[發明專利]金屬醇鹽化合物、薄膜形成用原料及薄膜的制造方法

在審

• 申請號: 201880052124.0
• 申請日: 2018-08-09
• 公開（公告）號: CN111032663A
• 公開（公告）日: 2020-04-17
• 發明（設計）人: 岡田奈奈;畑瀨雅子;西田章浩;櫻井淳
• 申請（專利權）人: 株式會社ADEKA
• 主分類號: C07F5/00
• 分類號: C07F5/00;C23C16/18;H01L21/31
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 賈成功

1.一種由下述通式(1)表示的金屬醇鹽化合物：

式中，R¹表示氫原子或者碳原子數1～4的烷基，R²表示異丙基、仲丁基、叔丁基、仲戊基、1-乙基丙基或者叔戊基，R³表示氫或者碳原子數1～4的烷基，R⁴表示碳原子數1～4的烷基，M表示鈧原子、釔原子、鑭原子、鈰原子、鐠原子、釹原子、钷原子、釤原子、銪原子、釓原子、鋱原子、鏑原子、鈥原子、鉺原子、銩原子、鐿原子或者镥原子，n表示由M表示的原子的價數，其中，在M為鑭原子的情況下，R²為仲丁基、叔丁基、仲戊基、1-乙基丙基或者叔戊基。

2.一種薄膜形成用原料，其含有根據權利要求1所述的金屬醇鹽化合物。

3.一種薄膜的制造方法，是在基體的表面制造薄膜的方法，所述薄膜含有選自鈧原子、釔原子、鑭原子、鈰原子、鐠原子、釹原子、钷原子、釤原子、銪原子、釓原子、鋱原子、鏑原子、鈥原子、鉺原子、銩原子、鐿原子和镥原子中的至少一種原子，該方法包含下述工序：將通過使權利要求2所述的薄膜形成用原料氣化而得到的含有所述化合物的蒸氣導入到處理氣氛、使該化合物分解和/或化學反應而在所述基體的表面沉積。