離力(A)為1.5N/50mm以下，加熱剝離力(B)為2.0N/50mm以下，且所述常態剝離力與所述加熱剝離力之差(B-A)為1.3N/50mm以下。
5.根據權利要求1～4中任一項所述的脫模膜，其中，所述脫模層的表面自由能為20～35mJ/cm。
6.根據權利要求1～5中任一項所述的脫模膜，其中，基材膜的厚度小于50μm。
7.根據權利要求1～6中任一項所述的脫模膜，其中，基材膜為3層層疊結構。
8.脫模膜的制造方法，其為制造在基材膜的至少一個面具有脫模層的脫模膜的方法，所述脫模膜的霧度值為1.5～8.0％，且所述制造方法具有下述工序：通過對包含具有碳原子數8以上的烷基的化合物的組合物照射活性能量射線而制成固化層，從而形成所述脫模層。
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