[發明專利]表面改質裝置有效
| 申請號： | 201880051475.X | 申請日： | 2018-08-07 |
| 公開（公告）號： | CN110997127B | 公開（公告）日： | 2021-12-21 |
| 發明（設計）人： | 杉村智;小木曾智;櫻井行平;吉田純也;森下貴生 | 申請（專利權）人： | 春日電機株式會社 |
| 主分類號： | B01J19/08 | 分類號： | B01J19/08;H05H1/24 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律師事務所 11105 | 代理人： | 張思寶 |
| 地址： | 日本神*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 表面 裝置 | ||
1.一種表面改質裝置，該表面改質裝置向在放電電極與相對電極之間形成的放電區域供給置換氣體，利用放電能量對處理基材的表面進行處理，所述放電電極在所述處理基材的寬度方向上具備長度，且由一個或多個電極部件構成，所述相對電極與所述放電電極相對，其中，
所述表面改質裝置具有：
置換氣體通路，其沿著所述放電電極朝向所述放電區域噴射置換氣體；
由絕緣材料構成的罩部件，其沿著所述放電電極，并且與所述放電電極之間保持相對間隙；
狹縫狀的氣幕通路，其由所述罩部件與所述放電電極之間的相對間隙構成；
支承部件，其被所述電極部件和所述罩部件夾持，并且形成有與所述氣幕通路連通的氣體誘導孔；
所述罩部件以向形成在所述放電電極與所述相對電極之間的放電區域中進入的所述處理基材的移動方向為基準，設置在所述放電電極的上游側及下游側中的任一方或雙方，
構成為經由所述氣體誘導孔向所述氣幕通路供給氣幕用氣體。
2.一種表面改質裝置，該表面改質裝置向在放電電極與相對電極之間形成的放電區域供給置換氣體，利用放電能量對處理基材的表面進行處理，所述放電電極在所述處理基材的寬度方向上具備長度，且由一個或多個電極部件構成，所述相對電極與所述放電電極相對，其中，
所述表面改質裝置具有：
置換氣體通路，其沿著所述放電電極朝向所述放電區域噴射置換氣體；
由絕緣材料構成的罩部件，其沿著所述放電電極，并且與所述放電電極之間保持相對間隙；
狹縫狀的氣幕通路，其由所述罩部件與所述放電電極之間的相對間隙構成；
支承部件，其被所述電極部件和所述罩部件夾持，并且形成有與所述氣幕通路連通的氣體誘導孔；
保持件，其夾持所述罩部件、所述支承部件和所述放電電極；
所述罩部件、所述放電電極及所述支承部件被所述保持件夾持，
所述罩部件以向形成在所述放電電極與所述相對電極之間的放電區域中進入的所述處理基材的移動方向為基準，設置在所述放電電極的上游側及下游側中的任一方或雙方，
構成為經由所述氣體誘導孔向所述氣幕通路供給氣幕用氣體。
3.如權利要求1或2所述的表面改質裝置，其中，
所述放電電極由一個電極部件構成，
在該電極部件內，形成有一個或多個沿著其長度方向的狹縫狀的所述置換氣體通路，構成為向該置換氣體通路供給所述置換氣體。
4.如權利要求1或2所述的表面改質裝置，其中，
所述放電電極由在與其長度方向交叉的方向上保持相對間隙配置的多個電極部件構成，
構成為將所述相對間隙設為狹縫狀的所述置換氣體通路，向該置換氣體通路供給所述置換氣體。
5.如權利要求4所述的表面改質裝置，其中，
相鄰的所述電極部件夾持支承部件而相對，
在所述支承部件上形成有與所述氣體通路連通的氣體誘導孔，構成為經由該氣體誘導孔向所述置換氣體通路供給所述置換氣體。
6.如權利要求1或2所述的表面改質裝置，其中，
所述氣幕通路兼作置換氣體通路，構成為向所述氣幕通路供給所述置換氣體。
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