[發(fā)明專利]振動隔離系統(tǒng)和光刻設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201880051616.8
• 申請日: 2018-07-02
• 公開（公告）號: CN110998451B
• 公開（公告）日: 2022-05-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 弗朗西斯庫斯·瑪麗亞·喬安妮斯·林森;休伯圖斯·雷尼爾·馬麗亞·范里羅普
• 申請（專利權(quán)）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;F16C33/74
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 張啟程

1.一種振動隔離系統(tǒng)，所述振動隔離系統(tǒng)被布置為用于將主體支撐在基座上，所述振動隔離系統(tǒng)包括：

-支撐件，所述支撐件用于將所述主體支撐在所述基座上，其中，所述支撐件具有主體接合表面和基座接合表面，

其中，所述基座接合表面被布置為聯(lián)接至所述基座，

其中，所述支撐件被布置為在聯(lián)接狀態(tài)下使所述主體接合表面聯(lián)接至所述主體，

其中，所述支撐件布置為在非聯(lián)接狀態(tài)下使所述主體接合表面與所述主體解除聯(lián)接；

-前向致動器，所述前向致動器被配置為在聯(lián)接狀態(tài)下使所述主體和所述主體接合表面一起相對于所述基座沿第一方向從第一初始位置移動到終點(diǎn)位置，

-返回裝置，所述返回裝置被配置為在非聯(lián)接狀態(tài)下使所述主體接合表面相對于所述主體與所述第一方向反向地從所述終點(diǎn)位置移動到第二初始位置。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的振動隔離系統(tǒng)，其中，與所述終點(diǎn)位置到所述第一初始位置相比，所述第二初始位置更接近所述第一初始位置。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的振動隔離系統(tǒng)，包括主體保持器，所述主體保持器被布置為在非聯(lián)接狀態(tài)下支撐所述主體，其中，所述主體保持器被布置為在非聯(lián)接狀態(tài)下使所述主體和所述基座的位置相對于彼此固定，并且其中，所述主體保持器被布置為在聯(lián)接狀態(tài)下允許所述主體相對于所述基座沿所述第一方向移動。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的振動隔離系統(tǒng)，包括控制器，所述控制器被配置為在操作周期中隨后：

-使所述支撐件進(jìn)入所述聯(lián)接狀態(tài)，

-然后，激活所述前向致動器，以使所述主體和所述主體接合表面一起在所述第一方向上相對于所述基座從所述第一初始位置移動到所述終點(diǎn)位置，

-然后，使所述支撐件進(jìn)入所述非聯(lián)接狀態(tài)，

-然后，激活所述返回裝置，以使所述主體接合表面相對于所述主體與所述第一方向反向地從所述終點(diǎn)位置移動到所述第二初始位置。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的振動隔離系統(tǒng)，其中，所述返回裝置包括柔性桿，所述柔性桿連接至所述主體接合表面或設(shè)置有所述主體接合表面。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的振動隔離系統(tǒng)，其中，所述支撐件包括活塞和活塞殼體，其中，所述活塞被布置在所述活塞殼體中，其中，所述活塞殼體被連接至所述基座接合表面或包括所述基座接合表面，并且其中，所述活塞被連接至所述主體接合表面。

7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的振動隔離系統(tǒng)，其中，所述返回裝置包括返回致動器。

8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的振動隔離系統(tǒng)，其中，所述返回裝置被配置為在與所述第一方向反向地移動所述主體接合表面之前使所述主體接合表面遠(yuǎn)離所述主體移動。

9.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的振動隔離系統(tǒng)，包括顆粒防護(hù)罩，所述顆粒防護(hù)罩圍繞所述主體接合表面的圓周延伸。

10.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的振動隔離系統(tǒng)，其中，所述主體接合表面和所述基座接合表面能夠相對于彼此垂直于所述第一方向移動。

11.根據(jù)權(quán)利要求4所述的振動隔離系統(tǒng)，其中，所述控制器被配置為順序地執(zhí)行多個(gè)操作周期。

12.一種光刻設(shè)備，包括根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的振動隔離系統(tǒng)。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的光刻設(shè)備，包括光學(xué)元件和傳感器元件中的至少一者，并且其中，所述主體包括所述光學(xué)元件和所述傳感器元件中的至少一者。

14.根據(jù)權(quán)利要求12或13所述的光刻設(shè)備，

其中，所述光刻設(shè)備還包括配置為將圖案化的輻射束投影到襯底上的投影系統(tǒng)，

其中，所述基座被配置為支撐所述投影系統(tǒng)的至少一部分，并且其中，所述主體包括所述投影系統(tǒng)的所述部分。

15.根據(jù)權(quán)利要求12或13所述的光刻設(shè)備，其中，所述光刻設(shè)備還包括真空室，并且其中，所述主體被布置在所述真空室中。