[發明專利]振動隔離系統和光刻設備有效
| 申請號: | 201880051616.8 | 申請日: | 2018-07-02 |
| 公開(公告)號: | CN110998451B | 公開(公告)日: | 2022-05-03 |
| 發明(設計)人: | 弗朗西斯庫斯·瑪麗亞·喬安妮斯·林森;休伯圖斯·雷尼爾·馬麗亞·范里羅普 | 申請(專利權)人: | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20;F16C33/74 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 張啟程 |
| 地址: | 荷蘭維*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 振動 隔離 系統 光刻 設備 | ||
本發明涉及一種振動隔離系統(IS),其包括支撐件(10)、前向致動器(20)和返回裝置(40)。支撐件用于將主體(2)支撐到基座(1)上。支撐件具有主體接合表面(12)和基座接合表面(11)。基座接合表面布置為聯接至基座。支撐件在聯接狀態中使主體接合表面聯接到主體。支撐件在非聯接狀態下使主體接合表面與主體分離。前向致動器在聯接狀態下使主體和主體接合表面一起相對于基座沿第一方向從第一初始位置移動到終點位置。返回裝置被配置為在非聯接狀態下使主體接合表面相對于主體與第一方向反向地從終點位置移動到第二初始位置。
相關申請的交叉引用
本申請要求于2017年8月8日提交的歐洲申請EP 17185209.8的優先權,該歐洲申請的全部內容以引用的方式并入本文中。
技術領域
本發明涉及一種振動隔離系統和包括該振動隔離系統的光刻設備。
背景技術
光刻設備是一種將所需圖案施加到襯底上(通常在襯底的目標部分上)的機器。例如,光刻設備可以用于集成電路(IC)的制造中。在這種情況下,可以將可替代地稱為掩模或掩模版的圖案形成裝置用于生成待形成于集成電路的單個層上的電路圖案。可以將該圖案轉印到襯底(例如硅晶片)的目標部分(例如包括管芯的一部分、一個或更多個管芯)上。通常,通過將圖案成像到設置在襯底上的輻射敏感材料(抗蝕劑)層上進行圖案的轉印。通常,單個襯底將包含被連續形成圖案的相鄰目標部分的網絡?,F有的光刻設備包括所謂的步進器,其中通過將整個圖案一次性地曝光到目標部分上來照射每個目標部分,以及包括所謂的掃描器,其中通過利用在給定方向(“掃描”方向)上的輻射束掃描圖案的同時,同步地掃描與該方向平行或反平行的襯底,來照射每個目標部分。還可以通過將圖案壓印到襯底上而將圖案從圖案形成裝置轉印到襯底。
在光刻設備中,必須非常精確地定位一些部件,以便在襯底上獲得所需的圖案質量,例如在聚焦和位置方面。這樣的部件例如是投影系統的光學元件,其將圖案化的輻射束投影到襯底上,以及例如是傳感器的元件,其監視例如襯底支撐件或投影系統的光學元件的位置。
諸如光學元件和傳感器元件的位置敏感元件通常位于光刻設備內部的深處。通常,這種位置敏感元件由振動隔離系統支撐,以防止來自周圍的振動降低位置敏感元件的位置精度。位置敏感元件通常設置有位置調整器,該位置調整器允許對位置敏感元件的位置進行小的調整,例如,以補償熱膨脹。但是,可以調整的位置的范圍相對較小。如果必須對位置進行較大的調整(例如在光刻設備的初始化期間),則必須打開光刻機,有時甚至部分地拆卸該光刻機,以便調整特定元件的位置。當相關元件位于真空室中時,這尤其麻煩且耗時。
發明內容
期望提供一種用于支撐主體的振動隔離系統,該主體相對于基座可以移動的范圍被增大。
根據本發明的實施例,提供了一種振動隔離系統,所述振動隔離系統被布置為用于將主體支撐在基座上,所述振動隔離系統包括:
-支撐件,所述支撐件用于將所述主體支撐在所述基座上,其中,所述支撐件具有主體接合表面和基座接合表面,
其中,所述基座接合表面被布置為聯接至所述基座,
其中,所述支撐件被布置為在聯接狀態下使所述主體接合表面聯接至所述主體,
其中,所述支撐件布置為在非聯接狀態下使所述主體接合表面與所述主體解除聯接;
-前向致動器,所述前向致動器被配置為在聯接狀態下使所述主體和所述主體接合表面一起相對于所述基座沿第一方向從第一初始位置移動到終點位置,
-返回裝置,所述返回裝置被配置為在非聯接狀態下使所述主體接合表面相對于所述主體與所述第一方向反向地從所述終點位置移動到第二初始位置。
在本發明的另一個實施例中,提供了一種光刻設備,該光刻設備包括根據本發明的振動隔離系統。
附圖說明
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