[發明專利]表面改質裝置

有效

• 申請號: 201880051475.X
• 申請日: 2018-08-07
• 公開（公告）號: CN110997127B
• 公開（公告）日: 2021-12-21
• 發明（設計）人: 杉村智;小木曾智;櫻井行平;吉田純也;森下貴生
• 申請（專利權）人: 春日電機株式會社
• 主分類號: B01J19/08
• 分類號: B01J19/08;H05H1/24
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 張思寶

【技術問題】提供一種表面改質裝置，其能夠在保持置換氣體的供給量較少的同時實現目標表面改質。【解決手段】表面改質裝置在放電電極(6)與相對電極(4)之間形成放電區域(E1)，并且向放電區域(E1)供給置換氣體來對處理基材的表面進行改質，其中，表面改質裝置包括：狹縫狀的置換氣體通路；罩部件(7、8)，其利用該罩部件與放電電極之間的相對間隙形成氣幕用通路(22、23)；向放電區域(E1)供給置換氣體，同時利用從氣幕用通路(22、23)噴射的氣體防止伴隨流(a)的流入和置換氣體的流出(b1、b2)，維持放電區域(E1)內的置換氣體濃度。

技術領域

本發明涉及一種利用放電能量對處理基材的表面進行改質的表面改質裝置。

背景技術

作為這種表面改質裝置，已知有具有設于電極室中的放電電極和與該放電電極相對的相對電極的表面改質裝置。而且，向電極室內供給對應于表面改質目的的置換氣體，在將電極室內保持為置換氣體的環境的同時對放電電極施加電壓，在放電電極與相對電極之間產生放電。

而且，利用所述放電能量將插入兩個電極之間的處理基板的表面改質。

在這樣的表面改質裝置中，放電區域的置換氣體的種類和濃度影響處理基材表面的改質狀態。

對置換氣體的種類和濃度的管理很重要，由于置換氣體的種類是預先決定的，故而只要確保選擇適當，就不是什么問題。

然而，氣體濃度即使在放電中也容易因為空氣自腔室外的流入而受到影響。

因此，為了保持電極腔室內的置換氣體的濃度在一定以上，不得不增加向電極腔室內供給的置換氣體的供給量。而且，一般來說，用于表面改質的置換氣體的價格很高，因此耗費成本，生產效率也會變差。

因此，為了抑制置換氣體的消耗量，已知有向放電電極與相對電極之間的放電區域這樣的局部部位直接供給置換氣體的方法(參照專利文獻1、2)。

例如，在圖6所示的裝置中，在放電電極1上形成沿著其長度方向的狹縫狀的氣體通路2，并將供給置換氣體的氣體供給管3與該氣體通路2連接。并且，利用成為相對電極的處理輥4輸送薄膜F，并從氣體通路2向該薄膜F噴射置換氣體。這樣，能夠向放電電極1與處理輥4的相對部分即放電區域直接供給置換氣體，故而容易將該局部的置換氣體的濃度保持一定。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：(日本)特公平06-0020830號公報

專利文獻2：(日本)特開2001-131313號公報

發明內容

發明所要解決的技術問題

如上所述，通過局部地供給置換氣體，能夠將該局部的置換氣體的濃度保持在某一定水平以上。

但是，處理輥4所輸送的薄膜F如波浪線箭頭所示那樣伴有外界氣體，因此，由于該伴隨流a，隨著離開氣體通路2，置換氣體濃度無論如何都會下降。這樣，如果在置換氣體濃度下降或者混合了例如氧等外界氣體成分的狀態下放電，還有可能不能對薄膜F進行目標改質處理。

為了不受這樣的伴隨流a的影響，可考慮如雙點劃線所示，用電極腔室5包圍放電電極1，使該電極腔室5內的置換氣體濃度較高地維持一定程度。這樣，如果向電極腔室5內供給置換氣體，則能夠較高地維持放電電極1周圍的置換氣體濃度，因此，即使流入伴隨流a，也能夠抑制對放電區域的置換氣體濃度的影響。

但是，如果向電極腔室5內供給置換氣體，則無法解決置換氣體的消耗量變多的問題。

用于解決技術問題的手段

本發明的目的在于提供一種能夠在減少置換氣體的供給量的同時穩定地進行目標改質處理的表面改質裝置。